本文選題：NiO　切入點(diǎn)：電化學(xué)沉積　出處：《功能材料》2017年04期

【摘要】：以Ni(NO_3)_2水溶液為沉積液,采用陰極電化學(xué)沉積法在FTO導(dǎo)電玻璃上制備了納米晶NiO薄膜。通過X射線衍射、紫外-可見光透過譜等手段表征薄膜結(jié)晶性、表面微觀形貌以及光學(xué)特性。結(jié)果表明,沉積電位以及沉積時間均對電化學(xué)沉積法薄膜沉積過程存在重要影響。在優(yōu)化條件下(沉積電壓為-0.9V、沉積時間為2~5min),所獲薄膜致密均一,無裂紋,對可見光的透過率高達(dá)85%。
[Abstract]:Nanocrystalline NiO thin films were prepared on FTO conductive glass by cathodic electrochemical deposition with Ni(NO_3)_2 aqueous solution as deposition solution.The crystallinity, surface morphology and optical properties of the films were characterized by X-ray diffraction and UV-Vis spectroscopy.The results show that the deposition potential and deposition time have an important effect on the deposition process of the films by electrochemical deposition.Under the optimized conditions (the deposition voltage is -0.9 V, the deposition time is 2 ~ 5 min), the film is compact and uniform, without cracks, and the transmittance of visible light is as high as 85%.
【作者單位】： 東莞市凱昶德電子科技股份有限公司;武漢理工大學(xué)材料學(xué)院;武漢理工大學(xué)汽車工程學(xué)院;
【基金】：中國博士后科學(xué)基金資助項目(2014M550415)
【分類號】：O484

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本文編號：1717656