目的研究氦氣源低溫大氣壓等離子體（non-thermal atmospheric pressure plasma,NTAPP）射流處理對牙本質(zhì)接觸角及黏接強度的影響。方法將10顆離體牙制備成30片1.5 mm厚的牙本質(zhì)片,打磨清洗后NTAPP射流分別處理0（對照組）,5,10,15,20 s,測量牙本質(zhì)接觸角。30顆離體牙去除牙合面牙釉質(zhì),暴露的牙本質(zhì)打磨清洗后酸蝕15 s,NTAPP射流分別處理0（對照組）,5,10,15,20 s,常規(guī)黏接進行微拉伸測試。對各處理組接觸角及黏接強度進行統(tǒng)計分析。結(jié)果對照組牙本質(zhì)接觸角均值為75.57°,經(jīng)NTAPP處理后各組接觸角均顯著降低（P <0.05）,各NTAPP處理組間差異無統(tǒng)計學意義（P>0.05）。NTAPP射流處理0,5,10,15,20 s黏接強度分別為（36.38±3.28） MPa、（39.82±3.57） MPa、（41.85±1.88） MPa、（45.79±4.2） MPa、（33.51±2.59） MPa;與NTAPP處理0 s相比,處理10和15 s即刻牙本質(zhì)黏接強度顯著增加（P <0.05）。結(jié)論... 

【文章來源】：山西醫(yī)科大學學報. 2020,51(06)

【文章頁數(shù)】：5 頁

【部分圖文】：

氦氣源NTAPP實驗裝置及試件處理示意圖

各組牙本質(zhì)接觸角見圖2，變化規(guī)律見圖3。正常牙本質(zhì)接觸角為75.57°±1.45°，經(jīng)NTAPP處理后各組接觸角均顯著小于對照組(P<0.05)，處理20s時接觸角最小為58.41°±1.15°;隨著處理時間延長，各組間接觸角差異無統(tǒng)計學意義(P>0.05)。圖3 NTAPP處理不同時間牙本質(zhì)接觸角比較

NTAPP處理不同時間牙本質(zhì)接觸角比較


本文編號：3245748