《微電子學(xué)》 1990年04期

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介質(zhì)隔離集成電路進(jìn)入高性能應(yīng)用領(lǐng)域

【摘要】：正 目前,許多高性能模擬集成電路采用介質(zhì)隔離技術(shù)。精密放大器、視頻電路、模擬開(kāi)關(guān)、高輸入電壓電路,甚至模擬專用集成電路(ASIC),均通過(guò)采用介質(zhì)隔離技術(shù)而提高了性能,這些電路能提高你最需要的系統(tǒng)的性能。 介質(zhì)隔離技術(shù),是由哈里斯公司于六十年代首先引入生產(chǎn)中的,本來(lái)是用來(lái)改善IC的抗輻射能力。以后,有另外三家公司——Burr-Brown公司、Elantec公司和Sipex公司的數(shù)據(jù)線性事業(yè)部,加入了介質(zhì)隔離IC供應(yīng)商的行列。事實(shí)上,這四家公司中的兩家只是在最近才進(jìn)入這一領(lǐng)域的,Elantec公司在1985年開(kāi)始生產(chǎn)這種器件,而Sipex公司直到1988年1月才開(kāi)始提供標(biāo)準(zhǔn)產(chǎn)品。

【關(guān)鍵詞】：
【正文快照】：

目前,許多高性能模擬集成電路采用介質(zhì)隔離技術(shù)。精密放大器、視頻電路、模擬開(kāi)關(guān)、高輸入電壓電路,甚至模擬專用集成電路(ASIC),均通過(guò)采用介質(zhì)隔離技術(shù)而提高了性能,這些電路能提高你最需要的系統(tǒng)的性能。 介質(zhì)隔離技術(shù),是由哈里斯公司于六十年代首先引入生產(chǎn)中的,本來(lái)是用

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