近年來,國內(nèi)外對場發(fā)射的研究熱度有增無減,尤其是在場發(fā)射顯示器方面的研究。場發(fā)射陰極材料的選取十分關(guān)鍵,其中碳納米管(CNT)及其復(fù)合物薄膜被認(rèn)為是最具有研究價值和意義的陰極材料。本文研究的是碳納米管及其復(fù)合薄膜的場發(fā)射性能,首先對純碳納米管薄膜的場發(fā)射性能進(jìn)行了研究,然后對其與二硫化鉬(MoS₂)復(fù)合陰極薄膜的場發(fā)射性能進(jìn)行了研究,可具體為:(1)碳納米管薄膜的場發(fā)射性能研究通過真空抽濾和雙面導(dǎo)電膠帶轉(zhuǎn)移的方法制備了具有增強(qiáng)場發(fā)射性能的純碳納米管薄膜,通過調(diào)控碳納米管分散液的濃度,制備出了不同形貌的有裂紋的碳納米管薄膜,并對各個濃度的樣品進(jìn)行了場發(fā)射性能的測試。結(jié)合表征結(jié)果分析得出了其場發(fā)射性能增強(qiáng)的原因有以下幾方面:1)雙面導(dǎo)電膠帶的使用,為裂紋的產(chǎn)生提供了力學(xué)方面的幫助,另外還增強(qiáng)了CNT薄膜與ITO玻璃基底間的粘附性,為優(yōu)異的電流密度發(fā)射穩(wěn)定性做出了一定的貢獻(xiàn);2)裂紋的產(chǎn)生拉開了多數(shù)碳納米管發(fā)射體間的距離,這有利于降低發(fā)射體彼此間的場發(fā)射屏蔽效應(yīng);3)裂紋邊緣出現(xiàn)的因薄膜表面斷裂而暴露出來的碳納米管尖端成為了新的電流發(fā)射位點,這增強(qiáng)了薄膜的平均場強(qiáng)。在這...

【文章頁數(shù)】：69 頁

【學(xué)位級別】：碩士

【文章目錄】：
摘要
abstract
第一章 緒論
    1.1 引言
    1.2 場發(fā)射理論
        1.2.1 場發(fā)射原理
        1.2.2 場發(fā)射性能參數(shù)
    1.3 場發(fā)射陰極材料
    1.4 場發(fā)射陰極的研究歷程
    1.5 碳納米管及其復(fù)合材料的場發(fā)射陰極薄膜研究
    1.6 本論文主要研究內(nèi)容
第二章 碳納米管陰極薄膜的制備及其場發(fā)射器件性能
    2.1 引言
    2.2 實驗部分
    2.3 形貌對碳納米管薄膜場發(fā)射性能的影響
    2.4 濃度對碳納米管薄膜場發(fā)射性能的影響
        2.4.1 濃度對場發(fā)射J-E曲線和F-N曲線的影響
        2.4.2 濃度對場發(fā)射穩(wěn)定性和發(fā)光性的影響
    2.5 本章小結(jié)
第三章 碳納米管/二硫化鉬復(fù)合薄膜場發(fā)射器件的制備與性能研究
    3.1 引言
    3.2 實驗部分
        3.2.1 實驗試劑、儀器與設(shè)備
        3.2.2 MoS₂的制備、表征及原理
        3.2.3 MoS₂樣品的場發(fā)射性能
    3.3 不同質(zhì)量比對碳納米管/二硫化鉬復(fù)合薄膜場發(fā)射性能的影響
        3.3.1 碳納米管/二硫化鉬的制備及表征
        3.3.2 碳納米管/二硫化鉬復(fù)合薄膜的場發(fā)射J-E曲線和F-N曲線特征
        3.3.3 碳納米管/二硫化鉬復(fù)合薄膜的場發(fā)射穩(wěn)定性和發(fā)光性研究
    3.4 本章小結(jié)
第四章 結(jié)論與展望
參考文獻(xiàn)
碩士期間發(fā)表的論文和專利
致謝



本文編號：3831705