飾面瓷厚度對(duì)氧化鋯全瓷冠微觀結(jié)構(gòu)及強(qiáng)度的影響
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【摘要】:目的:通過對(duì)不同飾面瓷厚度氧化鋯全瓷冠試件微觀結(jié)構(gòu)的掃描電子顯微鏡觀察及抗壓強(qiáng)度的測試,探討飾面瓷厚度對(duì)其微觀結(jié)構(gòu)及抗壓強(qiáng)度的影響,為氧化鋯全瓷冠的制作及臨床應(yīng)用提供理論依據(jù)。 方法: 1試件制作:應(yīng)用精密車床加工制作出15個(gè)金屬代型,代型底座為圓柱狀,直徑為50mm,高度為20mm,底座中央模擬前磨牙預(yù)備體,形成直徑為5mm,高度為6mm的金屬冠核,打磨拋光使之圓鈍平滑無銳利邊緣。從15個(gè)代型中隨機(jī)抽取一個(gè),應(yīng)用計(jì)算機(jī)輔助設(shè)計(jì)與制作系統(tǒng)(CAD/CAM)及3shape掃描儀對(duì)該代型進(jìn)行激光掃描以獲取三維數(shù)據(jù),并記錄其結(jié)果。根據(jù)掃描結(jié)果設(shè)計(jì)并利用精密車床制作氧化鋯基底冠的胚體25個(gè),將胚體放進(jìn)烤瓷爐中燒結(jié)后形成高度為6.5mm,直徑為6mm,厚度為0.5mm的筒狀基底冠,誤差控制在±0.02mm以內(nèi)。氧化鋯基底冠常規(guī)噴砂、清洗以及熱處理;將基底冠隨機(jī)分為5組,每組5個(gè),根據(jù)飾面瓷厚度的不同分別記為A-E組,飾面瓷厚度依次為0.5mm,1.0mm,1.5mm,2.0mm,2.5mm,按照以上厚度分別進(jìn)行飾面瓷的涂塑,然后根據(jù)廠家提供的飾面瓷燒結(jié)程序進(jìn)行燒結(jié),燒結(jié)完成后進(jìn)行厚度的打磨調(diào)整,誤差控制在±0.05mm。最后各試件進(jìn)行一次自身上釉,完成試件制作。 2抗壓試驗(yàn):用玻璃離子水門汀將上述試件按照分組依次粘固于金屬代型上,并于室溫下放置24h,然后順次置于萬能材料試驗(yàn)機(jī)上,用直徑6mm的球形加載頭,于試件合面中央以0.5mm/min的速度垂直向緩慢施壓直至試件出現(xiàn)破碎崩脫,同時(shí)記錄各試件折裂時(shí)的力值。 3抗壓試驗(yàn)力值的統(tǒng)計(jì)分析:應(yīng)用SPSS13.0統(tǒng)計(jì)分析軟件對(duì)各組試件的抗壓試驗(yàn)力值進(jìn)行統(tǒng)計(jì)學(xué)分析;首先對(duì)各組試件的抗壓試驗(yàn)力值進(jìn)行正態(tài)性檢驗(yàn)與方差齊性檢驗(yàn),如果各組試件的抗壓試驗(yàn)力值均服從正態(tài)分布并且方差齊,則對(duì)各組力值進(jìn)行單因素方差分析,當(dāng)P<0.05時(shí)還需對(duì)多個(gè)樣本均數(shù)進(jìn)行兩兩比較;如果各組試件的抗壓試驗(yàn)力值不服從正態(tài)分布或不滿足方差齊性,則進(jìn)行秩和檢驗(yàn)。檢驗(yàn)水準(zhǔn)均為α=0.05,當(dāng)P<0.05時(shí)認(rèn)為有統(tǒng)計(jì)學(xué)意義。 4試件斷裂面的掃描電子顯微鏡觀察:從抗壓試驗(yàn)后的每組試件中隨機(jī)抽取一個(gè),掃描電鏡觀察試件斷裂面的微觀結(jié)構(gòu)。 結(jié)果: 1抗壓試驗(yàn)結(jié)果:抗壓試驗(yàn)后各組試件所得力值均數(shù)分別為:A組:(1279.96±42.85)N,B組:(2235.44±50.14)N,C組:(2216.38±48.97)N,D組:(2169.22±60.40)N,E組:(2028.70±47.37)N。 2抗壓試驗(yàn)力值的統(tǒng)計(jì)學(xué)分析結(jié)果:本試驗(yàn)各組力值均服從正態(tài)分布并且方差齊,對(duì)各組力值進(jìn)行單因素方差分析,結(jié)果表明,不同飾面瓷厚度的氧化鋯全瓷冠試件抗壓試驗(yàn)力值的總體均數(shù)間差異有顯著性(P<0.01)。