本文關(guān)鍵詞：真空科學(xué)與技術(shù)學(xué)報，由筆耕文化傳播整理發(fā)布。

真空科學(xué)與技術(shù)學(xué)報雜志社/雜志簡介 《真空科學(xué)與技術(shù)學(xué)報》（月刊）曾用刊名：真空科學(xué)與技術(shù)，1981年創(chuàng)刊，是全國中文核心期刊，長期被EI、CA、SA等國際蓍名檢索系統(tǒng)收錄，已全文上網(wǎng)。本刊通過中國圖書貿(mào)易總公司代理向國外發(fā)行。

《真空科學(xué)與技術(shù)學(xué)報》主要刊登真空技術(shù)、表面與界面物理與化學(xué)、表面分析、電子材料、薄膜物理與工藝、真空冶金、等離子體科學(xué)與工藝等。 真空科學(xué)與技術(shù)學(xué)報收錄情況/影響因子 國家新聞出版總署收錄　維普網(wǎng)、萬方數(shù)據(jù)庫、知網(wǎng)數(shù)據(jù)庫、化學(xué)文摘（網(wǎng)絡(luò)版）、文摘與引文數(shù)據(jù)庫、工程索引、Compendex數(shù)據(jù)庫（核心）、日本科學(xué)技術(shù)振興機構(gòu)中國文獻數(shù)據(jù)庫、皇家化學(xué)學(xué)會系統(tǒng)列文摘收錄

1、中文核心期刊：

1996-2011年連續(xù)5屆中文核心期刊（中文核心期刊(1996)、中文核心期刊(2000)、中文核心期刊(2004)、中文核心期刊(2008)、中文核心期刊(2011)）

2、中國科技論文統(tǒng)計源期刊（中國科技核心期刊）

3、CSCD中國科學(xué)引文數(shù)據(jù)庫來源期刊（2013-2014年度）（含擴展版）

4、數(shù)據(jù)：MARC數(shù)據(jù)、DC數(shù)據(jù)

5、圖書館藏：國家圖書館館藏、上海圖書館館藏

6、影響因子：

截止2014年萬方：影響因子：1.228；總被引頻次：1081

截止2014年知網(wǎng)：復(fù)合影響因子：1.328；綜合影響因子：1.119

7、偏重的研究方向：工程與材料、工程熱物理與能源利用、工程熱物理相關(guān)交叉領(lǐng)域、機械工程、金屬材料、其他無機非金屬材料、金屬材料的制備科學(xué)與跨學(xué)科應(yīng)用基礎(chǔ)、金屬材料表面科學(xué)與工程、工程熱力學(xué)、機械摩擦學(xué)與表面技術(shù)、無機非金屬材料、內(nèi)流流體力學(xué)、數(shù)理科學(xué)、物理學(xué)II、傳熱傳質(zhì)學(xué)、基礎(chǔ)物理學(xué)

8、投稿錄用比例：80%

9、審稿速度：平均2.81818個月的審稿周期 真空科學(xué)與技術(shù)學(xué)報欄目設(shè)置 學(xué)術(shù)論文、綜述評論、技術(shù)交流、工業(yè)技術(shù)、科研動態(tài)與學(xué)術(shù)活動、快報等。 真空科學(xué)與技術(shù)學(xué)報編輯部/雜志社投稿須知 1、文稿要求：內(nèi)容新穎、論點明確、力求文字精煉、準(zhǔn)確、通順，文題簡明扼要，文稿應(yīng)資料可靠、數(shù)據(jù)準(zhǔn)確、書寫規(guī)范，文責(zé)自負(fù)。

2、文章結(jié)構(gòu)：題目、作者、作者單位、摘要、關(guān)鍵詞、文章正文、參考文獻、作者簡介、作者詳細(xì)通訊地址、電話、郵箱。

3、論文涉及的課題如取得國家或部、省級以上專項基金或?qū)俟リP(guān)項目，應(yīng)注于文章正文下方。

4.文稿務(wù)必立論明確,論證嚴(yán)謹(jǐn),數(shù)據(jù)可靠,文字精練。特約稿、綜述論文一般8000字以內(nèi),學(xué)術(shù)論文6000字以內(nèi),技術(shù)交流4000字以內(nèi),科技簡訊2000字以內(nèi),來稿請?zhí)詈弥袌D分類號。

5.文稿要求用A4紙單面1.5倍行間距,小四號字打印,一式兩份。來稿時,請附上作者中聯(lián)系人、聯(lián)系電話和電子信箱地址。如可能,請附寄磁盤。

6.稿件請按本刊格式整理,除正文以外,要同時給出中、英文的篇名、作者姓名和工作單位、論文摘要300字左右、關(guān)鍵詞4～6個。 真空科學(xué)與技術(shù)學(xué)報同類優(yōu)質(zhì)期刊(排名不分先后)

