Al-N共摻雜ZnO薄膜的制備及其光電性質(zhì)的研究
【學(xué)位單位】:哈爾濱工業(yè)大學(xué)
【學(xué)位級(jí)別】:碩士
【學(xué)位年份】:2017
【中圖分類】:TQ132.41;TB383.2
【部分圖文】:
圖 1-2 富 Zn 和富 O 條件下 ZnO 中各點(diǎn)缺陷的形成能[8]族元素?fù)诫s元素主要是 Li、Na、K。Ⅰ族元素原子最外層只有一個(gè)電子,入 ZnO 后替代 Zn的位置形成受主[44]。表 1-2 為Ⅰ族元素原子表 1-2 Ⅰ族元素?fù)饺?ZnO 后原子的化合價(jià)和離子半徑原素 化合價(jià) 離子半徑(Zn +2 0.60Li +1 0.59Na +1 0.97K +1 1.33研究者利用理論方法分析了ⅠA 族元素的摻雜[9,10],并制備計(jì)算結(jié)果表明摻入 Li、Na、K 后可以在氧化鋅中形成較淺的受
在單受主摻雜方面,研究人員研究的最多的是Ⅴ族(P)、砷(As)元素。Ⅴ族元素最外層有 5 個(gè)電子,理論位,形成受主能級(jí),從價(jià)帶得到一個(gè)電子形成 p 型摻理論計(jì)算得到的Ⅴ族元素?fù)诫s到氧化鋅后的體系參數(shù) Ⅴ族元素?fù)诫s ZnO 形成受主時(shí)的鍵長(zhǎng)、受主能級(jí)位置和形成鍵長(zhǎng)( ) 受主能級(jí)(eV) 形成能1.88 0.40 0.2.18 0.93 0.2.23 1.15 0.以看出,在Ⅴ族元素中,N 形成的受主能級(jí)最淺,實(shí)驗(yàn)位于價(jià)帶頂 100~300 meV 處,P 和 As 會(huì)形成深能級(jí)缺素為 p 型氧化鋅摻雜中最有效的受主元素。圖 1-3 為
圖 1-4 N 摻雜形成的不同缺陷示意圖96 年,Sato 等人[12]就嘗試過利用 N2作為摻雜源制備 p 型。以后在大量的嘗試中發(fā)現(xiàn),N 在氧化鋅中的溶解度較低代 O 的格位才能形成受主缺陷,而在實(shí)驗(yàn)中發(fā)現(xiàn),利用成(N2)O充當(dāng)施主型缺陷,對(duì)受主型缺陷進(jìn)行補(bǔ)償。為解決了利用離子注入的方法來進(jìn)行摻雜。Lin等人[13]利用離子化鋅。除了離子注入方法外,研究中發(fā)現(xiàn)還可以在摻雜過或利用外界能量使 N2裂解,從而將 N 元素?fù)诫s進(jìn)去。目用的氮源主要有氮?dú)?N2)、氨氣(NH3)、氮氧化物(NO、N2]利用分子束外延技術(shù),將 N2轉(zhuǎn)變成 N 等離子體,成功制inegishi 等人[15]利用NH3作為摻雜源得到了較低空穴濃度 NH3作為摻雜源的過程中,由于 H 離子半徑較小,容易充當(dāng)淺施主缺陷,導(dǎo)致得到的 p 型氧化鋅空穴濃度偏低。計(jì)算得出 NO 和 N2O 等作為摻雜源能更有效地實(shí)現(xiàn)氧化鋅有強(qiáng)氧化性,使用其做摻雜源可以增加 ZnO 中的氧含量,
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8 李t
本文編號(hào):2826082
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