【摘要】：利用原子力顯微鏡研究了二氧化硅襯底上紅熒烯薄膜的生長及穩(wěn)定性。在較低沉積速率下,較低襯底溫度時(shí),紅熒烯分子有充足的擴(kuò)散時(shí)間,利于薄膜的橫向生長,形成連續(xù)性、均勻性較好的薄膜�？焖僬翦兗拜^高襯底溫度使紅熒烯薄膜轉(zhuǎn)變?yōu)榭v向生長模式,形成團(tuán)粒狀島。橫向生長的紅熒烯薄膜在退火和空氣中表現(xiàn)為亞穩(wěn)特性,隨著退火溫度的升高和空氣中放置時(shí)間的延長,紅熒烯分子會(huì)自發(fā)地進(jìn)行質(zhì)量傳輸,發(fā)生縱向轉(zhuǎn)移,轉(zhuǎn)變?yōu)閳F(tuán)粒狀島。獲得了二氧化硅界面上紅熒烯薄膜的生長及亞穩(wěn)定機(jī)制模型。研究結(jié)果證明紅熒烯分子與二氧化硅界面之間的作用力小于紅熒烯分子間的作用力。
[Abstract]:The growth and stability of red fluorene films on silicon dioxide substrates were investigated by atomic force microscopy (AFM). At lower deposition rate and lower substrate temperature, the red fluorene molecule has sufficient diffusion time, which is conducive to the transverse growth of the film, forming continuity and good uniformity. Rapid evaporation and high substrate temperature change the red fluorene film into a longitudinal growth mode and form a granular island. The laterally grown red fluorene films exhibit metastable properties in annealing and air. With the increase of annealing temperature and the prolongation of the time of storage in air, the red fluorene molecules will spontaneously transport mass, transfer longitudinally, and turn into granular islands. The growth and metastable mechanism of red fluorene film on silica interface were obtained. The results show that the interaction force between red fluorene and silica is smaller than that between red fluorene and silica.
【作者單位】： 長春工業(yè)大學(xué)化學(xué)工程學(xué)院;長春理工大學(xué)光電工程學(xué)院;吉林省產(chǎn)品質(zhì)量監(jiān)督檢驗(yàn)院;
【基金】：國家自然科學(xué)基金(21403016) 吉林省教育廳項(xiàng)目(2016326,2015174)資助~~
【分類號】：O484.1

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