本文選題：襯底偏壓 + 薄膜　； 參考：《吉林大學(xué)學(xué)報(bào)(理學(xué)版)》2016年04期

【摘要】：采用磁控濺射技術(shù),通過改變襯底偏壓在室溫下制備系列VC薄膜,并考察襯底偏壓對(duì)VC薄膜晶體結(jié)構(gòu)、硬度及摩擦磨損性能的影響,建立相互間的內(nèi)在聯(lián)系.結(jié)果表明,隨著襯底偏壓的增高,薄膜的晶粒逐漸細(xì)化,薄膜硬度逐漸增大,耐磨損性能得到提高,摩擦系數(shù)變化較小.
[Abstract]:A series of VC thin films were prepared by magnetron sputtering at room temperature by changing the substrate bias voltage. The effects of substrate bias on the crystal structure, hardness and friction and wear properties of VC thin films were investigated. The results show that with the increase of substrate bias, the grain size of the films is gradually refined, the hardness of the films increases, the wear resistance is improved, and the friction coefficient changes slightly.
【作者單位】： 長春工程學(xué)院勘查與測繪工程學(xué)院;長春師范大學(xué)物理學(xué)院;吉林大學(xué)材料科學(xué)與工程學(xué)院;
【基金】：吉林省科技廳項(xiàng)目基金(批準(zhǔn)號(hào):2014-0101061JC)
【分類號(hào)】：TB383.2

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