本文關鍵詞：熱處理參數對LZO膜外延生長的影響

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【摘要】：研究了熱處理參數對LZO膜外延生長的影響。結果顯示實驗條件范圍內,升高熱處理溫度、延長熱處理時間和加快升溫速度有利于提高(400)_(LZO)衍射峰的強度。相對于熱處理溫度、熱處理時間和升溫速度,LZO膜的織構類型對熱處理時的氧分壓十分敏感,氧分壓直接影響到能否制備出具有單一織構成分的LZO膜。進一步分析顯示,傳統(tǒng)的形核生長理論可以很好地解釋熱處理溫度、熱處理時間和升溫速度對LZO膜外延生長的影響。增加氧分壓對LZO膜的外延生長存在雙重作用,一方面提高氧分壓可以降低膜中的積碳量,有利于LZO晶粒的長大,但另一方面,提高氧分壓降低膜中的積碳后將導致對自發(fā)形核長大過程的抑制作用減弱,最終使得LZO膜不具有單一的立方織構。因此,更合理地控制/改變不同熱處理階段的氧分壓才能在改善LZO膜生長動力學的同時又不影響其外延生長。
【作者單位】： 西北有色金屬研究院;
【基金】：國際合作項目(2012DFA50780) 陜西省創(chuàng)新團隊項目(2013KCT-07)
【分類號】：TM26;TB383.2
【正文快照】： 采用多技術組合開發(fā)具有多層膜結構的涂層導體[1-3]是目前高溫超導材料的研究熱點。國內外的研究結果表明[4-6],TFA-MOD(metalorganic depositionmethod using trifluoroacetates)技術是開發(fā)超導層低成本制備技術的最佳選擇,但對于緩沖層來說,無論是結構或是制備技術,還處于不

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