H 2 、D 2 和N 2 分子動力學(xué)參數(shù)的非彈性X射線散射研究
發(fā)布時(shí)間:2021-03-04 01:06
原子與分子的激發(fā)和退激發(fā)現(xiàn)象普遍存在于核聚變、等離子體、星際空間、行星大氣和化學(xué)反應(yīng)過程中。研究原子與分子的激發(fā)性質(zhì)對等離子體物理、天體物理、物理化學(xué)等學(xué)科的發(fā)展具有重要的意義。原子與分子的激發(fā)性質(zhì)包括能級結(jié)構(gòu)和動力學(xué)特性,后者常用動力學(xué)參數(shù)描述,包含著電子的初、末態(tài)波函數(shù)的信息。在原子與分子物理學(xué)科,動力學(xué)參數(shù)主要以截面、振子強(qiáng)度或者形狀因子平方等形式表示。隨著現(xiàn)代譜學(xué)技術(shù)的發(fā)展,能級結(jié)構(gòu)的測量已經(jīng)能夠?qū)崿F(xiàn)非常高的精度(<10-16)。但是,動力學(xué)參數(shù)的測量精度卻往往不到百分之五。同時(shí),實(shí)驗(yàn)和理論方法提供的原子和分子動力學(xué)參數(shù)基準(zhǔn)數(shù)據(jù)非常有限。因此,發(fā)展新的實(shí)驗(yàn)技術(shù),交叉檢驗(yàn)原子與分子動力學(xué)參數(shù)的基準(zhǔn)數(shù)據(jù),以及提供此前尚未研究的原子分子動力學(xué)參數(shù),具有重要的科學(xué)意義。研究原子與分子動力學(xué)參數(shù)的實(shí)驗(yàn)方法主要有光學(xué)方法、電子散射方法、離子碰撞方法和X射線散射方法等。其中,X射線散射方法在原子分子物理領(lǐng)域是新興的實(shí)驗(yàn)方法,本課題組于2009年首次將這一方法用于原子與分子動力學(xué)參數(shù)研究。在此基礎(chǔ)上,本課題組發(fā)展了 dipole(γ,γ)方法,用于獲取原子與分子的光學(xué)振子強(qiáng)度的基準(zhǔn)數(shù)據(jù)。...
【文章來源】:中國科學(xué)技術(shù)大學(xué)安徽省 211工程院校 985工程院校
【文章頁數(shù)】:94 頁
【學(xué)位級別】:博士
【部分圖文】:
圖1.2非彈性X射線散射的研宄范圍??隨著上世紀(jì)五十年代旋轉(zhuǎn)陽極X射線管的出現(xiàn),非彈性X射線散射技術(shù)開??始活躍起來
-.,表2.1。整個(gè)光學(xué)系統(tǒng)由五個(gè)部分構(gòu)成:高熱負(fù)載的Si?(111)雙晶單色器(double???crystal?monochromator,?DCM)、?準(zhǔn)直鏡?(collimating?mirror,?CM)、?尚分辨單色器??(high-resolution?monochromator,?HRM)、相位延遲板(phase?retarding?plate,?PRP)和??聚焦鏡(focusing?mirror,FM)。從SPring-8波蕩器產(chǎn)生的X射線在5?35?keV的??能量范圍內(nèi)可調(diào),本論文實(shí)驗(yàn)使用的X射線能量在10?keV附近。X射線通過雙??晶單色器和高分辨單色器逐級單色,到達(dá)樣品處。準(zhǔn)直鏡可以有效減少進(jìn)入高分??辨單色器的光束發(fā)散度,增加高分辨單色器的光通量。同時(shí),準(zhǔn)直鏡可以消除高??次諧波的影響。相位延遲板的作用是產(chǎn)生圓偏振光,類似于激光實(shí)驗(yàn)中將線偏??光變成圓偏光的i/4波片。相位延遲板會減弱入射光的流強(qiáng),本論文實(shí)驗(yàn)并不使??用。聚焦鏡可以壓縮入射X射線的光斑大小。經(jīng)過聚焦鏡,X射線在樣品處的??21Q
?第2章非彈性X射線散射方法與原子分子動力學(xué)參數(shù)???⑷?預(yù)聚焦鏡?K-B鏡??24?pm?菸,一?V?^?…一??L?狹縫?k_^^.??d??^?23m?1??目隹咢?hj.,m?,〇-38Mm??38〇Mm?t?巴爺?T??190Mm??卜?I— ̄—二'??—'^-I-——n,m——+—5m?—4叫?7卻m??圖2.2上海光源SSRF的BL15U線站整體結(jié)構(gòu)示意圖。(a)側(cè)視圖;(b)俯視圖??表2.2上海光源SSRF的BL15U線站的主要性能指標(biāo)??X射線能量范圍??10?keV??能量分辨?4£/£??1.4XUT4?Si(lll)??樣品處光斑尺寸??300x200"m2?(HxV)??光子通量@10keV? ̄?I0uphs/sec?樣品處??2.3.2單色器??從波蕩器產(chǎn)生的X射線帶寬通常很大,而大多數(shù)實(shí)驗(yàn)對入射光的能量分辨??