中科院微電子所_清華大學(xué)微電子所_微電子所銦鎵砷mosfet射頻開關(guān)芯片研究獲進(jìn)展
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近日,中國科學(xué)院微電子研究所科研成果——銦鎵砷(ingaas)mosfet射頻開關(guān)芯片被國際半導(dǎo)體雜志semiconductortoday進(jìn)行了專題報(bào)道。
高遷移率ingaasmosfet是在ingaashemt器件的基礎(chǔ)上引入高k介質(zhì)金屬柵技術(shù)發(fā)展起來的新一代半導(dǎo)體器件,被國際學(xué)術(shù)界和半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)界認(rèn)為是延展摩爾定律至5納米節(jié)點(diǎn)的主要技術(shù)選擇。微電子所高頻高壓器件與集成研發(fā)中心研究員劉洪剛課題組長期致力于ingaasmosfet器件及其應(yīng)用研究,在國家科技重大專項(xiàng)、“973”計(jì)劃、國家自然科學(xué)基金等多項(xiàng)國家級課題的支持下,先后在量子阱溝道設(shè)計(jì)、高k介質(zhì)與界面態(tài)控制、關(guān)鍵工藝與硅基異質(zhì)集成、器件模型與電路模擬等方面取得重要進(jìn)展,相關(guān)成果已成功應(yīng)用于面向4g/5g移動通信的射頻開關(guān)芯片的研究。課題組研制的ingaasmosfet射頻開關(guān)芯片,在移動通信頻段表現(xiàn)出優(yōu)越的射頻開關(guān)特性,在0.1-3ghz無線通信頻段內(nèi)插入損耗為0.27-0.49db,,隔離度達(dá)到35-68db,比傳統(tǒng)ingaashemt射頻開關(guān)具有更高的射頻輸出功率和功率附件效率。該特性使ingaasmosfet技術(shù)在5g智能手機(jī)與高速wifi中具有廣闊的應(yīng)用前景。
報(bào)道鏈接
射頻開關(guān)器件和平面圖與單管剖面圖
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