對(duì)多個(gè)樣本均數(shù)進(jìn)行兩兩比較,結(jié)果表明,A組與其余四組抗壓試驗(yàn)力值的總體均數(shù)間差異均有顯著性(P<0.01),E組與其余各組抗壓試驗(yàn)力值的總體均數(shù)間差異均有顯著性(P<0.01),而B組、C組、D組三組中任意兩組間抗壓試驗(yàn)力值的總體均數(shù)間差異均沒有顯著性(P>0.05)。 3抗壓試驗(yàn)后氧化鋯全瓷冠斷裂面的電鏡觀察: 各組試件氧化鋯基底冠-飾面瓷結(jié)合界面處的掃描電鏡觀察(×300): A組:氧化鋯基底冠-飾面瓷結(jié)合界面處較為疏松,可見長而不規(guī)則的裂紋分布其中,長度在20-100μm之間不等,微小氣孔散在分布,直徑在20-40μm之間不等。 B組:氧化鋯基底冠-飾面瓷結(jié)合界面處平坦緊密,偶見小氣孔,微裂紋不明顯。 C組:氧化鋯基底冠-飾面瓷結(jié)合界面處較平坦,可見散在小氣孔,微裂紋不明顯。 D組:氧化鋯基底冠-飾面瓷結(jié)合界面處不平坦,可見散在氣孔,直徑稍大,偶見微裂紋。 E組:氧化鋯基底冠-飾面瓷結(jié)合界面處不如D組緊密平坦,可見散在氣孔,直徑在6-25μm之間不等,微裂紋較明顯,長度約為30μm。 各組試件飾面瓷斷裂面的掃描電鏡觀察(×1000): A組:飾面瓷斷面高低不平,,可見微小氣孔分布其中,直徑在10-15μm之間,多見長而不規(guī)則的裂紋,長度在10-30μm。 B組:飾面瓷斷面平坦,偶見小氣孔,可見少量微小裂紋。 C組:飾面瓷斷面平坦,可見氣孔,少量微裂紋散在分布。 D組:飾面瓷斷面高低不平,可見較多氣孔,直徑較大,可見較多微裂紋。 E組:飾面瓷斷面高低不平,與D組相比,氣孔數(shù)目較多,直徑較大,在5-25μm之間,微裂紋較多較長,長度可達(dá)25μm。 結(jié)論: 1在基底冠厚度一定的情況下,飾面瓷厚度對(duì)氧化鋯全瓷冠的微觀結(jié)構(gòu)及抗壓強(qiáng)度均有影響。 2飾面瓷厚度為1.0mm,1.5mm,2.0mm的氧化鋯全瓷冠微觀結(jié)構(gòu)中氣孔及微裂紋的數(shù)目較少,體積較小,分布比較稀疏;飾面瓷厚度為0.5m,2.5mm的氧化鋯全瓷冠微觀結(jié)構(gòu)中氣孔及微裂紋的數(shù)目增多,體積增大,分布也更為密集。 3在本試驗(yàn)的五組試件中,氧化鋯全瓷冠的抗壓強(qiáng)度隨飾面瓷厚度的增加呈現(xiàn)先增大后減小的趨勢(shì);在飾面瓷厚度為1.0mm時(shí),抗壓強(qiáng)度達(dá)到最大,在飾面瓷厚度為0.5m,2.5mm時(shí),抗壓強(qiáng)度顯著降低;即飾面瓷過厚或過薄都會(huì)導(dǎo)致氧化鋯全瓷冠抗壓強(qiáng)度下降。
【關(guān)鍵詞】:氧化鋯 全瓷冠 飾面瓷厚度 微觀結(jié)構(gòu) 抗壓強(qiáng)度
【學(xué)位授予單位】:河北醫(yī)科大學(xué)
【學(xué)位級(jí)別】:碩士
【學(xué)位授予年份】:2014
【分類號(hào)】:R783.1
【目錄】:
- 摘要4-7
- ABSTRACT7-10
- 前言10
- 材料與方法10-13
- 結(jié)果13-15
- 附圖15-24
- 附表24-25
- 討論25-32
- 結(jié)論32
- 參考文獻(xiàn)32-37
- 綜述 飾面瓷對(duì)氧化鋯全瓷修復(fù)體強(qiáng)度的影響37-48
- 參考文獻(xiàn)44-48
- 致謝48-49
- 個(gè)人簡歷49
【參考文獻(xiàn)】
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本文編號(hào):904582
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