以碲粉和鎳片作為反應(yīng)物采用熱蒸發(fā)法制備了鎳碲化合物（NiTe_x）薄膜。通過(guò)改變反應(yīng)時(shí)間獲得了不同化學(xué)計(jì)量比的NiTe_x薄膜,通過(guò)X射線(xiàn)衍射（XRD）對(duì)產(chǎn)物進(jìn)行了表征,研究發(fā)現(xiàn)反應(yīng)時(shí)間的延長(zhǎng)使得NiTe向NiTe₂相轉(zhuǎn)變,其演變規(guī)律為T(mén)e→NiTe→NiTe+NiTe₂→NiTe₂。研究結(jié)果表明,NiTe和NiTe₂共存的薄膜的電導(dǎo)率更高,光電特性更好,有望在太陽(yáng)能電池中得到應(yīng)用。 

【文章來(lái)源】：黑龍江大學(xué)工程學(xué)報(bào). 2020,11(03)

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【部分圖文】：

NiTex薄膜的制備裝置

對(duì)NiTex進(jìn)行了XRD表征,其結(jié)果見(jiàn)圖2。保溫時(shí)間為0 min 所制備的樣品S1的XRD圖譜見(jiàn)圖2(a),圖2(a)中2θ為30.90°, 33.45°,43.04°, 46.25°, 56.30°, 58.29°,64.76°,70.19°,76.08°和 77.14°的衍射峰的峰位及相對(duì)強(qiáng)度與標(biāo)準(zhǔn)的卡片(JCPDS 65-9466)一致,并且未出現(xiàn)其他雜峰,說(shuō)明該條件下生成了NiTe薄膜。保溫時(shí)間為30 min所獲得的樣品S2的XRD圖譜見(jiàn)圖2(b),由圖2(b)可見(jiàn),除了NiTe(*標(biāo)注)的衍射峰外,在2θ為27.35°, 32.14°, 34.84°, 44.18°, 47.15°, 51.93°, 57.20°, 58.29°, 66.12°,71.86°,78.22°的位置出現(xiàn)了新的衍射峰,衍射峰的峰位及相對(duì)強(qiáng)度與標(biāo)準(zhǔn)的卡片(JCPDS 88-2278)一致,即出現(xiàn)了NiTe2的衍射峰,該條件下獲得了NiTe相和NiTe2相兩相共存的混合薄膜,這說(shuō)明隨著反應(yīng)時(shí)間的延長(zhǎng)NiTe在向 Ni2Te轉(zhuǎn)變。保溫時(shí)間為60 min所獲得的樣品S3的XRD圖譜見(jiàn)圖2(c),由圖2(c)可見(jiàn),當(dāng)繼續(xù)延長(zhǎng)保溫時(shí)間達(dá)到60 min時(shí),NiTe的衍射峰完全消失,并且不存在其它雜峰,僅有NiTe2相。這說(shuō)明隨著保溫時(shí)間的延長(zhǎng),NiTe完全轉(zhuǎn)變?yōu)镹iTe2相。綜上所述,隨著保溫時(shí)間的延長(zhǎng),NiTex薄膜的相變規(guī)律為T(mén)e→NiTe→NiTe+NiTe2→ NiTe2。圖3 NiTex薄膜I-V特性曲線(xiàn)

NiTex薄膜I-V特性曲線(xiàn)

【參考文獻(xiàn)】：
期刊論文
[1]不同量鎳摻雜對(duì)錳氧化物選擇性催化還原NO活性的影響[J]. 陳利強(qiáng),孫麗娜,朱明霞,陳麗華,歷亳,胡冬慧,劉立紅,袁福龍.  黑龍江大學(xué)工程學(xué)報(bào). 2018(04)
[2]焙燒溫度對(duì)鎳錳鈦氧化物選擇催化還原NO活性的影響[J]. 陳利強(qiáng),孫晶,劉立紅,劉冬影,歷亳,袁福龍.  黑龍江大學(xué)工程學(xué)報(bào). 2018(02)



本文編號(hào)：3373557