發(fā)布時間：2018-04-19 05:38

  本文選題：直流磁控濺射 + 鎳鉻薄膜　； 參考：《工具技術》2017年07期

【摘要】：利用直流磁控濺射的方法制備Ni80Cr20合金薄膜,以氬氣流量、氬氣工作壓強、濺射功率作為三因素進行正交試驗,在濺射時間相同的條件下分別測試了薄膜厚度、表面粗糙度、電阻率并進行了極差分析。分析結果表明:在一定范圍內,氬氣工作壓強與濺射功率對薄膜厚度的影響較大;在氬氣工作壓強為3.0Pa時,薄膜厚度與濺射功率近似成正比關系;隨著氬氣流量的增大,Ni80Cr20薄膜厚度呈現(xiàn)先增大后減小的趨勢;在氬氣流量為50cm~3/min時,薄膜厚度達到最大值;各因素對薄膜表面粗糙度及電阻率影響不明顯。
[Abstract]:Ni80Cr20 alloy thin films were prepared by DC magnetron sputtering. The thickness and surface roughness of Ni80Cr20 alloy films were measured under the same sputtering time, using argon flow rate, argon working pressure and sputtering power as three factors.The resistivity is also analyzed.The results show that the ar working pressure and sputtering power have great influence on the film thickness in a certain range, and the film thickness is approximately proportional to the sputtering power when the argon working pressure is 3.0Pa.With the increase of argon flow rate, the thickness of Ni80Cr20 film increases first and then decreases. When argon flow rate is 50cm~3/min, the thickness of Ni80Cr20 film reaches the maximum value, and the influence of various factors on the surface roughness and resistivity of the film is not obvious.
【作者單位】： 中北大學;
【基金】：山西省國際科技合作項目(2015081018)
【分類號】：TB383.2;TG146.15

【參考文獻】

相關期刊論文 前2條

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【共引文獻】

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【二級參考文獻】

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本文編號：1771842