3,4,9,10-苝四甲酸二酐基儲(chǔ)能新材料的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)與調(diào)控及其性能研究
發(fā)布時(shí)間:2020-12-15 10:32
設(shè)計(jì)與開(kāi)發(fā)高性能電化學(xué)儲(chǔ)能的新能源材料和器件對(duì)于緩解環(huán)境污染、解決能源危機(jī)具有重要意義。超級(jí)電容器是一類(lèi)功率密度高、充放電速率快的新型電化學(xué)儲(chǔ)能器件,然而能量存儲(chǔ)密度低一直是限制其發(fā)展與應(yīng)用的瓶頸問(wèn)題。對(duì)碳材料進(jìn)行孔結(jié)構(gòu)優(yōu)化或引入雜原子摻雜以提升其作為電極材料的電容性能,或通過(guò)將碳電極與贗電容型或電池型電極的匹配,以提高超級(jí)電容器器件的能量密度是目前研究熱點(diǎn)。近年來(lái),由于具有可設(shè)計(jì)的框架結(jié)構(gòu),可有效調(diào)控孔結(jié)構(gòu)及引入雜原子或金屬中心,多孔有機(jī)骨架(POFs)和金屬有機(jī)骨架(MOFs)等多孔骨架化合物成為摻雜多孔碳、金屬氧化物或硫化物等電極材料的重要前驅(qū)體而備受關(guān)注。3,4,9,10-苝四甲酸二酐(PTCDA),是一種染料中間體,其酰亞胺衍生物是重要的苝系染料。PTCDA具有稠環(huán)π共軛骨架和豐富的活性基團(tuán)等特點(diǎn),在有機(jī)太陽(yáng)能電池、納米電子學(xué)、鋰/鈉離子電池有機(jī)電極材料等方面具有良好的應(yīng)用前景。然而,PTCDA及其衍生物的半導(dǎo)體性質(zhì)還不能滿足超級(jí)電容器快速充放電機(jī)制對(duì)電極材料導(dǎo)電性的高要求,限制了其在超級(jí)電容器領(lǐng)域的應(yīng)用。鑒于PTCDA的結(jié)構(gòu)特點(diǎn),將其作為單體或配體形成POFs或MOFs多孔...
【文章來(lái)源】:東華大學(xué)上海市 211工程院校 教育部直屬院校
【文章頁(yè)數(shù)】:141 頁(yè)
【學(xué)位級(jí)別】:博士
【部分圖文】:
電化學(xué)儲(chǔ)能系統(tǒng)的Ragone圖[1]
東華大學(xué)博士學(xué)位論文4圖1.2雙電層電容器儲(chǔ)能機(jī)理示意圖[8]Figure1.2SchematicofenergystoragemechanismforanEDLC.[8]基于EDLC的比電容可以由公式1-2計(jì)算:=)*×(式1-2)其中,,*,)和分別代表雙電層的德拜長(zhǎng)度、真空介電常數(shù)、電解質(zhì)的介電常數(shù)和電極的比表面積。從公式1-2可以看出,比電容與電極的比表面積相關(guān)。然而,實(shí)際上目前已經(jīng)有大量的研究探索了比表面積與電容之間的關(guān)系,預(yù)期的線性關(guān)系在技術(shù)上并不能完全實(shí)現(xiàn)[9-11]。這主要是因?yàn)殡x子尺寸等空間因素造成電極表面上的亞微孔的不可接近性,導(dǎo)致電極的子微孔對(duì)雙電層的形成沒(méi)有貢獻(xiàn)。如Raymundo-Pinero等[3]報(bào)道了微孔對(duì)總電容的影響,發(fā)現(xiàn)適當(dāng)?shù)目讖揭雀叩谋缺砻娣e更加重要。但對(duì)于碳基電極中小于1nm的孔徑對(duì)比電容的影響,報(bào)道結(jié)果不一致,相關(guān)機(jī)理仍在進(jìn)一步探索中[12-16]。根據(jù)公式1-1可知,提高雙電層電容器的能量密度可以通過(guò)兩種方法:一是選擇高比電容的電極材料;另一方面可以擴(kuò)大電壓窗口。電壓窗口一般主要決定于所使用電解液的穩(wěn)定電壓范圍。利用非水系電解質(zhì)能夠擴(kuò)大電壓窗口,例如雙電層電容器用乙腈基電解液,電壓窗口可達(dá)到2.7V左右。相對(duì)地,水系電解液就表現(xiàn)出有限的電壓窗口,約1V左右。然而,盡管已經(jīng)取得了一些進(jìn)步,雙電層電容器依然未能從根本上改變其僅依靠靜電吸引來(lái)存儲(chǔ)電荷的機(jī)制限制,以及能量密度偏低的問(wèn)題。1.2.3.2贗電容器
