柔性熱釋電薄膜制備工藝及性能優(yōu)化
【學位授予單位】:電子科技大學
【學位級別】:碩士
【學位授予年份】:2019
【分類號】:TB383.2
【圖文】:
PVDF柔性熱釋電薄膜圖片
11圖 2-2 PVDF 薄膜的 SEM 表面形貌圖。(a)流延法;(b)拉伸處理(Ts = 90 C,拉伸比=4);(c)極化處理(T=90 C,E=50 MV. m-1,t=30 min)從圖(a)中可以看出薄膜表面有著球形形貌即“球晶”,用 PVDF 材料制備的薄膜中“球晶”結(jié)構(gòu)一般認為是 相晶體結(jié)構(gòu)[56],所以通過流延法制備的 PVDF薄膜內(nèi)部的晶相結(jié)構(gòu)主要為 相。另外從圖(a)中可以看到 PVDF 薄膜表面有氣孔,這是由于溶劑蒸發(fā)時薄膜內(nèi)部的溶劑往外蒸發(fā)導致的氣孔,一般溫度越低溶劑蒸發(fā)越慢可以減小氣孔的大小,但是溫度過低會導致溶劑蒸發(fā)不完全。實驗中一般采用高溫退火來修補薄膜表面的氣孔和缺陷。圖(b)是將流延的薄膜經(jīng)過拉伸后的SEM 表面形貌(拉伸比 R = 4),從圖中可以看出在拉伸的作用下,PVDF 薄膜表面
是由于在電場作用下薄膜中的偶極子發(fā)生了轉(zhuǎn)動,并沿電場方向趨向一致,使得薄膜中的 相晶體結(jié)構(gòu)轉(zhuǎn)變?yōu)?相和 相[60]。2.3.2 X 射線衍射分析(XRD)圖 2-3 為 PVDF 初始膜以及拉伸和極化處理后薄膜的 XRD 對比圖。從圖(a)中可以看出,通過流延制備的初始膜在 2θ=18.4°處和 2θ=20.8°出現(xiàn)衍射峰,2θ=18.4°處為 相衍射特征峰,2θ=20.8°處為 相衍射特征峰[59],經(jīng)過拉伸后 2θ=20.8°處的衍射峰強度變得很大,由此可知經(jīng)過拉伸工藝制備的 PVDF 薄膜中含有較多的 相。從圖(b)中可以看出 PVDF 初始膜經(jīng)過極化后 2θ=20.8°處的衍射峰強度也變大,可知通過極化也可以提高 PVDF 薄膜中的 相含量。對比圖(a)和圖(b)中拉伸膜的 X 射線衍射圖譜和極化膜的 X 射線衍射圖譜發(fā)現(xiàn),經(jīng)過拉伸工藝制備的薄膜中的 相衍射峰強度比極化后薄膜中的 相衍射峰強度大,這是由于拉伸工藝通過拉開 PVDF 薄膜中纏繞的分子鏈將 PVDF 薄膜中的 相轉(zhuǎn)變?yōu)?相,而對薄膜進行極化時,有一部分 相轉(zhuǎn)變?yōu)?δ 相,較少部分由 相轉(zhuǎn)變?yōu)?相,所以通過拉伸可以使更多的 相轉(zhuǎn)變?yōu)?相。
【參考文獻】
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1 郭曉佩;PVDF薄膜的制備及熱釋電單元器件研究[D];電子科技大學;2015年
本文編號:2800702
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