隨著薄膜技術(shù)的日益發(fā)展,光學(xué)薄膜的應(yīng)用愈來愈廣泛。光學(xué)薄膜主要應(yīng)用于日常生活、精密儀器和航空航天設(shè)備等多個(gè)方面,其中紅外光學(xué)薄膜的應(yīng)用面臨復(fù)雜的環(huán)境變化,薄膜性能受溫度變化作用明顯。光學(xué)薄膜的力學(xué)特性和光學(xué)特性改變會(huì)影響薄膜元件可靠性和穩(wěn)定性,因此本文主要研究溫度變化對光學(xué)薄膜應(yīng)力特性和光學(xué)特性的影響。光學(xué)薄膜主要通過真空高溫的物理氣相沉積法制備,這類非平衡制備方式導(dǎo)致薄膜性能受應(yīng)力影響。本文首先介紹了應(yīng)力的基本分類,著重研究了由于薄膜和基片熱失配引起的熱應(yīng)力,基于橋梁彎曲模型和位移協(xié)調(diào)理論,建立了熱應(yīng)力模型,計(jì)算得到了多層薄膜的水平應(yīng)變、彎曲應(yīng)變和熱應(yīng)力的分布情況。當(dāng)薄膜厚度遠(yuǎn)小于基底厚度時(shí),在詳細(xì)推導(dǎo)的基礎(chǔ)上給出了多層薄膜間的熱應(yīng)力簡化計(jì)算公式,結(jié)合長波紅外窄帶濾光片實(shí)例,分析了多層膜間的熱應(yīng)力數(shù)值大小和分布情況。本文還研究了溫度變化對常用紅外單層膜的性能影響,利用電子束蒸發(fā)沉積的SiO₂和Si薄膜,研究溫度變化分別對其應(yīng)力大小和光學(xué)特性的影響。結(jié)果發(fā)現(xiàn),單層薄膜SiO₂和Si隨著膜層厚度從0.5μm到2μm的不斷增加,應(yīng)力值不斷減小;另... 

【文章來源】：中國科學(xué)院大學(xué)(中國科學(xué)院上海技術(shù)物理研究所)上海市

【文章頁數(shù)】：76 頁

【學(xué)位級別】：碩士

【部分圖文】：

波段分布圖

紅外濾光片的溫度漂移Figure1.2Diagramoftemperaturedriftofinfraredfilter

MgF2薄膜真空中折射率n變化

【參考文獻(xiàn)】：
期刊論文
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博士論文
[1]紅外雙色濾光片的研制及其低溫光譜研究[D]. 蔡淵.中國科學(xué)院大學(xué)(中國科學(xué)院上海技術(shù)物理研究所) 2017



本文編號：3082450