微波和水浴處理對臨時冠材料殘留單體量和細(xì)胞毒性的影響
【文章頁數(shù)】:55 頁
【學(xué)位級別】:碩士
【部分圖文】:
圖1甲基丙烯酸甲酯單體的標(biāo)準(zhǔn)曲線
峰高度和波峰面積依次減低(見圖2),三組殘留單體質(zhì)量(見表1)。質(zhì)量百分比對照組最高(2.60%±0.61%),水浴組次之(0.99%±0.17最低(0.21%±0.07%),單因素方差分析結(jié)果(見表2),三組間兩兩比計學(xué)差異(P<0.05)。
圖2聚甲基丙烯酸甲酯殘留單體量色譜圖:A對照組B水浴組C微波組Fig2Theresidualmonomerchromatographyofpolymethylmethacrylate
基丙烯酸甲酯殘留單體量色譜圖:A對照組B水浴組C微波Theresidualmonomerchromatographyofpolymethylmethacryl表1聚甲基丙烯酸甲酯樣品殘留單體量(平均值±標(biāo)準(zhǔn)差)
圖1甲基丙烯酸甲酯單體的標(biāo)準(zhǔn)曲線
峰高度和波峰面積依次減低(見圖2),三組殘留單體質(zhì)量(見表1)。質(zhì)量百分比對照組最高(2.60%±0.61%),水浴組次之(0.99%±0.17最低(0.21%±0.07%),單因素方差分析結(jié)果(見表2),三組間兩兩比計學(xué)差異(P<0.05)。
圖2聚甲基丙烯酸甲酯殘留單體量色譜圖:A對照組B水浴組C微波組Fig2Theresidualmonomerchromatographyofpolymethylmethacrylate
基丙烯酸甲酯殘留單體量色譜圖:A對照組B水浴組C微波Theresidualmonomerchromatographyofpolymethylmethacryl表1聚甲基丙烯酸甲酯樣品殘留單體量(平均值±標(biāo)準(zhǔn)差)
本文編號:4031803
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