納米多孔GaN基薄膜的制備及Beta-氧化鎵薄膜的外延生長(zhǎng)
發(fā)布時(shí)間:2020-12-11 22:22
作為第三代寬禁帶半導(dǎo)體材料的典型代表,氮化鎵(GaN)是當(dāng)前研究的熱點(diǎn)問(wèn)題。由于具有禁帶寬度大(3.4 eV)、擊穿電場(chǎng)高、電子漂移速度快等優(yōu)良光電特性,因此其在UV-可見(jiàn)光發(fā)光二極管(LED)、激光器(LD)、光電探測(cè)器以及高頻和大功率電子設(shè)備中有著重要應(yīng)用。高質(zhì)量的氮化鎵薄膜是制備高性能光電器件的關(guān)鍵因素。目前,價(jià)格低廉的藍(lán)寶石作為異質(zhì)外延襯底已被廣泛用于氮化鎵薄膜的外延生長(zhǎng)。由于藍(lán)寶石與氮化鎵之間存在較大的晶格失配和熱失配,因此異質(zhì)外延生長(zhǎng)的氮化鎵薄膜存在較大的殘余應(yīng)力和較高的缺陷密度(108-109 Cm-2),這使得GaN基光電器件具有光電性能低和可靠性差等缺點(diǎn)。由于濕法刻蝕方法可克服GaN基薄膜以上缺點(diǎn),因此高質(zhì)量納米多孔(NP)GaN薄膜的制備及其再生長(zhǎng)已成為當(dāng)前最為熱門的研究領(lǐng)域之一。論文以電化學(xué)刻蝕(EC)法制備NP-GaN基薄膜為主線,系統(tǒng)研究具有NP-GaN分布布拉格反射鏡(DBR)的InGaN基薄膜的光電特性后,采用有機(jī)化學(xué)氣相沉積(MOCVD)法在NP-GaN基薄膜上外延生長(zhǎng)GaN LED和β-Ga203單晶薄膜。具體研究?jī)?nèi)容如下:(1)以硝酸(HN03)或硝...
【文章來(lái)源】: 趙沖沖 山東大學(xué)
【文章頁(yè)數(shù)】:84 頁(yè)
【學(xué)位級(jí)別】:碩士
【部分圖文】:
圖1-2?AlGaN/GaN?HEMT結(jié)構(gòu)示意圖??
山東大學(xué)碩士學(xué)位論文??(DBR)和超級(jí)電容器等領(lǐng)域也有著重要應(yīng)用[12_14]。如:Chen等人P研發(fā)出具??有導(dǎo)向結(jié)構(gòu)的氮化鎵基VCSEL?(如圖1-3),該結(jié)構(gòu)可應(yīng)用于光學(xué)傳感器、可見(jiàn)??光通訊系統(tǒng)、和視網(wǎng)膜掃描顯示等設(shè)備。Slueh等人[13】利用電化學(xué)刻蝕方法制備??出了導(dǎo)電納米多孔GaN/非摻雜GaN?(NP-GaN/u-GaN)分布布拉格反射鏡(圖??1-4),該DBR有望成為提高LED和激光器發(fā)光效率的重要組成結(jié)構(gòu)。Wang等??人[14]研發(fā)出一種基于氮化鎵納米線(GaNNW)?/石墨紙(GP)納米復(fù)合材料的??新型柔性超級(jí)電容器電極。該復(fù)合電極表現(xiàn)出出色的比電容和循環(huán)性能,可以用??作柔性儲(chǔ)能器件的候選材料。??jrn^??—n-GaN??I?■?MQWs??=?.?,?_一?Current?confined?layer??s?a^a?_?p-osR??&〇rKiing?metal??L■■攀,,一順,廁細(xì)—?-—??師?ad??*???U?iubstrate??圖1-3氮化鎵基VCSEL結(jié)構(gòu)示意圖??Fig.?1-3?Schematic?diagram?of?GaN-based?VCSEL?structure.??.'?Ti??-?fTO??mqwN??^oporoys?n-GoN??、爹.??圖1-4具有納米多孔GaN?/未摻雜GaN?DBR結(jié)構(gòu)的LED示意圖??Fig.?1-4?LED?with?nanoporous?GaN?/?undoped?GaN?DBR?structure.??1.2納米多孔氮化鎵薄膜的研究進(jìn)展??由于氮化鎵襯底的缺失
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【參考文獻(xiàn)】:
期刊論文
[1]Fabrication and properties of high quality InGaN-based LEDs with highly reflective nanoporous GaN mirrors[J]. DEZHONG CAO,XIAOKUN YANG,LüYANG SHEN,CHONGCHONG ZHAO,CAINA LUAN,JIN MA,HONGDI XIAO. Photonics Research. 2018(12)
[2]Optical characteristics and environmental pollutants detection of porous silicon microcavities[J]. HUANG JianFeng, LI Sha, CHEN QingWei & CAI LinTao CAS Key Laboratory of Health Informatics; Shenzhen Key Laboratory of Cancer Nanotechnology; Institute of Biomedical and Health Engineering, Shenzhen Institute of Advanced Technology, Chinese Academy of Sciences, Shenzhen 518055, China. Science China(Chemistry). 2011(08)
本文編號(hào):2911316
【文章來(lái)源】: 趙沖沖 山東大學(xué)
【文章頁(yè)數(shù)】:84 頁(yè)
【學(xué)位級(jí)別】:碩士
【部分圖文】:
圖1-2?AlGaN/GaN?HEMT結(jié)構(gòu)示意圖??