東華大學(xué)博士學(xué)位論文5Conway研究總結(jié)出三種引起贗電容的法拉第機(jī)制,如圖1.3所示,包括欠電位沉積(UnderpotentialDeposition)、氧化還原贗電容(RedoxPseudocapacitance)(如RuO2·nH2O)以及插層贗電容(IntercalationPseudocapacitance)。第一種情況,在金屬電極表面,由電解液金屬離子吸附一層單分子層,造成電極電勢(shì)大于氧化還原電勢(shì)時(shí),欠電位沉積發(fā)生。典型例子是在金表面欠電位沉積鉛層[17]。第二種是發(fā)生氧化還原贗電容時(shí),電解液離子被吸附在電極表面,伴隨著法拉第電荷的轉(zhuǎn)移。第三種情況是當(dāng)電解液離子插入活性物質(zhì)的插層或孔道中時(shí),伴隨著法拉第電荷的轉(zhuǎn)移,產(chǎn)生插層贗電容,但不發(fā)生晶體的相變。圖1.3不同贗電容的產(chǎn)生機(jī)制:(a)欠電位沉積;(b)氧化還原贗電容;(c)插層贗電容[8]Figure1.3Mechanismsofdifferentpseudocapacitance:(a)underpotentialdeposition,(b)redoxpseudo-capacitance,and(c)intercalationpseudocapacitance.[8]雖然這三種機(jī)制是不同類(lèi)型材料基于各自的物理過(guò)程發(fā)生的,但它們?cè)陔姌O與電解質(zhì)界面發(fā)生的吸附和解吸過(guò)程所產(chǎn)生的電位與電荷的程度之間都符合以下關(guān)系[18]:~+,-./ln.0"10/(式1-3)其中,是理想氣體常數(shù)(8.314Jmol-1K-1),為法拉第常數(shù)(96485Cmol-1),表示電勢(shì)(V),表示溫度(K),為電子數(shù),表示電極表面或內(nèi)部結(jié)構(gòu)的覆蓋程度分?jǐn)?shù)。在公式1-3中,電容(C,F(xiàn)g-1)為vs.圖中的線性區(qū)域:=../2/03(式1-4)其中,是活性物質(zhì)的分子量。由于在這種電容器中,vs.圖并不完全是線性的,也就是說(shuō)比電容并不總是常數(shù),因此它被定義為“贗電容”。
【參考文獻(xiàn)】:
期刊論文
[1]Synthesis and Characterization of Nickel Nanorods Transferred from HydrotheraUy Decomposed Rod-like NiS[J]. Yu LUO Jiancheng ZHANG Yue SHEN Shutao JIANG Guoyong LIU School of Materials Science and Engineering,Shanghai University,Shanghai 200072,China. Journal of Materials Science & Technology. 2007(05)
本文編號(hào):2918126
【文章來(lái)源】:東華大學(xué)上海市 211工程院校 教育部直屬院校
【文章頁(yè)數(shù)】:141 頁(yè)
【學(xué)位級(jí)別】:博士
【部分圖文】:
電化學(xué)儲(chǔ)能系統(tǒng)的Ragone圖[1]
東華大學(xué)博士學(xué)位論文4圖1.2雙電層電容器儲(chǔ)能機(jī)理示意圖[8]Figure1.2SchematicofenergystoragemechanismforanEDLC.[8]基于EDLC的比電容可以由公式1-2計(jì)算:=)*×(式1-2)其中,,*,)和分別代表雙電層的德拜長(zhǎng)度、真空介電常數(shù)、電解質(zhì)的介電常數(shù)和電極的比表面積。從公式1-2可以看出,比電容與電極的比表面積相關(guān)。然而,實(shí)際上目前已經(jīng)有大量的研究探索了比表面積與電容之間的關(guān)系,預(yù)期的線性關(guān)系在技術(shù)上并不能完全實(shí)現(xiàn)[9-11]。這主要是因?yàn)殡x子尺寸等空間因素造成電極表面上的亞微孔的不可接近性,導(dǎo)致電極的子微孔對(duì)雙電層的形成沒(méi)有貢獻(xiàn)。