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答:“國家級”期刊，即由黨中央、國務(wù)院及所屬各部門，或中國科學(xué)院、中國社會科學(xué)院、各民主黨派和全國性人民團體主辦的期刊及國家一級專業(yè)學(xué)會主辦的會刊。“省級”期刊即由各省、自治區(qū)、直轄市及其所屬部、委辦、廳、局主辦的期刊以及由各本、�？圃盒Ｖ鬓k的學(xué)報（刊）。核心期刊是學(xué)術(shù)界通過一整套科學(xué)的方法，對于期刊質(zhì)量進行跟蹤評價，并以情報學(xué)理論為基礎(chǔ)，將期刊進行分類定級，把最為重要的一級稱之為核心期刊。

5.一般多長時間能夠發(fā)表？

答:根據(jù)客戶的要求和選擇的期刊類型不同，而且編輯部也有審稿、發(fā)稿等時間安排，《中外文摘》一般是1－4個月見刊，不排除有更長久的時間，建議有需求的用戶一般提前2個月就開始提交業(yè)務(wù)比較理想。

6.我可以隨時跟蹤進展情況嗎？

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《真空科學(xué)與技術(shù)學(xué)報》論文發(fā)表范例  不等電位空心陰極Ar等離子體放電發(fā)射光譜的診斷楊麗珍 張躍飛 邊心超 陳強 張廣秋 (221)
空間站兩艙壓力平衡時間分析陳叔平 達道安 陳光奇 (226)
Ar＋與氟化的Si樣品相互作用機制的研究：分子動力學(xué)模擬秦尤敏 呂曉丹 寧建平 A．Bogaerts 茍富君 (229)
硫化時間對于固態(tài)硫化CuInS2薄膜性能影響楊宇 張弓 莊大明 (236)
增強ACPDP低灰度級圖像的子場抖動方法王志國 梁志虎 范琳瑤 劉純亮 (240)
8mm波段高功率TE01-HE11模式變換系統(tǒng)于新華 蒙林 牛新建 方智 (245)
磁控濺射W1-xTixN薄膜的結(jié)構(gòu)與摩擦學(xué)性能研究李學(xué)超 李長生 莫超超 丁建 朱秉瑩 (249)
氣體流速對SiO2／S涂層中試制備的影響王志遠 徐宏 欒小建 李偉 周建新 (254)
低價氯化鋁法從氧化鋁直接碳還原煉鋁的機理分析袁海濱 馮月斌 徐寶強 楊斌 郁青春 戴永年 (259)
非平衡磁控濺射二維磁場分布模擬計算趙卓 周艷文 劉悅 (265)
技術(shù)交流
溫度對Ga離子源發(fā)射特性的影響研究馬向國 顧文琪 (270)
HT-7托卡馬克中鋰第一壁研究的先行試驗左桂忠 胡建生 羅南昌 李建剛 張凌 (273)
多孔陽極氧化鋁模板上電子束蒸發(fā)沉積TiO2李展望 夏志林 薛亦渝 付志偉 郭培濤 趙立新 洪曉亮 (279)
真空蒸餾法提純粗鎳的研究王林 劉大春 楊斌 李學(xué)鵬 徐寶強 (283)
混合靶磁控反應(yīng)濺射制備鐵摻雜TiO2光催化劑薄膜張文杰 李汝愿 李瑛 朱圣龍 王福會 (288)
電子回旋共振等離子體輔助脈沖式沉積氧化鋁薄膜的研究桑利軍 張躍飛 陳強 李興存 (293)
Cu-水納米流體對流換熱特性研究李新芳 朱冬生 (297)
快速退火對直流磁控濺射法制備的AZO薄膜性能的影響姜麗莉 辛艷青 宋淑梅 楊田林 李延輝 韓圣浩 (302)
鋁鋯共摻雜氧化鋅透明導(dǎo)電薄膜的低溫制備及特性研究張化福 劉漢法 袁長坤 類成新 (306)
射頻功率對筒狀聚酯內(nèi)壁類金剛石薄膜結(jié)構(gòu)與性能的影響研究李景 田雷 田修波 鞏春志 楊士勤 (311)
真空吸氣劑吸氫后樣品的熱解動力學(xué)及熱重分析陳樹軍 汪榮順 李祥東 (316)
