目的:研究微弧氧化反應(yīng)中以Na2Si O3和Mg Si F6的復(fù)合溶液體系作為電解液時對鈦瓷間結(jié)合強度的影響。方法:將90片純鈦試件（25mm×3mm×0.5mm）隨機分為九組,均經(jīng)過噴砂處理,取其中8組作為實驗組進行微弧氧化處理,電解液為20g/L Mg Si F6與不同濃度Na2Si O3的復(fù)合溶液,實驗組電解液分別為:20g/L Mg Si F6（A組）、20g/L Mg Si F6+1g/L Na2Si O3（B組）、20g/L Mg Si F6+2g/L Na2Si O3（C組）、20g/L Mg Si F6+3g/L Na2Si O3（D組）、20g/L Mg Si F6+4g/L Na2Si O3（E組）、20g/L Mg Si F6+5g/L Na2Si O3（F組）、20g/L Mg Si F6+10g/L Na2Si O3（G組）、20g/L Mg Si F6+20g/L Na2Si O3（H組）,I組為對照組,不進行微弧氧化,僅進行噴砂處理。每組任選兩個試件利用掃描電鏡（SEM）和能譜分析（EDS）對微弧氧化形成的陶瓷膜進行觀察研究。根據(jù)ISO9693標(biāo)準(zhǔn),對剩余... 

【文章來源】：青島大學(xué)山東省

【文章頁數(shù)】：107 頁

【學(xué)位級別】：碩士

【部分圖文】：

瓷粉涂布示意圖

鈦-瓷結(jié)合強度（τ值為結(jié)合強度，k值為與金屬材料彈性模量及其規(guī)格相關(guān)的常數(shù)）。圖1-2 三點彎曲實驗示意圖1.6 瓷層剝脫后純鈦試件表面觀察及元素分析三點彎曲后瓷層與試驗鈦試件分離，觀察各組烤瓷區(qū)域表面瓷粉殘留的情況，取 C 組（電解液為 20g/L MgSiF6+2g/L Na2SiO3）、F組（電解液為 20g/LMgSiF6+5g/L Na2SiO3）和 I組（噴砂對照組）瓷剝脫鈦試件，通過掃描電鏡（SEM）觀察瓷層剝脫后的鈦試件表面形貌，能譜分析儀（EDS）對其進行元素分析。1.7 鈦-瓷結(jié)合界面觀察將每組剩余的 2片鈦-瓷試樣用環(huán)氧樹脂包埋，暴露鈦-瓷結(jié)合界面的橫截面，依次用丙酮、無水酒精、去離子水超聲清洗 5min，用 400#~2000#的金相砂紙對暴露的橫截面逐級進行打磨，用拋光絨布蘸取金相拋光膏進行更細致的拋光。真空狀態(tài)下利用掃描電鏡（SEM）對鈦瓷結(jié)合界面的形態(tài)進行觀察

圖 2-1 鈦試件表面不同處理后的掃描電鏡結(jié)果。（A）20g/L MgSiF6溶液微弧氧化實驗組；（B）20g/L MgSiF6+1g/L Na2SiO3復(fù)合溶液微弧氧化實驗組；（C）20g/L MgSiF6+2g/L Na2SiO3復(fù)合溶液微弧氧化實驗組；（D）20g/L MgSiF6+3g/L Na2SiO3復(fù)合溶液微弧氧化實驗組；（E）20g/L MgSiF6+4g/L Na2SiO3復(fù)合溶液微弧氧化實驗組；（F）20g/L MgSiF6+5g/L Na2SiO3復(fù)合溶液微弧氧化實驗組；（G）20g/L MgSiF6+10g/L Na2SiO3復(fù)合溶液微弧氧化實驗組；（H）20g/LMgSiF6+20g/L Na2SiO3復(fù)合溶液微弧氧化實驗組；（I）噴砂對照組

【參考文獻】：
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碩士論文
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本文編號：3031835