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Fe 3 GeTe 2 、CsBi 4 Te 6 的高壓輸運(yùn)性質(zhì)以及MAPbI 3 、VO 2 薄膜的變溫介電性質(zhì)研究

發(fā)布時(shí)間:2021-12-16 18:45
  高壓科學(xué)技術(shù)是凝聚態(tài)物理研究的重要組成部分。隨著近年來(lái)金剛石對(duì)頂砧技術(shù)的不斷改進(jìn),穩(wěn)態(tài)高壓記錄的不斷突破,高壓研究領(lǐng)域獲得了突飛猛進(jìn)的發(fā)展。高壓可以有效地壓縮材料的晶格,改變材料的電子能帶結(jié)構(gòu),使材料的結(jié)構(gòu),輸運(yùn),磁性等等重要的特性發(fā)生改變。研究材料在高壓下物性的變化,不僅可以深入理解材料的本質(zhì),更可能探索全新的物理現(xiàn)象。近年來(lái)高壓下金屬氫的探索,高壓下富氫體系中破紀(jì)錄的高溫超導(dǎo),高壓下鐵基超導(dǎo)體中顯著增強(qiáng)的超導(dǎo)臨界溫度等等令人激動(dòng)的成果,都激勵(lì)著研究者去探尋高壓下豐富新奇的物理。高壓已經(jīng)不單單是一個(gè)極端條件,而是已經(jīng)成為一個(gè)新的維度。基于此,在本文的第一部分,我們研究高壓下材料的結(jié)構(gòu)和電輸運(yùn)特性,兩個(gè)研究?jī)?nèi)容分別為高壓調(diào)控Fe3GeTe2的反;魻栃(yīng)和高壓誘導(dǎo)CsBi4Te6的非常規(guī)超導(dǎo)。薄膜技術(shù)在現(xiàn)代科學(xué)技術(shù)和工業(yè)領(lǐng)域有著重要的應(yīng)用,而薄膜技術(shù)的發(fā)展離不開(kāi)對(duì)薄膜光學(xué)常數(shù)的研究,橢圓偏振光譜法是獲取薄膜精確光學(xué)常數(shù)的重要手段。通過(guò)變溫橢偏光譜研究,可以獲得薄膜隨溫度變化的光學(xué)常數(shù),對(duì)薄膜實(shí)現(xiàn)工業(yè)應(yīng)用具有重要的參考價(jià)值;诖,在本文的第二部分,我們研究了薄膜的變溫橢偏光譜,兩個(gè)研究... 

【文章來(lái)源】:中國(guó)科學(xué)技術(shù)大學(xué)安徽省 211工程院校 985工程院校

【文章頁(yè)數(shù)】:116 頁(yè)

【學(xué)位級(jí)別】:博士

【部分圖文】:

Fe 3 GeTe 2 、CsBi 4 Te 6 的高壓輸運(yùn)性質(zhì)以及MAPbI 3 、VO 2 薄膜的變溫介電性質(zhì)研究


圖1活塞套筒壓機(jī)裝置示意圖

示意圖,金剛石,示意圖,臺(tái)面


多結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)上的改進(jìn)而在??1978年,毛河光和Bell設(shè)計(jì)和研制了?Mao-Bell型金剛石對(duì)頂砧[28],開(kāi)創(chuàng)性地使??用倒角型金剛石,使得金剛石對(duì)頂砧的壓力上限突破了百萬(wàn)大氣壓。近年來(lái)對(duì)金??剛石對(duì)頂砧的設(shè)計(jì)不斷改進(jìn),其壓力上限也在不斷提高,目前雙倒角金剛石對(duì)頂??砧最高壓力記錄已經(jīng)達(dá)到750?GPal29_31]。金剛石對(duì)頂砧壓機(jī)已經(jīng)成為了現(xiàn)代物理??研宄的精細(xì)定量測(cè)量工具。??TA8LE??UPPER?Z??OIAMONO??邊??LOWER??OIAMONO??圖1.2典型金剛石對(duì)頂砧結(jié)構(gòu)示意圖〃7]。??金剛石對(duì)頂砧的典型結(jié)構(gòu)如圖1.2所示,其設(shè)計(jì)的基本原理很簡(jiǎn)單,兩個(gè)金??剛石按相反的方向放置,其小臺(tái)面相互對(duì)頂,產(chǎn)生高壓。根據(jù)壓強(qiáng)的基本公式:??P?=?F/S?(1.1)??在相同的作用力下,減小金剛石臺(tái)面的尺寸可以在對(duì)頂?shù)膬蓚(gè)金剛石壓砧之??間產(chǎn)生更大的壓強(qiáng)。單晶金剛石作為壓砧材料具有很多優(yōu)異的性質(zhì),包括其極強(qiáng)??的硬度,可以實(shí)現(xiàn)超高壓力;對(duì)紅外,可見(jiàn)以及紫外光輻射的透過(guò)?,對(duì)X射線(xiàn)透??過(guò);化學(xué)惰性以及對(duì)電磁測(cè)量無(wú)干擾的兼容性等等。金剛石臺(tái)面的大小根據(jù)所需??3??

金剛石,外貌,圖片


?第一章緒論???求的高壓范圍,一般從幾十微米到幾毫米不等。對(duì)于一個(gè)單平面的金剛石壓砧,??可以實(shí)現(xiàn)120GPa的超高壓力。而對(duì)于倒角型的金剛石壓砧,如圖1.3?(a)所示,??由于可以實(shí)現(xiàn)壓力的緩沖效應(yīng),可以達(dá)到300-400?GPa的超高壓力132,33]。??(a)/y/?/1?\?(b)s^〇〇j^??(1??//?beveled?diamond?anvil??圖1.3各種類(lèi)型金剛石壓砧和底座[2】。??,M?'??圖1.4金剛石對(duì)頂砧壓機(jī)外貌圖片。??金剛石對(duì)頂砧的實(shí)驗(yàn)操作過(guò)程如下,首先對(duì)碳化鎢的底座和金剛石的表面進(jìn)??行清潔,將清潔好的金剛石通過(guò)黑膠或者AB膠固定在碳化鎢底座上,碳化鎢底??座則通過(guò)螺絲固定在壓機(jī)外套筒裝置上。在高壓下要求兩塊金剛石砧面平行對(duì)頂,??否則不僅無(wú)法加壓,而且很容易造成兩塊金剛石的破損。因此對(duì)金剛石砧面平行??的調(diào)節(jié)和檢查至關(guān)重要,這里使用的檢測(cè)方法為光的等厚干涉方法。完成前面的??4??

【參考文獻(xiàn)】:
期刊論文
[1]TPP-1型橢圓偏振光譜儀[J]. 江任榮,陳樹(shù)光,葉賢京,莫黨.  儀器儀表學(xué)報(bào). 1983(04)
[2]用光譜法研究砷離子注入硅的退火[J]. 林樹(shù)漢,莫黨.  半導(dǎo)體學(xué)報(bào). 1982(05)
[3]Si-SiO2膜的橢圓偏振光譜[J]. 莫黨,陳樹(shù)光,余玉貞,黃炳忠.  物理學(xué)報(bào). 1980(05)
[4]橢偏光儀和薄膜測(cè)量[J]. 莫黨,朱雅新.  物理. 1977(03)



本文編號(hào):3538641

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