真空碳熱還原處理氧化鋅礦理論分析及實驗研究熊利芝 陳啟元 尹周瀾 張平民 (321)
激光損傷的光散射法判別研究蘇俊宏 梁海鋒 徐均琪 (325)
多弧離子鍍（Ti，Al，Zr）N多元超硬梯度膜的制備及力學(xué)性能研究崔貫英 張鈞 (329)
離子注入空間齒輪傳動副用30CrMnSi材料真空摩擦學(xué)性能研究蔣釗 周暉 鄭軍 (334)S波段盒型輸出窗擊穿原因的電磁分析朱方 張兆傳 羅積潤 (101)
O2／Ar比例對直流脈沖磁控濺射制備TiO2薄膜光催化性能的影響張粲 丁萬昱 王華林 柴衛(wèi)平 (106)
分子動力學(xué)模擬樣品溫度對F刻蝕SiC的影響寧建平 秦尤敏 呂曉丹 A．Bogaerts 茍富君 (111)
后柵極場發(fā)射顯示板結(jié)構(gòu)參數(shù)在公差范圍內(nèi)變化對工作特性的影響仲雪飛 張雄 尹涵春 雷威 王保平 (116)
蔭罩式等離子體顯示板尋址放電延遲時間的研究楊蘭蘭 屠彥 李青 朱振華 王保平 (122)
NiMnGa和NiMnFeGa單晶磁感生應(yīng)變的溫度依賴性及孿晶界移動的能量損耗崔玉亭 武亮 張健 吳振興 潘復(fù)生 (128)
占空比對磁控濺射純Cr鍍層微觀組織結(jié)構(gòu)的影響李洪濤 蔣百靈 曹政 (133)
Al-C-N非晶薄膜結(jié)構(gòu)及導(dǎo)電性研究羅慶洪 于棟利 陸永浩 婁艷芝 王燕斌 (138)
脈沖激光沉積法在藍寶石襯底上制備a軸取向YSZ薄膜經(jīng)晶 朱俊 羅文博 張鷹 李言榮 (144)
公-自轉(zhuǎn)磁控濺射鍍膜系統(tǒng)薄膜沉積均勻性的研究于賀 王濤 吳志明 蔣亞東 陳超 董翔 靖紅軍 (149)
蔭罩式等離子體顯示板條紋分布變化的研究楊蘭蘭 屠彥 劉德龍 張雄 李青 王保平 (154)
均勻介質(zhì)阻擋放電處理提高聚合物薄膜表面親水性的研究方志 楊浩 解向前 (160)
Fe／Si多層膜經(jīng)快速熱退火合成β-FeSi2薄膜的研究郭艷 沈鴻烈 張娟 唐正霞 魯林峰 (167)
摻鉬氧化鋅透明導(dǎo)電薄膜光學(xué)性質(zhì)研究吳臣國 沈杰 王三坡 章壯健 楊錫良 (171)
反應(yīng)磁控濺射法制備氧化銦錫鉭薄膜張波 于波 董顯平 (176)
技術(shù)交流
FMI-I-600型釹鐵硼真空速凝爐冷卻強度對鑄帶組織的影響房也 孫寶玉 巴德純 王旭 婁樹普 (181)
氦注入鋁的熱解吸譜向鑫 陳長安 劉柯釗 饒詠初 彭麗霞 (185)
基于DIABEAM法的電子束能量密度測試分析付鵬飛 王亞軍 毛智勇 付鋼 (189)
玻璃鋼復(fù)合材料無磁杜瓦真空性能研究楊長春 潘皖江 武松濤 (193)
真空下從鋁土礦中直接提取鋁的研究李秋霞 楊斌 戴永年 (198)
納米晶體Ti表面磁控濺射CNx／SiC雙層薄膜的干摩擦磨損性能許曉靜 宗亮 卓劉成 都欣妮 陳丹 (201)
NEAGaAs光電陰極表面和UHV系統(tǒng)微顆粒污染的尋源分析與排除陳高善 程宏昌 石峰 劉暉 馮劉 任兵 成偉 (205)
氧化銀薄膜的微結(jié)構(gòu)對其反射率和透射率的影響 馮紅亮 粱艷 郜小勇 林清耿 張增院 馬姣民 盧景霄 (211)
透氣真空快速泥水分離技術(shù)室內(nèi)模型試驗研究周源 劉傳俊 吉鋒 洪鵬云 陶輝 (215)
利用UV曝光技術(shù)研制單根定向碳納米管陣列冷陰極陳長青 丁明清 李興輝 白國棟 張甫權(quán) 馮進軍 (1)
準(zhǔn)中性等離子體模擬中的兩種漸近保持PIC算法研究 孫安邦 毛根旺 P. Degond F. Deluzet (6)