山東大學(xué)碩士學(xué)位論文??(DBR)和超級(jí)電容器等領(lǐng)域也有著重要應(yīng)用[12_14]。如:Chen等人P研發(fā)出具??有導(dǎo)向結(jié)構(gòu)的氮化鎵基VCSEL?(如圖1-3),該結(jié)構(gòu)可應(yīng)用于光學(xué)傳感器、可見(jiàn)??光通訊系統(tǒng)、和視網(wǎng)膜掃描顯示等設(shè)備。Slueh等人[13】利用電化學(xué)刻蝕方法制備??出了導(dǎo)電納米多孔GaN/非摻雜GaN?(NP-GaN/u-GaN)分布布拉格反射鏡(圖??1-4),該DBR有望成為提高LED和激光器發(fā)光效率的重要組成結(jié)構(gòu)。Wang等??人[14]研發(fā)出一種基于氮化鎵納米線(GaNNW)?/石墨紙(GP)納米復(fù)合材料的??新型柔性超級(jí)電容器電極。該復(fù)合電極表現(xiàn)出出色的比電容和循環(huán)性能,可以用??作柔性儲(chǔ)能器件的候選材料。??jrn^??—n-GaN??I?■?MQWs??=?.?,?_一?Current?confined?layer??s?a^a?_?p-osR??&〇rKiing?metal??L■■攀,,一順,廁細(xì)—?-—??師?ad??*???U?iubstrate??圖1-3氮化鎵基VCSEL結(jié)構(gòu)示意圖??Fig.?1-3?Schematic?diagram?of?GaN-based?VCSEL?structure.??.'?Ti??-?fTO??mqwN??^oporoys?n-GoN??、爹.??圖1-4具有納米多孔GaN?/未摻雜GaN?DBR結(jié)構(gòu)的LED示意圖??Fig.?1-4?LED?with?nanoporous?GaN?/?undoped?GaN?DBR?structure.??1.2納米多孔氮化鎵薄膜的研究進(jìn)展??由于氮化鎵襯底的缺失
山東大學(xué)碩士學(xué)位論文??(DBR)和超級(jí)電容器等領(lǐng)域也有著重要應(yīng)用[12_14]。如:Chen等人P研發(fā)出具??有導(dǎo)向結(jié)構(gòu)的氮化鎵基VCSEL?(如圖1-3),該結(jié)構(gòu)可應(yīng)用于光學(xué)傳感器、可見(jiàn)??光通訊系統(tǒng)、和視網(wǎng)膜掃描顯示等設(shè)備。Slueh等人[13】利用電化學(xué)刻蝕方法制備??出了導(dǎo)電納米多孔GaN/非摻雜GaN?(NP-GaN/u-GaN)分布布拉格反射鏡(圖??1-4),該DBR有望成為提高LED和激光器發(fā)光效率的重要組成結(jié)構(gòu)。Wang等??人[14]研發(fā)出一種基于氮化鎵納米線(GaNNW)?/石墨紙(GP)納米復(fù)合材料的??新型柔性超級(jí)電容器電極。該復(fù)合電極表現(xiàn)出出色的比電容和循環(huán)性能,可以用??作柔性儲(chǔ)能器件的候選材料。??jrn^??—n-GaN??I?■?MQWs??=?.?,?_一?Current?confined?layer??s?a^a?_?p-osR??&〇rKiing?metal??L■■攀,,一順,廁細(xì)—?-—??師?ad??*???U?iubstrate??圖1-3氮化鎵基VCSEL結(jié)構(gòu)示意圖??Fig.?1-3?Schematic?diagram?of?GaN-based?VCSEL?structure.??.'?Ti??-?fTO??mqwN??^oporoys?n-GoN??、爹.??圖1-4具有納米多孔GaN?/未摻雜GaN?DBR結(jié)構(gòu)的LED示意圖??Fig.?1-4?LED?with?nanoporous?GaN?/?undoped?GaN?DBR?structure.??1.2納米多孔氮化鎵薄膜的研究進(jìn)展??由于氮化鎵襯底的缺失
【參考文獻(xiàn)】:
期刊論文
[1]Fabrication and properties of high quality InGaN-based LEDs with highly reflective nanoporous GaN mirrors[J]. DEZHONG CAO,XIAOKUN YANG,LüYANG SHEN,CHONGCHONG ZHAO,CAINA LUAN,JIN MA,HONGDI XIAO. Photonics Research. 2018(12)
[2]Optical characteristics and environmental pollutants detection of porous silicon microcavities[J]. HUANG JianFeng, LI Sha, CHEN QingWei & CAI LinTao CAS Key Laboratory of Health Informatics; Shenzhen Key Laboratory of Cancer Nanotechnology; Institute of Biomedical and Health Engineering, Shenzhen Institute of Advanced Technology, Chinese Academy of Sciences, Shenzhen 518055, China. Science China(Chemistry). 2011(08)
本文編號(hào):2911316
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