以陜北地區(qū)普遍種植的馬鈴薯品種荷蘭15號為供試材料,設(shè)置灌水水平和施肥量兩因素,研究水肥供應(yīng)對馬鈴薯根層養(yǎng)分及產(chǎn)量的影響。以100%ET₀（W1）和當(dāng)?shù)赝扑]施肥量(F1,N-P₂O₅-K₂O為240-120-300 kg·hm^-2)為基礎(chǔ),3個灌水量處理分別為W1,W2（80%ET₀）和W3（60%ET₀）,3個施肥水平分別為F1,F2（75%F1）和F3（50%F1）,以60%ET₀灌水水平和不施肥處理為對照組（CK）,共10個處理。結(jié)果表明:不同水肥供應(yīng)對馬鈴薯各生長階段耗水量及水分利用效率有顯著的影響,隨著灌水量增加,土壤水分逐漸向下層遷移;在馬鈴薯整個生育期,W3F2處理水分利用效率最高,為44.69 kg·hm^-2·mm^-1,其次為W2F2(44.41 kg·hm^-2·mm^-1),比CK分別高39.64%和38.75... 

【文章來源】：干旱地區(qū)農(nóng)業(yè)研究. 2020,38(04)北大核心CSCD

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【部分圖文】：

不同水肥供應(yīng)下馬鈴薯塊莖產(chǎn)量

不同水肥供應(yīng)對土壤電導(dǎo)率的影響如表2所示。所有處理土壤上層(0～30 cm)電導(dǎo)率值大于下層(30～60 cm)。其中W3F3的電導(dǎo)率最高,為501.9 μs·cm-1,比CK高48.4%,W3F1的電導(dǎo)率(407.9 μs·cm-1)比CK提高20.6%。在F1和F3水平下,電導(dǎo)率隨灌水量增大而降低,在F2下,電導(dǎo)率隨灌水量增加而增大。F3、F2和F1處理平均土壤電導(dǎo)率比CK分別高19.4%,低16.6%、2.6%。在W3和W2下,電導(dǎo)率隨施肥量增加而降低,在W1下,電導(dǎo)率隨施肥量增加先增大后降低。CK在水平方向距根部15 cm、縱深10 cm處出現(xiàn)最高值,為893 μS·cm-1,整個剖面電導(dǎo)率值變化范圍為129.6～893 μS·cm-1。W3F3在水平方向距根部10 cm、縱深30 cm處出現(xiàn)最高值,比CK增高48.44%。W2F1在水平方向距根部30 cm、縱深60 cm處出現(xiàn)最低值,為92 μS·cm-1。圖3 不同水肥供應(yīng)對馬鈴薯耗水量和水分利用效率的影響

圖2 不同水肥供應(yīng)對馬鈴薯根層土壤含水量的影響表1 不同水肥供應(yīng)對馬鈴薯根層土壤pH值的影響Table 1 Effects of different water and fertilizer supply on soil pH value of potato root layer 土層深度/cmSoil depth CK W3F1 W2F3 W1F2 W3F3 W2F2 W1F1 W3F2 W2F1 W1F3 10 9.15 8.78 8.66 8.52 8.78 8.72 8.57 8.79 8.50 8.38 20 8.72 8.65 8.62 8.55 8.42 8.49 8.51 8.65 8.47 8.12 30 9.05 8.57 8.89 8.65 8.75 8.95 8.87 9.18 8.79 8.37 40 9.37 9.11 9.06 8.70 8.95 8.98 8.86 9.21 8.89 8.67 50 9.60 9.07 9.01 9.08 9.43 9.31 8.89 9.22 9.02 8.85 60 9.42 9.23 8.84 9.10 9.17 9.16 9.04 9.23 8.97 8.74

【參考文獻】：
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