本文選題：TiAlON薄膜 + 熱穩(wěn)定性　； 參考：《太陽(yáng)能學(xué)報(bào)》2017年10期

【摘要】：采用直流磁控濺射制備AlON/TiAlON(LMVF)/TiAlON(HMVF)/Cu型太陽(yáng)能光譜選擇性吸收薄膜,并對(duì)其光學(xué)性能及高溫下的衰減機(jī)理進(jìn)行研究。吸收膜沉積態(tài)的吸收比和發(fā)射比分別為0.951和0.045(100℃)。在500℃的大氣氣氛中熱處理200 h后涂層的光學(xué)性能出現(xiàn)小幅衰減。主要的衰減機(jī)制為薄膜在高溫下O、N和Cu發(fā)生輕微擴(kuò)散及氧化。結(jié)果表明AlON/TiAlON(LMVF)/TiAlON(HMVF)/Cu型太陽(yáng)能吸收膜具有良好的光學(xué)性能,可適用于CSP中高溫發(fā)電及民用生活等方面。
[Abstract]:AlON/TiAlON(LMVF)/TiAlON(HMVF)/Cu type solar selective absorption thin films were prepared by DC magnetron sputtering and their optical properties and attenuation mechanism at high temperature were studied. The absorption and emission ratios of the deposited films are 0.951 and 0.045 鈩，

本文編號(hào)：1968645