納米材料作為21世紀(jì)經(jīng)濟(jì)和社會(huì)發(fā)展最重要的物質(zhì)基礎(chǔ),已經(jīng)在化工、醫(yī)療、食品和電子科技等領(lǐng)域造成產(chǎn)業(yè)化的革新,并滲透到我們生產(chǎn)和生活的方方面面。其中納米二氧化硅（SiO₂-NPs）已經(jīng)成為面向社會(huì)大眾應(yīng)用最多的納米材料之一。但是由于SiO₂-NPs的小尺寸效應(yīng)、高穩(wěn)定性和高反應(yīng)活性等特點(diǎn)使其對(duì)人類的生命健康產(chǎn)生了極大的威脅,近年來(lái)已經(jīng)引起了各國(guó)政府和公眾的密切關(guān)注。心血管疾病是21世紀(jì)致死率最高的世界性疾病,流行病學(xué)調(diào)查研究顯示,細(xì)小顆粒物的暴露與心血管疾病的聯(lián)系密切相關(guān)。而納米顆粒在人群中的暴露已經(jīng)越來(lái)越普遍,因此對(duì)納米材料的心血管毒性研究和機(jī)制分析有利于我們?yōu)槠涠拘愿深A(yù)和治療提供科學(xué)性的依據(jù)。第一部分:血管內(nèi)皮細(xì)胞是形成血管內(nèi)壁的主要細(xì)胞,具有維持血管穩(wěn)態(tài)的重要功能,因此本章將以人臍靜脈內(nèi)皮細(xì)胞（HUVECs）作為體外細(xì)胞模型來(lái)探究SiO₂-NPs誘導(dǎo)血管內(nèi)皮毒性損傷的分子機(jī)制。我們選用三種粒徑不同的SiO₂-NPs在不同的濃度下對(duì)HUVECs作用不同的時(shí)間后,用CCK-8檢測(cè)了其對(duì)細(xì)胞的增殖毒性... 

【文章來(lái)源】：西南大學(xué)重慶市 211工程院校 教育部直屬院校

【文章頁(yè)數(shù)】：82 頁(yè)

【學(xué)位級(jí)別】：碩士

【部分圖文】：

透射電鏡觀察SiO2-NPs(A,15nm;B,30nm;C,100nm)的形貌

2-NPs 對(duì) HUVECs 細(xì)胞毒性的影響。(A)透射電鏡觀察 HUVECs 攝取納米二氧化C,30nm; D100nm) CCK-8 檢測(cè)不同濃度 SiO2-NPs 暴露不同時(shí)間后 HUVECs 的存ffect of SiO2-NPs on the cytotoxicity in HUVECs. (A) Silica nanoparticles were upta. TEM image. 8000×and 20000×magnification. (B,15nm; C,30nm; D100nm) CCK-8 to detect the survival rate of HUVECs exposed to different concentrations of SiO2-Ndifferent times respectively.-2A 中，我們用 TEM 觀察了 HUVECs 與 SiO2-NPs（15 nm）的相互果發(fā)現(xiàn) HUVECs 暴露 SiO2-NPs（25 μg/ml，6 h）后，細(xì)胞吞噬了大s，并且一部分 SiO2-NPs 已經(jīng)進(jìn)入溶酶體（如圖 2-2A 中紅色箭頭所示 SiO2-NPs 后，與正常對(duì)照組細(xì)胞相比，HUVECs 的形態(tài)結(jié)構(gòu)發(fā)生了改 SiO2-NPs 對(duì) HUVECs 存在細(xì)胞毒性效應(yīng)。為了深入了解 SiO2-NPs

在不同的暴露時(shí)間（3 h、6 h、12 h、24 h）分別檢Cs 細(xì)胞增殖的影響。圖 2-2B、C 和 D 分別代表 15 nm、30NPs 對(duì) HUVECs 細(xì)胞增殖的影響，結(jié)果顯示粒徑越小的 細(xì)胞的毒性效應(yīng)越強(qiáng)，并且這種毒性效應(yīng)呈現(xiàn)明顯的劑量和二氧化硅激活 HUVECs 細(xì)胞的炎癥反應(yīng)探究 SiO2-NPs 對(duì) HUVECs 細(xì)胞氧化應(yīng)激和炎癥反應(yīng)的影響的 SiO2-NPs（15 nm，25 μg/ml，6 h）作用于 HUVECs。如露 SiO2-NPs 組 HUVECs 釋放的 LDH 明顯增加（P<0.001） ROS 水平升高（P<0.05）；進(jìn)一步分析發(fā)現(xiàn) SiO2-NPs 的暴化酶 GPx 活性降低（P<0.001，圖 2-3C），這些結(jié)果說(shuō)明 S細(xì)胞損傷并引起氧化應(yīng)激反應(yīng)。如圖 2-3D 和 E，免疫印跡 的暴露會(huì)誘導(dǎo) HUVECs 細(xì)胞分泌的炎性因子（TNF-α,IL-1β1,VCAM-1,E-Selectin）上調(diào)。P<0.05（P<0.001）表示暴露 S在統(tǒng)計(jì)學(xué)上具有顯著性差異。

【參考文獻(xiàn)】：
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本文編號(hào)：3458067