目的:通過CBCT影像研究偏側(cè)咀嚼對成年患者上頜第一磨牙區(qū)牙槽骨厚度的影響,旨在為口腔正畸診療和微種植支抗植入提供理論依據(jù)和指導(dǎo)。方法:隨機(jī)選取2017年10月至2019年10月于遵義醫(yī)科大學(xué)附屬口腔醫(yī)院正畸科自然就診的47名伴偏側(cè)咀嚼習(xí)慣患者,其中男19例,女28例,年齡18³3歲,平均年齡24.72±3.99歲。正畸術(shù)前拍攝頭顱右側(cè)位片后,導(dǎo)入Uceph（中國）軟件中測量確定FMA值后分組。拍攝患者頭顱CBCT,導(dǎo)入NNT viewer軟件重建三維影像,在NNT系統(tǒng)中測量各組U56（上頜第一磨牙與第二前磨牙間）牙槽嵴頂下4mm、7mm頰腭向的骨皮質(zhì)厚度、骨松質(zhì)厚度及牙槽骨總厚度;測量經(jīng)上頜第一磨牙腭根根尖的腭側(cè)距和全距。使用SPSS17.0統(tǒng)計分析。采用配對t檢驗分析上頜第一磨牙區(qū)咀嚼習(xí)慣側(cè)和非習(xí)慣側(cè)牙槽骨厚度的差異。對上頜第二前磨牙和第一磨牙間牙槽骨與垂直骨面型用Pearson相關(guān)分析,P<0.05時,差異有統(tǒng)計學(xué)意義。結(jié)果:偏側(cè)咀嚼患者左右偏好側(cè)的分布無明顯差異:左側(cè)占比48.9%,右側(cè)占比51.1%。各組咀嚼習(xí)慣側(cè)與非習(xí)慣側(cè)U56牙槽嵴頂下4mm處... 

【文章來源】：遵義醫(yī)科大學(xué)貴州省

【文章頁數(shù)】：61 頁

【學(xué)位級別】：碩士

【部分圖文】：

偏側(cè)咀嚼簡易圖

遵義醫(yī)科大學(xué)碩士學(xué)位論文汪益益10眶耳平面與地平面平行。所有患者均在同一條件下拍攝，以上均由同一醫(yī)生拍攝。（3）拍攝條件：管電壓：85kV；管電流：13mA；曝光時間10s；焦點(diǎn)-膠片距離175cm，焦點(diǎn)-物體距離152cm，圖像放大率14%。（4）拍攝地點(diǎn)：本院放射科拍片室。（5）確定標(biāo)志點(diǎn)及平面：拍攝的頭顱右側(cè)位片導(dǎo)入Uceph(中國)軟件進(jìn)行定點(diǎn)（耳點(diǎn)、眶點(diǎn)、頦下點(diǎn)）、確定FH平面和下頜平面，向上平移下頜平面與FH平面相交，測量右下角即：下頜平面角FMA（如圖2）。定點(diǎn)3個（表1）、參考平面2個（表2），由研究者本人不同時段定點(diǎn)測量2次取平均值。測量后根據(jù)FMA值分為三類垂直骨面型，分別為：高角組（FMA＞32°）14人，均角組（22°≤FMA≤32°）18人，低角組（FMA＜22°）15人。圖2測量前后頭顱右側(cè)位片F(xiàn)ig.2Frontandbackcraniallateralradiographs表1標(biāo)志點(diǎn)Tab.1Markpoint標(biāo)志點(diǎn)名稱注釋P耳點(diǎn)外耳道之最上點(diǎn)O眶點(diǎn)眶下緣之最低點(diǎn)Me頦下點(diǎn)頦部之最下點(diǎn)POMe

遵義醫(yī)科大學(xué)碩士學(xué)位論文汪益益11表2參考平面Tab.1Referenceplane參考平面名稱注釋FH平面眶耳平面MP平面下頜平面耳點(diǎn)與眶點(diǎn)的連線過頦下點(diǎn)與下頜角下緣相切的連線1.2.2拍攝CBCT（1）儀器設(shè)備:意大利NewTomVGCBCT（如圖3）。X射線源為高頻直流；焦點(diǎn)為0.03mm；有效劑量：47μSv，X線發(fā)射時間為3.6秒；掃描時間：18秒；層厚：0.3mm，360度旋轉(zhuǎn)采集圖像，重建時間為60秒，掃描可視范圍為15cm×15cm，計算機(jī)硬盤和光盤共同保存掃描后的數(shù)據(jù)。圖3NewTomVG品牌CBCTFig.3NewTomVGbrandCBCT（2）拍攝方法：由同一個放射專業(yè)醫(yī)生拍攝。拍攝前，囑患者直立，將頦部置于頜托、額部緊貼額柱，橡皮筋固定整個頭部，調(diào)節(jié)頭顱固定裝置及光標(biāo)定位系統(tǒng)；使光

【參考文獻(xiàn)】：
期刊論文
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碩士論文
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本文編號：3607758