目的:本實(shí)驗(yàn)通過模擬臨床牙冠調(diào)磨、椅旁拋光流程,從表面粗糙度、表面形貌兩個(gè)方面研究不同的拋光工具對(duì)愛爾創(chuàng)氧化鋯拋光后表面光澤度的影響,從而為臨床氧化鋯修復(fù)體的拋光程序提供指導(dǎo)性建議。方法:1.制備30塊體積為10mm×10mm×5mm大小的愛爾創(chuàng)氧化鋯標(biāo)準(zhǔn)試件,選10mm×10mm的面作為實(shí)驗(yàn)面。按照技工室制作氧化鋯全冠流程,出廠前將所有試塊拋光、燒結(jié)上釉。上釉后試件隨機(jī)挑選5塊定為A組,A組為空白對(duì)照組,即上釉后不做任何處理。2.其余25塊試件均用道邦綠色砂石打磨,以模擬臨床戴冠時(shí)的調(diào)磨操作。打磨后隨機(jī)分成5組（B組、C組、D組、E組、F組）,每組5個(gè)試件。B組為陰性對(duì)照組,即打磨后不做其他處理;C組為道邦粗拋光組,D組為道邦粗拋+精細(xì)拋光組、E組為松風(fēng)粗拋光組、F組為松風(fēng)粗拋+精細(xì)拋光組。3.測(cè)試各組試件拋光處理后的表面粗糙度Ra值并進(jìn)行單因素方差分析、兩組間的比較采用LSD-t檢驗(yàn)。4.將各組值與文獻(xiàn)中已有的天然牙的粗糙度值進(jìn)行比較。5.使用掃描電鏡觀察每組試件處理后的表面形貌,并進(jìn)行對(duì)照比較。結(jié)果:1.表面粗糙度Ra值:A、B、C、D、E、F組的Ra值分別為（0.18±0.04... 

【文章來源】：河北醫(yī)科大學(xué)河北省

【文章頁(yè)數(shù)】：48 頁(yè)

【學(xué)位級(jí)別】：碩士

【部分圖文】：

氧化鋯塊切削、燒結(jié)、噴砂、烤瓷儀器Fig.1Cutting,sintering,sandblasting,porcelaininstrumentofzirconiablock

102.實(shí)驗(yàn)方法2.1表面粗糙度測(cè)量2.1.1試件制作利用CAD制圖軟件設(shè)計(jì)制作長(zhǎng)10mm，寬10mm，高5mm的立方體塊3D圖像，導(dǎo)出文件為stl文件格式，并將數(shù)據(jù)導(dǎo)入DentalDesigner軟件打開，然后把所得到的數(shù)據(jù)傳遞給CAD切割機(jī)。采用深圳愛爾創(chuàng)有限公司提供的后牙低透二氧化鋯鋯塊，根據(jù)廠家的產(chǎn)品指導(dǎo)手冊(cè)按照特定的燒結(jié)收縮比例進(jìn)行切割，切割成10mm×10mm×5mm大小的樣塊，選取30個(gè)無裂紋的合格試件。清潔切割后的氧化鋯立方體表面粉塵，并對(duì)其進(jìn)行常規(guī)烘干。在加工廠按照臨床修復(fù)體燒結(jié)步驟將試件放入氧化鋯燒結(jié)爐中，經(jīng)四次升溫至1530℃，燒結(jié)12h后自然冷卻至室溫。對(duì)立方體長(zhǎng)10mm寬10mm的試驗(yàn)面，按照加工廠修復(fù)體制作流程常規(guī)打磨，打磨后用50um氧化鋁對(duì)其進(jìn)行噴砂，用氧化鋯專用釉粉釉液對(duì)其進(jìn)行表面上釉燒結(jié)處理。制作流程技術(shù)后，得到30個(gè)長(zhǎng)10mm寬10mm的試驗(yàn)面，詳見圖2。圖2氧化鋯塊設(shè)計(jì)、切削、燒結(jié)及完成示意圖Fig.2Schematicdiagramofzirconiablockdesign,cutting,sinteringandcompletion

12將調(diào)磨完成后的25個(gè)樣塊隨機(jī)分為5組（B組、C組、D組、E組、F組），每組5個(gè)。B組為調(diào)磨組，不做其他處理，為陰性對(duì)照組。C組為道邦粗拋光組，D組為道邦粗拋+精細(xì)拋光組，E組為松風(fēng)粗拋光組，F(xiàn)組為松風(fēng)粗拋+精細(xì)拋光組，表面處理中所用的調(diào)磨、拋光磨頭見圖3。以上所有試件實(shí)驗(yàn)面的打磨及拋光采用常用的單向疊加操作，如圖4所示，圓內(nèi)部為結(jié)果檢測(cè)區(qū)域，所有打磨拋光操作均在同一臺(tái)牙科治療椅完成，轉(zhuǎn)速均約為10000rap/min，操作時(shí)間見表格3。將所有樣本蒸餾水超聲清洗10min，自然干燥。以上所有操作均由一人操作完成。圖4.檢測(cè)區(qū)域及測(cè)量方向示意圖Fig4.Schematicdiagramofdetectionareaandmeasurementdirection2.1.4表面粗糙度測(cè)定試件不同拋光或上釉處理均為同一表面，大小為10mm×10mm。調(diào)磨、拋光及上釉的試件均用蒸餾水超聲清洗干燥后測(cè)量粗糙度。采用日本三豐SJ410粗糙度測(cè)量?jī)x測(cè)量試件表面粗糙度，以輪廓算數(shù)平均偏差Ra作為衡量粗糙度指標(biāo)，參照ISO1997標(biāo)準(zhǔn)，取樣長(zhǎng)度（lr)為0.8mm，評(píng)定長(zhǎng)度（ln)為4mm，測(cè)量方式如圖4所示。選取試件處理面中間區(qū)域4條平行線段，測(cè)量方向選擇垂直于試件的打磨方向，取平均值，表示該試件的表面粗糙度，各試件之間的測(cè)量位置與方向相同。所用測(cè)量工具見圖5。以上操作均由一人完成。


本文編號(hào)：3017458