本文關(guān)鍵詞：碳及碳團(tuán)簇負(fù)離子注入硅橡膠細(xì)胞相容性研究

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【摘要】：通過(guò)在GIC4117串列加速器前注入器加裝注入靶架以及掃描系統(tǒng),建立了低能負(fù)離子注入平臺(tái),實(shí)現(xiàn)具有"Charge-up free"優(yōu)點(diǎn)的負(fù)離子以及團(tuán)簇負(fù)離子的注入,從而進(jìn)行了碳及碳團(tuán)簇負(fù)離子注入硅橡膠細(xì)胞相容性研究。水接觸角測(cè)量表明,隨著注入劑量增大到3×1015 cm-2,材料表面的水接觸角從108.7°減小到103.1°,表面親水性得到改善。XPS測(cè)試表明,隨著注入劑量的增加,樣品中碳含量逐漸減小,而氧和氮含量逐漸增加�；谏鲜鼋Y(jié)果對(duì)負(fù)離子注入硅橡膠細(xì)胞相容性改善的機(jī)制進(jìn)行了討論,最后在樣品上進(jìn)行了細(xì)胞培養(yǎng)實(shí)驗(yàn)。結(jié)果表明,負(fù)離子注入法是一種簡(jiǎn)單、有效提升硅橡膠細(xì)胞相容性的方法。
【作者單位】： 北京師范大學(xué)核科學(xué)與技術(shù)學(xué)院射線束技術(shù)與材料改性教育部重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室;北京大學(xué)醫(yī)學(xué)部基礎(chǔ)醫(yī)學(xué)院免疫學(xué)系;北京師范大學(xué)分析測(cè)試中心;北京市輻射中心;
【關(guān)鍵詞】： 負(fù)離子注入 硅橡膠 表面改性 XPS 細(xì)胞相容性
【基金】：北京市自然科學(xué)基金資助項(xiàng)目(1142006)
【分類(lèi)號(hào)】：R318.08
【正文快照】： 4.北京市輻射中心,北京100875)負(fù)離子注入技術(shù),因具有“Charge-up free”的優(yōu)點(diǎn),使絕緣材料的表面上基本不會(huì)有電荷積累,一般表面充電電壓在正負(fù)幾伏之間,從而不會(huì)形成電荷放電現(xiàn)象。這個(gè)優(yōu)點(diǎn)使得負(fù)離子注入技術(shù)相較于正離子注入技術(shù)在很多方面有著更好的應(yīng)用前景,如集成電路

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