要求較高。單色器的作用是調(diào)節(jié)入射光的能量,并且減少入射光的帶寬。單色器??通過晶體Bragg衍射來實(shí)現(xiàn)其功能。經(jīng)過Bragg衍射的X射線波長A滿足:??nk?=?ldsindB?(2.36)??d為晶體的晶面間距,h為入射光與晶面的夾角,也稱為Bragg角,m為任意正??整數(shù)。??X射線照射在晶體上會產(chǎn)生很大的熱負(fù)載,能夠在較大的熱負(fù)載下滿足完??美晶體條件的材質(zhì)并不多,常用的材質(zhì)有Si、Ge、Diamond等。晶體的晶面間距??與晶體的材質(zhì)和晶面系數(shù)有關(guān):??d?=?d〇?-?(2.37)??\/k2?+?l2?+?m2??%為晶格常數(shù)。以Si晶體為例,我們常用Si?(W/71)表示所選晶體的材質(zhì)和晶面??系數(shù)。從單色器出射的單能
本文編號:3062284
【文章來源】:中國科學(xué)技術(shù)大學(xué)安徽省 211工程院校 985工程院校
【文章頁數(shù)】:94 頁
【學(xué)位級別】:博士
【部分圖文】:
圖1.2非彈性X射線散射的研宄范圍??隨著上世紀(jì)五十年代旋轉(zhuǎn)陽極X射線管的出現(xiàn),非彈性X射線散射技術(shù)開??始活躍起來
-.,表2.1。整個(gè)光學(xué)系統(tǒng)由五個(gè)部分構(gòu)成:高熱負(fù)載的Si?(111)雙晶單色器(double???crystal?monochromator,?DCM)、?準(zhǔn)直鏡?(collimating?mirror,?CM)、?尚分辨單色器??(high-resolution?monochromator,?HRM)、相位延遲板(phase?retarding?plate,?PRP)和??聚焦鏡(focusing?mirror,FM)。從SPring-8波蕩器產(chǎn)生的X射線在5?35?keV的??能量范圍內(nèi)可調(diào),本論文實(shí)驗(yàn)使用的X射線能量在10?keV附近。X射線通過雙??晶單色器和高分辨單色器逐級單色,到達(dá)樣品處。準(zhǔn)直鏡可以有效減少進(jìn)入高分??辨單色器的光束發(fā)散度,增加高分辨單色器的光通量。同時(shí),準(zhǔn)直鏡可以消除高??次諧波的影響。相位延遲板的作用是產(chǎn)生圓偏振光,類似于激光實(shí)驗(yàn)中將線偏??光變成圓偏光的i/4波片。相位延遲板會減弱入射光的流強(qiáng),本論文實(shí)驗(yàn)并不使??用。聚焦鏡可以壓縮入射X射線的光斑大小。經(jīng)過聚焦鏡,X射線在樣品處的??21Q
?第2章非彈性X射線散射方法與原子分子動力學(xué)參數(shù)???⑷?預(yù)聚焦鏡?K-B鏡??24?pm?菸,一?V?^?…一??L?狹縫?k_^^.??d??^?23m?1??目隹咢?hj.,m?,〇-38Mm??38〇Mm?t?巴爺?T??190Mm??卜?I— ̄—二'??—'^-I-——n,m——+—5m?—4叫?7卻m??圖2.2上海光源SSRF的BL15U線站整體結(jié)構(gòu)示意圖。(a)側(cè)視圖;(b)俯視圖??表2.2上海光源SSRF的BL15U線站的主要性能指標(biāo)??X射線能量范圍??10?keV??能量分辨?4£/£??1.4XUT4?Si(lll)??樣品處光斑尺寸??300x200"m2?(HxV)??光子通量@10keV? ̄?I0uphs/sec?樣品處??2.3.2單色器??從波蕩器產(chǎn)生的X射線帶寬通常很大,而大多數(shù)實(shí)驗(yàn)對入射光的能量分辨??要求較高。單色器的作用是調(diào)節(jié)入射光的能量,并且減少入射光的帶寬。單色器??通過晶體Bragg衍射來實(shí)現(xiàn)其功能。經(jīng)過Bragg衍射的X射線波長A滿足:??nk?=?ldsindB?(2.36)??d為晶體的晶面間距,h為入射光與晶面的夾角,也稱為Bragg角,m為任意正??整數(shù)。??X射線照射在晶體上會產(chǎn)生很大的熱負(fù)載,能夠在較大的熱負(fù)載下滿足完??美晶體條件的材質(zhì)并不多,常用的材質(zhì)有Si、Ge、Diamond等。晶體的晶面間距??與晶體的材質(zhì)和晶面系數(shù)有關(guān):??d?=?d〇?-?(2.37)??\/k2?+?l2?+?m2??%為晶格常數(shù)。以Si晶體為例,我們常用Si?(W/71)表示所選晶體的材質(zhì)和晶面??系數(shù)。從單色器出射的單能
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