離子束濺射制備Ta 2 O 3 /SiO 2 薄膜的應(yīng)力特性研究
發(fā)布時間:2021-04-12 14:02
薄膜應(yīng)力存在于幾乎所有的薄膜系統(tǒng)中。在普通光學(xué)元件鍍膜中,薄膜應(yīng)力會導(dǎo)致鏡面面形發(fā)生向下凹或者向上凸的變化,應(yīng)力較大時還會與基底產(chǎn)生失配而導(dǎo)致薄膜出現(xiàn)裂紋或者鼓泡脫落等現(xiàn)象。而自適應(yīng)光學(xué)系統(tǒng)中核心器件-變形反射鏡由于鏡面為異型結(jié)構(gòu),鍍膜后的應(yīng)力不僅會導(dǎo)致鏡面面型發(fā)生凹凸變化,還會由于背面的驅(qū)動器結(jié)構(gòu)引入高階像差,從而降低了變形鏡的光束質(zhì)量校正能力,影響光束傳輸過程中能量的分布,給系統(tǒng)中其他光學(xué)元件帶來損傷隱患;瘜W(xué)氧碘激光器系統(tǒng)中的變形反射鏡鏡面鍍膜采用離子束濺射鍍膜技術(shù),因為離子束濺射制備的高反膜散射低,吸收小,反射率高,而且制備溫度低,適用于變形反射鏡鍍膜。但是離子濺射技術(shù)制備的薄膜具有很大的殘余應(yīng)力,而且均為同一方向的壓應(yīng)力,因此只能通過改進工藝來減小鍍膜后的應(yīng)力。本文采用離子束濺射制備了Ta2O5、SiO2的單層膜和Ta2O5/SiO2高反膜,對其應(yīng)力特性進行了測試分析。在離子束濺射鍍膜過程中,通過改變離子源的束壓、充氧量和基板溫度等工藝條件,制備...
【文章來源】:中國科學(xué)院大學(xué)(中國科學(xué)院光電技術(shù)研究所)四川省
【文章頁數(shù)】:70 頁
【學(xué)位級別】:碩士
【部分圖文】:
Spector離子束濺射鍍膜機整體結(jié)構(gòu)圖
包絡(luò)線法的示意圖
圖3-1張應(yīng)力與壓應(yīng)力
【參考文獻】:
期刊論文
[1]Ta2O5材料光學(xué)常數(shù)的擬合及其應(yīng)用(英文)[J]. 莊秋慧,劉國軍,付秀華. 激光與光電子學(xué)進展. 2015(09)
[2]光譜法確定離子束濺射Ta2O5/SiO2薄膜的光學(xué)常數(shù)及其性能[J]. 尚鵬,熊勝明,李凌輝,田東. 光學(xué)學(xué)報. 2014(05)
[3]基于Kirchhoff動力學(xué)比擬理論的柔性管件維修可視化[J]. 焦玉民,王強,徐婷,謝慶華. 中國機械工程. 2014(04)
[4]基于Kramers-Kronig關(guān)系對薄膜材料光學(xué)特征的數(shù)值反演[J]. 王明軍,吳振森,李應(yīng)樂,向?qū)庫o. 紅外與激光工程. 2010(01)
[5]氧離子束流密度對Ta2O5薄膜的影響[J]. 趙靖,張永愛,袁軍林,郭太良. 真空. 2009(04)
[6]基于最小勢能原理的懸臂梁彎曲研究[J]. 徐杏華. 陜西理工學(xué)院學(xué)報(自然科學(xué)版). 2009(01)
[7]X射線衍射技術(shù)在薄膜殘余應(yīng)力測量中的應(yīng)用[J]. 楊帆,費維棟,蔣建清. 功能材料. 2007(11)
[8]彈性力學(xué)基本方程弱形式[J]. 劉長春,呂和祥. 大連理工大學(xué)學(xué)報. 2007(05)
[9]橢偏儀的原理和應(yīng)用[J]. 余平,張晉敏. 合肥學(xué)院學(xué)報(自然科學(xué)版). 2007(01)
[10]薄膜應(yīng)力測量研究現(xiàn)狀[J]. 徐鵬,張萌. 科技廣場(管理科學(xué)). 2006(12)
本文編號:3133426
【文章來源】:中國科學(xué)院大學(xué)(中國科學(xué)院光電技術(shù)研究所)四川省
【文章頁數(shù)】:70 頁
【學(xué)位級別】:碩士
【部分圖文】:
Spector離子束濺射鍍膜機整體結(jié)構(gòu)圖
包絡(luò)線法的示意圖
圖3-1張應(yīng)力與壓應(yīng)力
【參考文獻】:
期刊論文
[1]Ta2O5材料光學(xué)常數(shù)的擬合及其應(yīng)用(英文)[J]. 莊秋慧,劉國軍,付秀華. 激光與光電子學(xué)進展. 2015(09)
[2]光譜法確定離子束濺射Ta2O5/SiO2薄膜的光學(xué)常數(shù)及其性能[J]. 尚鵬,熊勝明,李凌輝,田東. 光學(xué)學(xué)報. 2014(05)
[3]基于Kirchhoff動力學(xué)比擬理論的柔性管件維修可視化[J]. 焦玉民,王強,徐婷,謝慶華. 中國機械工程. 2014(04)
[4]基于Kramers-Kronig關(guān)系對薄膜材料光學(xué)特征的數(shù)值反演[J]. 王明軍,吳振森,李應(yīng)樂,向?qū)庫o. 紅外與激光工程. 2010(01)
[5]氧離子束流密度對Ta2O5薄膜的影響[J]. 趙靖,張永愛,袁軍林,郭太良. 真空. 2009(04)
[6]基于最小勢能原理的懸臂梁彎曲研究[J]. 徐杏華. 陜西理工學(xué)院學(xué)報(自然科學(xué)版). 2009(01)
[7]X射線衍射技術(shù)在薄膜殘余應(yīng)力測量中的應(yīng)用[J]. 楊帆,費維棟,蔣建清. 功能材料. 2007(11)
[8]彈性力學(xué)基本方程弱形式[J]. 劉長春,呂和祥. 大連理工大學(xué)學(xué)報. 2007(05)
[9]橢偏儀的原理和應(yīng)用[J]. 余平,張晉敏. 合肥學(xué)院學(xué)報(自然科學(xué)版). 2007(01)
[10]薄膜應(yīng)力測量研究現(xiàn)狀[J]. 徐鵬,張萌. 科技廣場(管理科學(xué)). 2006(12)
本文編號:3133426
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