發(fā)布時(shí)間：2017-08-06 12:29

  本文關(guān)鍵詞：不同牙本質(zhì)清潔劑對(duì)牙本質(zhì)與自粘接樹(shù)脂水門汀粘接強(qiáng)度的影響

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【摘要】：目的評(píng)價(jià)乙二胺四乙酸(EDTA)和次氯酸鈉(NaClO)對(duì)自粘接樹(shù)脂水門汀與牙本質(zhì)間粘接強(qiáng)度的影響。方法選擇新鮮無(wú)齲、無(wú)裂紋的人離體前磨牙27顆,去除頰側(cè)釉質(zhì),暴露淺層牙本質(zhì),隨機(jī)分為對(duì)照組(A組)、EDTA組(B組)和NaClO組(C組)。分別選用蒸餾水、3%EDTA溶液和1%NaClO溶液處理牙本質(zhì)表面后與自粘接樹(shù)脂水門汀Rely X Unicem進(jìn)行粘接,將其中24個(gè)試件置于37℃生理鹽水中浸泡24 h后測(cè)定剪切強(qiáng)度,采用SPSS 17.0統(tǒng)計(jì)學(xué)軟件對(duì)數(shù)據(jù)進(jìn)行統(tǒng)計(jì)分析,在掃描電鏡(SEM)和體視顯微鏡下分別觀察粘接界面及斷裂模式。結(jié)果 A組與B組的剪切強(qiáng)度分別為(8.55±0.63)MPa和(8.47±0.56)MPa,二者間差異無(wú)統(tǒng)計(jì)學(xué)意義(P0.05);C組的剪切強(qiáng)度為(12.97±0.59)MPa,與A組和B組間差異均有統(tǒng)計(jì)學(xué)意義(P0.05)。SEM下觀察可見(jiàn),C組自粘接樹(shù)脂水門汀Rely X Unicem與牙本質(zhì)間結(jié)合緊密,但均未見(jiàn)樹(shù)脂突,而A組與B組粘接界面均不理想。體視顯微鏡下觀察可見(jiàn),A組與B組試件破壞模式以內(nèi)聚破壞為主,C組試件全部為內(nèi)聚破壞。結(jié)論 1%Na Cl O處理牙本質(zhì)可以提高自粘接樹(shù)脂水門汀Rely X Unicem與牙本質(zhì)之間的粘接強(qiáng)度,3%EDTA處理對(duì)提高自粘接樹(shù)脂水門汀Rely X Unicem與牙本質(zhì)之間的粘接強(qiáng)度無(wú)影響。
【作者單位】： 南昌大學(xué)附屬口腔醫(yī)院口腔修復(fù)科;九江學(xué)院附屬口腔醫(yī)院口腔正畸科;
【關(guān)鍵詞】： 乙二胺四乙酸 次氯酸鈉 自粘接樹(shù)脂水門汀 剪切強(qiáng)度
【基金】：江西省衛(wèi)生廳科技計(jì)劃基金資助項(xiàng)目(20131086)
【分類號(hào)】：R783.1
【正文快照】： 2.九江學(xué)院附屬口腔醫(yī)院口腔正畸科,九江332000臨床上全冠修復(fù)體連同粘接材料一起脫落、基牙表面發(fā)生繼發(fā)齲或基牙與修復(fù)體之間產(chǎn)生微滲漏等現(xiàn)象時(shí)有發(fā)生,除了粘接材料的粘接性能及操作者的粘接技術(shù)等因素之外,基牙表面玷污層的影響也是不可忽視的因素�；�(牙本質(zhì))表面能否

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1 許曉冬;孟翔峰;聶蓉蓉;;光照射模式對(duì)雙重固化樹(shù)脂水門汀顯微硬度的影響[J];上�？谇会t(yī)學(xué);2013年05期

2 張鵬;管紅雨;;三種自粘接樹(shù)脂水門汀抗壓強(qiáng)度的對(duì)比測(cè)定[J];中華老年口腔醫(yī)學(xué)雜志;2013年03期

3 唐昊U，

本文編號(hào)：629874