等離子體顯示器自適應(yīng)低功耗尋址方法梁志虎 黃金福 張小寧 劉純亮 丁興隆 (11)
新型SMPDP菱形單元結(jié)構(gòu)的研究溫佳佳 屠彥 楊蘭蘭 (16)
濺射工作氣壓對Fe／Si3N4多層膜微波磁性的影響楊長勝 程海峰 (22)
國際熱核聚變反應(yīng)堆饋線系統(tǒng)線圈終端盒冷屏熱性能分析及實驗研究劉素梅 宋云濤 武松濤 王忠偉 (28)
前柵極碳納米管場發(fā)射顯示板關(guān)鍵結(jié)構(gòu)參數(shù)的研究仲雪飛 張雄 尹涵春 王保平 (33)
氧化鋁膜對鋁誘導(dǎo)制備多晶硅薄膜的影響唐正霞 沈鴻烈 魯林峰 黃海賓 蔡紅 沈劍滄 (38)
綜述評論
冶金級硅氧化精煉提純制備太陽能級硅研究進展伍繼君 戴永年 馬文會 楊斌 劉大春 王燁 魏奎先 (43)
影響鋁合金真空釬焊質(zhì)量的關(guān)鍵因素李偉 王英建 (50)
技術(shù)交流
極高真空校準(zhǔn)室內(nèi)殘余氣體的成分分析成永軍 李得天 張滌新 馮焱 盧耀文 趙瀾 徐婕 (54)
柱塞密封結(jié)構(gòu)的漏率預(yù)估王勇 閆榮鑫 (60)
電泳和電鍍法增強碳納米管場發(fā)射特性的研究 陳雷鋒 蔣紅 宋航 趙海峰 李志明 黎大兵 郭萬國 (64)
大氣壓下冷等離子弧制備SiOx涂層超疏水表面周振 陳強 劉福平 任兆杏 (68)
襯底溫度和氫氣退火對ZnO：Al薄膜性能的影響張惠 沈鴻烈 尹玉剛 李斌斌 (72)
輝光等離子滲氮對純鈦鑄件表面性能的影響佟宇 郭天文 洪春福 樓芬麗 凌國平 (76)
磁性液體密封結(jié)構(gòu)的優(yōu)化設(shè)計楊文明 李德才 趙曉光 張少蘭 (80)
不同材料管殼對螺旋線慢波系統(tǒng)性能的影響韓勇 劉燕文 丁耀根 劉濮鯤 (84)
BEPCⅡ束流引入的真空測量誤差肖瓊 彭曉華 (88)
真空拾取器拾取動作響應(yīng)時間與影響因素的研究張世偉 溫燕修 韓進 (92)
磁控濺射TiN／Cu-Zn納米多層膜腐蝕和抗菌性能研究韋春貝 鞏春志 田修波 楊士勤 (96)
多注耦合腔慢波結(jié)構(gòu)冷測特性研究楊軍 鄧光晟 呂國強 李為 蔡斐 胡躍輝 (1)
懸浮單根納米碳管端部場分布的計算尚學(xué)府 李振華 徐亞伯 王淼 (5)
激光等離子體通道天線的色散特性研究夏新仁 尹成友 (10)
電容薄膜規(guī)熱流逸效應(yīng)修正方法研究孫海 李得天 張滌新 李正海 (16)
電弧離子鍍NiCoCrAlY涂層的透射電鏡研究陳康敏 關(guān)慶豐 潘勵 孫超 王啟民 聞立時 (21)
等離子體技術(shù)沉積SiCN薄膜中雜質(zhì)O的來源、化合狀態(tài)及其對薄膜結(jié)構(gòu)和性能的影響趙艷艷 徐軍 丁萬昱 張明明 陸文琪 (26)
反應(yīng)濺射AlN薄膜的動態(tài)特性佟洪波 柳青 巴德純 (31)
二氧化硅在真空低價法制備鋁過程中的歧化行為研究李秋霞 朱冬梅 劉永成 周小奎 戴永年 (35)
氟化非晶碳膜的微結(jié)構(gòu)分析蔣愛華 肖劍榮 (38)
室溫下Cu／3C—SiC（111）界面形成的研究劉衍芳 李亮 劉金鋒 劉忠良 徐彭壽 徐法強 潘海斌 (42)
技術(shù)交流
工作參數(shù)對平面磁控濺射系統(tǒng)沉積速率的影響邱清泉 勵慶孚 蘇靜靜 Jiao Yu Finley Jim

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