可控制備低維寬波段探測材料及其光電探測性能研究
【學(xué)位單位】:山東大學(xué)
【學(xué)位級別】:碩士
【學(xué)位年份】:2020
【中圖分類】:TN215;TN304
【部分圖文】:
了一番“納??米熱潮”。??到了?2004年,英國科學(xué)家Novoselov與Gaim通過機(jī)械剝離的方法成功剝??離出穩(wěn)定的二維材料單層石墨烯,吸引了研宄人員的廣泛關(guān)注。14石墨烯同樣具??有一系列優(yōu)異的物理性質(zhì),然而無帶隙的半金屬特性限制了其在半導(dǎo)體領(lǐng)域的發(fā)??展。23在此之后,人類對二維材料的探索也在不斷前進(jìn),相繼發(fā)現(xiàn)了六方氮化硼??(h-BN):?M0S2、WS2、VSe2等過渡金屬硫族化合物(TMDs);硅烯、鍺烯、黑??磷(BP)等結(jié)構(gòu)及性質(zhì)各異的材料。9’1Q’23??圖1-2.石墨烯薄膜的(a)光學(xué)圖像以及(b)單層石墨烯AFM圖像14??近年來,低維半導(dǎo)體材料雖然在生長制備、性能探索等方面研究有著很大的??進(jìn)展,并且也在逐步嘗試推廣應(yīng)用,但是關(guān)于其的研究,無論是材料篩癬物理??機(jī)理、器件工藝,還是與之相關(guān)的量子調(diào)控方面的研宄等,都還有很多亟待解決??的問題,未來人們關(guān)于這些問題的深入研宄將更有助于低維半導(dǎo)體材料在實際生??產(chǎn)生活中的推廣和應(yīng)用。??1.3低維半導(dǎo)體材料的可控制備??低維半導(dǎo)體材料的制備方法一般可以分為兩大類:一是將塊體材料通過刻蝕、??納米刻印等技術(shù)“打磨”成納米尺度的“自上而下”(Top-Down)制備方法,33以這??種方法制備的低維材料一般會保留其體材料原有的大部分物理參數(shù),例如雜質(zhì)濃??度、晶體方向等,但是“自上而下”的方法在生產(chǎn)的過程中,不可避免地會產(chǎn)生原??3??
1。,荖??>?I?a.??耷?GaP?喻;??"〇?^?*?GaAsP?Ga2o3.??>?*?Perovskte?(ln5AI)GaN?氣吩、1:'.、…弋??E?Q?Low?dimensiojial?materials?黎:二二?1???3?QW:?quantum?welt;?QD:?quantum?dot?SiC?diamond????????..?..?? ̄ ̄—?....?t??1940?1960?1980?2000??圖1-4.光電探測材料的發(fā)展歷程23??早在1873年,英國的W.史密斯就發(fā)現(xiàn)了硒的光電導(dǎo)效應(yīng),但是受當(dāng)時條件??的限制,這種效應(yīng)長期處于理論探索階段,并未獲得實際應(yīng)用。十五年后,德國??科學(xué)家赫茲和他的助手勒納德利測定了帶電粒子的電荷質(zhì)量比,并對外光電效應(yīng)??進(jìn)行了系統(tǒng)的實驗研宄。二十世紀(jì)三十年代,俄國的庫別茨基利用光陰極以及連??續(xù)設(shè)置的打拿極制成了世界上第一個光電倍增管。四十年代初,測輻射熱計及溫??差型紅外探測器相繼問世。第二次世界大戰(zhàn)之后,隨著半導(dǎo)體微電子技術(shù)的發(fā)展,??6??
命以及較高??的載流子遷移率等性質(zhì),低維納米材料在光電探測器的應(yīng)用中顯示出很多優(yōu)異的??光電特性,例如高響應(yīng)率、超高內(nèi)稟光電增益、快速響應(yīng)、亞波長效應(yīng)、低功耗??等等。此外,由于低維材料的尺寸小,且與目前半導(dǎo)體微電子技術(shù)有著良好??的兼容性,基于低維材料的光電探測器進(jìn)一步促進(jìn)了光電探測器的高度集成和小??型化,這對未來高性能光電探測系統(tǒng)的發(fā)展至關(guān)重要。??早在2001年,美國哈佛大學(xué)Charles?M.?Lieber課題組成功制備了單晶InP??納米線,并首次將其制成光電探測器,如圖1-5所示。同時表征了單根InP納米??線的光致發(fā)光(PL)性質(zhì),發(fā)現(xiàn)其對不同方向偏振光的響應(yīng)有著驚人的各向異性。??這種本征的各向異性在集成光子電路、光開關(guān)互聯(lián)、近場成像及高分辨探測器等??丨Hi園??I?。[?令一一一?一??*?Pc^rtf?difislty??圖1-5.單根InP納米線的(a)?AFM圖像與(c,?d)?PL光學(xué)偏振特性及(b,?e)偏振光探測??器測試與性能41??2013年,G.?Z.?Shen課題組通過簡單的CVD方法,成功合成了?p型單晶??Zn3As2納米線,空穴遷移率達(dá)到305.5?cm2???V-1???S-1。并分別在剛性Si02/Si襯底??及柔性PET襯底上通過接觸印刷的方法,制成了陣列納米線光電探測器件。相??比于單根納米線器件,陣列納米線器件顯示出更強(qiáng)的光電性能。此外,在柔性襯??底上的演示進(jìn)一步拓展了低維光電器件的應(yīng)用。42??10??
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