目的:分析遮陰后地黃葉片中差異表達(dá)的基因,揭示地黃響應(yīng)遮陰的分子機(jī)制。方法:對(duì)地黃"溫85-5"植株進(jìn)行60%遮陰、90%遮陰和全光照3種處理,以Ion Proton平臺(tái)對(duì)90%遮陰和全光照2種處理的樣品進(jìn)行轉(zhuǎn)錄組測(cè)序,篩選差異表達(dá)的基因。結(jié)果:遮陰后地黃葉片變平展,泡狀凸起減少或變小,葉片變薄,葉肉柵欄組織和海綿組織細(xì)胞減少、變小。同時(shí),有2393個(gè)基因在遮陰處理的葉片中差異表達(dá),其中,遮陰后上調(diào)表達(dá)的基因有1456個(gè),而下調(diào)的基因有937個(gè)。京都基因與基因組百科全書（KEGG）富集分析發(fā)現(xiàn)植物-真菌互作代謝通路、苯乙醇苷生物合成通路、萜類成分合成通路、光合作用通路等120個(gè)代謝通路相關(guān)的差異基因得到了富集。在遮陰后的葉片中,參與光合作用的差異基因全部下調(diào)表達(dá),生長(zhǎng)素響應(yīng)蛋白基因（ARF）上調(diào)表達(dá),赤霉素（GA）通路DELLA基因下調(diào)表達(dá),乙烯通路蘇氨酸蛋白激酶基因（CTR1）上調(diào)表達(dá),參與梓醇與毛蕊花糖苷合成通路的催化酶基因表達(dá)與它們遮陰后含量的變化規(guī)律也有一定的相關(guān)性。結(jié)論:分析了遮陰后地黃葉片的轉(zhuǎn)錄組信息,篩選到一些差異表達(dá)的基因,為進(jìn)一步解析地黃遮陰響應(yīng)的分子機(jī)制奠定基礎(chǔ)。 

【文章頁(yè)數(shù)】：11 頁(yè)

【文章目錄】：
1 材料與方法
    1.1 實(shí)驗(yàn)材料與遮陰處理
    1.2 RNA-Seq及分析
    1.3 實(shí)時(shí)熒光定量PCR
2 結(jié)果與分析
    2.1 遮陰對(duì)地黃葉片的表型和組織解構(gòu)的影響
    2.2 遮陰對(duì)地黃葉內(nèi)的關(guān)鍵細(xì)胞進(jìn)程的影響
    2.3 地黃葉片中響應(yīng)遮陰處理關(guān)鍵基因的功能分析
    2.4 地黃葉片中響應(yīng)遮陰處理關(guān)鍵分子事件
        2.4.1 遮陰處理干擾了光合通路關(guān)鍵基因的表達(dá)
        2.4.2 遮陰處理影響了葉片中關(guān)鍵激素代謝和關(guān)鍵信號(hào)通路
        2.4.3 遮陰處理抑制了梓醇和毛蕊花糖苷合成通路中關(guān)鍵催化酶基因的表達(dá)
3 討論


【參考文獻(xiàn)】：
期刊論文
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碩士論文
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本文編號(hào)：3690030