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基于MEMS技術(shù)的高密度視網(wǎng)膜假體柔性微電極陣列的研制

發(fā)布時間:2017-10-23 12:36

  本文關(guān)鍵詞:基于MEMS技術(shù)的高密度視網(wǎng)膜假體柔性微電極陣列的研制


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【摘要】:視覺是人各種感覺中最重要的一種,正常獲得視覺的前提是具備完整有效的視覺通路。研究表明,大部分盲人的視覺通路并非完全損毀,通過電刺激視覺通路尚具有功能的部分,視覺假體能幫助假體植入者得到一定程度的人工視覺。視覺假體依靠作為神經(jīng)接口的微電極陣列實現(xiàn)假體和患者之間的聯(lián)接,根據(jù)微電極陣列植入部位的不同,視覺假體可以分為視皮層假體、視神經(jīng)假體和視網(wǎng)膜假體三種,這其中視網(wǎng)膜假體由于其刺激位點(diǎn)與視野的拓?fù)鋵?yīng)關(guān)系好、刺激器對組織損傷小,且最大限度保留視覺通路的功能等優(yōu)點(diǎn),成為不同類型視覺假體中最具應(yīng)用前景的一種。 為了使假體植入者獲得良好的人工視覺,視網(wǎng)膜假體必須具有足夠高分辨率,對應(yīng)的微電極陣列必須具有足夠高密度的刺激位點(diǎn)。基于MEMS技術(shù),我們設(shè)計并制作了兩種不同規(guī)格的微電極陣列,都采用光敏型聚酰亞胺(PI)作為絕緣材料,金屬鉑(Pt)作為導(dǎo)電材料,在聚合物和導(dǎo)電金屬層之間加入鈦(Ti)層增加粘附性。其中采用傳統(tǒng)工藝制作了30通道的微電極陣列,刺激點(diǎn)的直徑為350μm,以56的矩陣式排布。電極線寬和最小線間距分別為30μm和40μm。在對傳統(tǒng)工藝制作微電極陣列過程中Lift-Off方法出現(xiàn)的問題做了總結(jié)和分析后,我們提出采用離子束刻蝕(Ion Beam)的方法制作金屬導(dǎo)電層。利用新工藝制作的微電極陣列通道數(shù)達(dá)到121個,微電極陣列采用單層布線,刺激點(diǎn)以1012的矩陣式排布,直徑為280μm,在底端加入了一個700μm直徑的回收電極,,導(dǎo)線寬度和線間距都是10μm。經(jīng)過力學(xué)性能、電學(xué)性能、電化學(xué)分析和生物相容性等測試,結(jié)果表明,采用新工藝制作的微電極陣列不僅具有和傳統(tǒng)工藝同樣優(yōu)良的力學(xué)、電化學(xué)等性能,且刺激點(diǎn)密度得到了有效提升,這為視網(wǎng)膜假體分辨率的提高奠定了基礎(chǔ)。
【關(guān)鍵詞】:視覺假體 視網(wǎng)膜假體 微電極陣列 MEMS 高密度
【學(xué)位授予單位】:上海交通大學(xué)
【學(xué)位級別】:碩士
【學(xué)位授予年份】:2013
【分類號】:R318.18
【目錄】:
  • 摘要3-5
  • ABSTRACT5-9
  • 圖錄9-11
  • 表錄11-12
  • 第一章 緒論12-28
  • 1.1 研究背景12-13
  • 1.2 應(yīng)用于視網(wǎng)膜假體的微電極陣列13-23
  • 1.2.1 幾種不同的視網(wǎng)膜假體13-21
  • 1.2.2 用于制作視網(wǎng)膜假體微電極陣列的材料21-23
  • 1.3 MEMS 技術(shù)概述及在神經(jīng)電極中的應(yīng)用23-27
  • 1.3.1 MEMS 技術(shù)發(fā)展歷程24-25
  • 1.3.2 MEMS 技術(shù)加工手段與在神經(jīng)電極中的應(yīng)用25-26
  • 1.3.3 MEMS 技術(shù)前景與發(fā)展難題26-27
  • 1.4 課題來源與研究內(nèi)容27-28
  • 1.4.1 課題來源27
  • 1.4.2 研究內(nèi)容27-28
  • 第二章 應(yīng)用于脈絡(luò)膜上腔的 30 通道柔性微電極陣列28-52
  • 2.1 微電極陣列的設(shè)計28-34
  • 2.1.1 材料28-30
  • 2.1.2 電極尺寸和結(jié)構(gòu)30-34
  • 2.2 基于光敏型聚合物的加工工藝34-42
  • 2.2.1 實驗材料與設(shè)備35
  • 2.2.2 基于光敏型聚合物的微電極加工工藝流程35-38
  • 2.2.3 關(guān)于 Lift-Off 方法的討論38-42
  • 2.3 微電極陣列的性能測試42-49
  • 2.3.1 表面形貌測試43-44
  • 2.3.2 結(jié)構(gòu)與力學(xué)性能測試44-45
  • 2.3.3 電學(xué)和電化學(xué)性能測試45-48
  • 2.3.4 生物相容性測試48-49
  • 2.4 本章小結(jié)49-52
  • 第三章 基于聚酰亞胺的高密度柔性微電極陣列52-78
  • 3.1 電極材料52
  • 3.2 總體尺寸設(shè)計52-53
  • 3.3 表面參數(shù)設(shè)計53-61
  • 3.3.1 決定刺激點(diǎn)半徑的生理學(xué)因素53-54
  • 3.3.2 決定刺激點(diǎn)半徑的工藝因素54-58
  • 3.3.3 兩種不同密度微電極陣列的比較58-61
  • 3.4 加工工藝61-65
  • 3.4.1 實驗器材61-62
  • 3.4.2 基于光敏型聚合物的微電極加工工藝流程62-65
  • 3.5 微電極陣列的測試65-69
  • 3.5.1 表面形貌測試65
  • 3.5.2 結(jié)構(gòu)與力學(xué)性能測試65
  • 3.5.3 電學(xué)和電化學(xué)性能測試65-69
  • 3.5.4 生物相容性測試69
  • 3.6 離子束刻蝕方法的優(yōu)勢69-76
  • 3.7 本章小結(jié)76-78
  • 第四章 總結(jié)與展望78-80
  • 4.1 全文總結(jié)78-79
  • 4.2 展望79-80
  • 參考文獻(xiàn)80-84
  • 致謝84-85
  • 攻讀碩士學(xué)位期間已發(fā)表或錄用的論文85-87

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本文編號:1083473

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