本文關鍵詞：高性能偏振膜的研制

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【摘要】：綜述了國內外科研人員在高性能偏振膜的研制方面開展的工作,主要涉及偏振膜光譜性能、抗激光損傷閾值和膜層應力控制等方面的研究。針對我國神光系列裝置對偏振膜的性能要求,簡述了中國科學院上海光學精密機械研究所采用電子束沉積技術在光譜性能、損傷閾值和面形精度三個方面開展的研究工作。給出了在薄膜設計、制備和后處理等方面進行的研究和取得的進展。結合上述研究成果,得到了低缺陷密度、低應力的高性能偏振膜。由本科研團隊研制的布儒斯特角薄膜偏振器在在2012年和2013年SPIE激光損傷國際會議(SPIE Laser Damage)組織的全球性偏振膜激光損傷閾值水平競賽中連續(xù)取得了p分量損傷閾值和平均損傷閾值最佳的結果。另外,通過解決應力誘導膜層龜裂的重大技術問題,在國內首先推出了大口徑偏振片,該大口徑偏振片滿足透射率TP98%,反射率RS99%的光譜性能要求和17J/cm2(9ns)的通量運行要求,有力支撐了我國SGII-UP大型激光裝置的穩(wěn)定運行。
【作者單位】： 中國科學院上海光學精密機械研究所強激光材料重點實驗室;
【基金】：國家自然科學基金資助項目(No.61505227)
【分類號】：O484;TN24
【正文快照】： (Key Laboratory of Materials for High Power Laser,Shanghai Institute ofOptics and Fine Mechanics,Chinese Academy of Sciences,Shanghai 201800,China)*Corresponding author,E-mail:bree@siom.ac.cn1引言薄膜偏振片通常用作光開關或隔離元件,是激光系統(tǒng)中必不可少的

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本文編號：1227734