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脈沖電流快速退火對NiFe/FeMn薄膜磁性能的影響

發(fā)布時間:2021-06-05 10:33
  電子設(shè)備集成化、微型化的發(fā)展趨勢下,在GHz頻段表現(xiàn)出的優(yōu)異動態(tài)磁特性的鐵磁薄膜材料,在抗電磁干擾、微波吸收器件等高頻領(lǐng)域備受青睞。通過鐵磁薄膜各向異性的調(diào)節(jié),而進一步提高其共振頻率一直是本領(lǐng)域的研究者的重要方向之一。基于鐵磁/反鐵磁交換耦合的交換偏置薄膜相比于鐵磁薄膜引入了單向各向異性和旋轉(zhuǎn)各向異性,因此其具備更好的可調(diào)控性。本文以[NiFe(15 nm)/FeMn(10 nm)]交換偏置雙層膜為研究對象,重點開展脈沖電流快速退火對其磁性能,特別是其旋轉(zhuǎn)各向異性及共振頻率的影響。主要取得了如下結(jié)果:1.成功搭建了磁性薄膜脈沖電流快速退火平臺,包括真空退火爐、直流電源和脈沖電流發(fā)生裝置;退火過程中本底真空優(yōu)于1×10-4 Pa;通過電容器基脈沖電流發(fā)生裝置可以較為精確地控制樣品通電時間在0.1 s以內(nèi),且不受直流源限制電流的影響,可以實現(xiàn)樣品的溫度在室溫1000℃范圍內(nèi)調(diào)整。2.在反向磁場中,4045 V臨界退火電壓時成功制備不飽和磁化翻轉(zhuǎn)的交換偏置薄膜樣品,通過振動樣品磁強計測量發(fā)現(xiàn)其交換偏置場靜態(tài)各向異性場達到了最小... 

【文章來源】:西南科技大學(xué)四川省

【文章頁數(shù)】:127 頁

【學(xué)位級別】:博士

【部分圖文】:

脈沖電流快速退火對NiFe/FeMn薄膜磁性能的影響


B摻雜量對FeGaB薄膜磁性能的影響[38]

測試曲線,磁化強度,薄膜,厚度


第一章緒論3圖1-1B摻雜量對FeGaB薄膜磁性能的影響[38](2)鐵氧體薄膜較高的飽和磁化強度、磁導(dǎo)率和介電常數(shù)以及低損耗等特性是亞鐵材料鐵氧體所具有的特征[45-46]。盡管研究發(fā)現(xiàn)鐵氧體材料的飽和磁化強度總體上略低于磁性金屬合金薄膜,但其在較低的頻率范圍內(nèi)可以較好的控制渦流損耗。由于其磁性能比金屬磁性薄膜材料較差,直到最近,迅猛發(fā)展的無線電通訊技術(shù)等技術(shù)使得該材料逐漸吸引了研究者的注意[47]。鐵氧體材料應(yīng)用于超高頻范圍,始于Snoek對它的系統(tǒng)研究[48]。MrugeseDesai等人采用磁控濺射的方法制備Ni-Zn薄膜,研究其磁性能和微結(jié)構(gòu)受退火溫度影響及機制,發(fā)現(xiàn)在退火溫度600℃時,尖晶石相開始明顯出現(xiàn),相比于塊體Ni-Zn材料,Ni-Zn薄膜的飽和磁化強度只有塊體的60%左右[49]。Matsushita研究團隊發(fā)現(xiàn)Ni-Zn薄膜的初始實部磁導(dǎo)率~45,共振頻率遠高于塊體值(1.2GHz),突破了Snoek極限[50]。在國內(nèi),電子科技大學(xué)研究學(xué)者通過退火,使得它們制備的YIG薄膜展現(xiàn)了高達1770Oe的飽和磁化強度[51](圖1-2)。最近,蘭州大學(xué)的研究者采用激光脈沖沉積(PLD)技術(shù),以單晶MgO(001)為襯底,通過薄膜生長溫度調(diào)控,高質(zhì)量的LiFe5O8鐵氧體薄膜薄膜被成功制備,發(fā)現(xiàn)磁電阻測試曲線的角度依賴可能歸因于自旋霍爾磁電阻;采用鐵磁共振測試的辦法發(fā)現(xiàn)外電場可以對該薄膜的磁性進行非易失性的調(diào)控,使得該鐵氧體材料的正負剩余極化狀態(tài)下的鐵磁共振場之間的差值達到250Oe左右[52]。圖1-2YIG薄膜厚度對飽和磁化強度的影響[51]

磁性能,薄膜,流量,鐵磁


中成功制備了FeHfNO磁性顆粒薄膜,發(fā)現(xiàn)這種制備方法極大的改善了薄膜的高頻磁性能,其飽和磁化強度達到約10KG,同時電阻率也比較大[55],如圖1-3所示。同期,電子科技大學(xué)的研究學(xué)者同樣采用反應(yīng)磁控濺射的技術(shù),制備了磁性納米多層顆粒膜FeCoB/SiO2,發(fā)現(xiàn)其具有很好的高頻性能[56]。國內(nèi)研究者也在氧氣氛下制備了FeCoHfO薄膜,在氧分壓約為5.1%時獲得了最佳性能顆粒膜結(jié)構(gòu),晶粒平均大小約為9nm。此時該顆粒薄膜的飽和磁化強度達到18.3kG,同時電阻率高達2675Ω/cm,共振頻率是3.1GHz,初始磁導(dǎo)率達到300[57]。圖1-3N2流量對FeHfN薄膜磁性能的影響[55](4)磁性多層膜單層磁性金屬膜和顆粒膜均很兼顧共振頻率和飽和磁化強度[58]。因而,研究者開始關(guān)注制備磁性多層薄膜,包括鐵磁/鐵磁[59]、反鐵磁/鐵磁[60]、鐵磁/非磁[61]等幾種結(jié)構(gòu)形式。納米磁性多層膜的高頻磁特性可以通過改變磁性層、非磁性層各自的的膜厚和它們之間的比例進行較大范圍的調(diào)控。上世紀八九十年代Senda等就制備了系列[Fe-SiO2]n納米磁性多層膜材料與其單層膜進行對比,發(fā)現(xiàn)面內(nèi)各向異性受到層間界面效應(yīng)抑制的問題可以通過多層膜體系得到解決,因為其在減小晶粒尺寸、降低矯頑場方面有特定的優(yōu)勢[62-63]。國內(nèi)有研究者探索FeCoSi/MnIr/FeCoSi三層膜的高頻磁學(xué)性能[64-65],發(fā)現(xiàn)單層的FeCoSi薄膜,其鐵磁共振頻率最大為3.4GHz;而其相應(yīng)的多層結(jié)構(gòu)的鐵磁共振頻率最大可至8.2GHz。近年本課題組制備了多周期的Ta/[NiFe(15nm)/FeMn(t)]n/Ta交換偏置多層膜并研究反鐵磁層厚度對該多層膜的性質(zhì)影響,發(fā)現(xiàn)與單周期交換偏置多層膜相比進一步提高了NiFe/FeMn薄膜的高頻性能[20,66]。當tAF為4nm時,鐵磁共振頻率最大可以提升到4.02GHz。并且發(fā)現(xiàn)在?

【參考文獻】:
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本文編號:3212001

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