【摘要】：利用磁控濺射法在Si(100)基片上制備了Al薄膜,采用X射線衍射、掃描電鏡、掃描探針顯微鏡和紅外光譜儀研究了基片溫度、濺射功率和濺射時(shí)間對(duì)Al薄膜表面、斷面形貌和紅外反射率的影響。結(jié)果表明:隨著基片溫度的升高,Al顆粒的尺寸變大,由均勻細(xì)顆粒變?yōu)椴灰?guī)則形狀,并逐漸熔為一個(gè)整體,斷面形貌變得凹凸不平,表面粗糙度增大,紅外反射率呈下降的趨勢(shì);隨著濺射功率的增大,Al薄膜致密平整,表面粗糙度增大,紅外反射率先增大后不變;隨著濺射時(shí)間的延長(zhǎng),Al薄膜表面粗糙度增大,紅外反射率先增大后不變。
[Abstract]:Al thin films were prepared on Si (100) substrates by magnetron sputtering. The effects of substrate temperature, sputtering power and sputtering time on the surface of Al thin films were investigated by X-ray diffraction, scanning electron microscope, scanning probe microscope and infrared spectrometer. The effect of cross section morphology and infrared reflectivity. The results show that with the increase of substrate temperature, the size of Al particles becomes larger, from uniform fine particles to irregular shapes, and gradually melts into a whole, and the surface roughness increases with the increase of surface roughness. Infrared reflectance showed a decreasing trend; With the increase of sputtering power, the Al film is compact and smooth, the surface roughness increases, and the infrared reflection increases first and then unchanged. With the increase of sputtering time, the surface roughness of Al film increases, and the infrared reflection increases first and then unchanged.
【作者單位】： 國(guó)防科技大學(xué)新型陶瓷纖維及其復(fù)合材料重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室;
【基金】：國(guó)家自然科學(xué)基金(51502344)
【分類號(hào)】：TB383.2

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本文編號(hào)：2396195