如Raymundo-Pinero等[3]報(bào)道了微孔對(duì)總電容的影響,發(fā)現(xiàn)適當(dāng)?shù)目讖揭雀叩谋缺砻娣e更加重要。但對(duì)于碳基電極中小于1nm的孔徑對(duì)比電容的影響,報(bào)道結(jié)果不一致,相關(guān)機(jī)理仍在進(jìn)一步探索中[12-16]。根據(jù)公式1-1可知,提高雙電層電容器的能量密度可以通過(guò)兩種方法:一是選擇高比電容的電極材料;另一方面可以擴(kuò)大電壓窗口。電壓窗口一般主要決定于所使用電解液的穩(wěn)定電壓范圍。利用非水系電解質(zhì)能夠擴(kuò)大電壓窗口,例如雙電層電容器用乙腈基電解液,電壓窗口可達(dá)到2.7V左右。相對(duì)地,水系電解液就表現(xiàn)出有限的電壓窗口,約1V左右。然而,盡管已經(jīng)取得了一些進(jìn)步,雙電層電容器依然未能從根本上改變其僅依靠靜電吸引來(lái)存儲(chǔ)電荷的機(jī)制限制,以及能量密度偏低的問(wèn)題。1.2.3.2贗電容器
東華大學(xué)博士學(xué)位論文5Conway研究總結(jié)出三種引起贗電容的法拉第機(jī)制,如圖1.3所示,包括欠電位沉積(UnderpotentialDeposition)、氧化還原贗電容(RedoxPseudocapacitance)(如RuO2·nH2O)以及插層贗電容(IntercalationPseudocapacitance)。第一種情況,在金屬電極表面,由電解液金屬離子吸附一層單分子層,造成電極電勢(shì)大于氧化還原電勢(shì)時(shí),欠電位沉積發(fā)生。典型例子是在金表面欠電位沉積鉛層[17]。第二種是發(fā)生氧化還原贗電容時(shí),電解液離子被吸附在電極表面,伴隨著法拉第電荷的轉(zhuǎn)移。第三種情況是當(dāng)電解液離子插入活性物質(zhì)的插層或孔道中時(shí),伴隨著法拉第電荷的轉(zhuǎn)移,產(chǎn)生插層贗電容,但不發(fā)生晶體的相變。圖1.3不同贗電容的產(chǎn)生機(jī)制:(a)欠電位沉積;(b)氧化還原贗電容;(c)插層贗電容[8]Figure1.3Mechanismsofdifferentpseudocapacitance:(a)underpotentialdeposition,(b)redoxpseudo-capacitance,and(c)intercalationpseudocapacitance.[8]雖然這三種機(jī)制是不同類(lèi)型材料基于各自的物理過(guò)程發(fā)生的,但它們?cè)陔姌O與電解質(zhì)界面發(fā)生的吸附和解吸過(guò)程所產(chǎn)生的電位與電荷的程度之間都符合以下關(guān)系[18]:~+,-./ln.0"10/(式1-3)其中,是理想氣體常數(shù)(8.314Jmol-1K-1),為法拉第常數(shù)(96485Cmol-1),表示電勢(shì)(V),表示溫度(K),為電子數(shù),表示電極表面或內(nèi)部結(jié)構(gòu)的覆蓋程度分?jǐn)?shù)。在公式1-3中,電容(C,F(xiàn)g-1)為vs.圖中的線性區(qū)域:=../2/03(式1-4)其中,是活性物質(zhì)的分子量。由于在這種電容器中,vs.圖并不完全是線性的,也就是說(shuō)比電容并不總是常數(shù),因此它被定義為“贗電容”。
【參考文獻(xiàn)】:
期刊論文
[1]Synthesis and Characterization of Nickel Nanorods Transferred from HydrotheraUy Decomposed Rod-like NiS[J]. Yu LUO Jiancheng ZHANG Yue SHEN Shutao JIANG Guoyong LIU School of Materials Science and Engineering,Shanghai University,Shanghai 200072,China. Journal of Materials Science & Technology. 2007(05)
本文編號(hào):2918126
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