本文以AA1060純鋁作為基體材料,用自制的WH-1A型電源控制裝置制備等離子電解氧化(PEO)膜層,既研究了在NaAlO2電解液中加入不同濃度(0、2和4 g/L)二氧化硅納米顆粒(n-SiO2)添加劑和采用不同處理時(shí)間(15 min和30 min)對(duì)制備的PEO膜層結(jié)構(gòu)和耐蝕性的影響,也研究了分別在Na2SiO3電解液或(NaPO3)6電解液中添加n-SiO2顆粒對(duì)所制得PEO膜層結(jié)構(gòu)和耐蝕性的影響。本論文是通過(guò)對(duì)比和分析PEO過(guò)程的電壓-時(shí)間曲線、物相組成、表面形貌及元素分布、表面粗糙度、剝離斷面形貌及元素分布和內(nèi)表面形貌來(lái)研究膜層結(jié)構(gòu)的,是通過(guò)對(duì)比和分析動(dòng)電位極化曲線和電化學(xué)交流阻抗譜來(lái)研究膜層耐蝕性的。研究結(jié)果表明:在電解液中加入n-SiO2顆粒會(huì)縮短PEO過(guò)程I階段的時(shí)間,提高擊穿電壓和PEO全過(guò)程的工作電壓;n-SiO2顆粒會(huì)參與膜層的生成,與膜層中的γ-Al2O3相反應(yīng)生成莫來(lái)石相,抑制α-Al2O3相的形成;n-SiO2顆粒參與膜層的生長(zhǎng)過(guò)程后,會(huì)提高膜層表面和內(nèi)部的Si元素的含量,有利于膜層表面孔洞的減少,也有利于多孔結(jié)節(jié)狀形貌向薄餅結(jié)構(gòu)形貌轉(zhuǎn)變,有利于膜層厚度的增...

【文章頁(yè)數(shù)】：63 頁(yè)

【學(xué)位級(jí)別】：碩士

【文章目錄】：
摘要
Abstract
第1章 緒論
    1.1 課題背景
    1.2 等離子電解氧化技術(shù)
        1.2.1 等離子電解氧化簡(jiǎn)介
        1.2.2 等離子電解氧化技術(shù)的發(fā)展歷程及研究現(xiàn)狀
        1.2.3 等離子電解氧化的基本機(jī)理和放電模型
    1.3 等離子電解氧化過(guò)程的影響因素
        1.3.1 基體材料對(duì)等離子電解氧化膜層的影響
        1.3.2 電解液對(duì)等離子電解氧化膜層的影響
        1.3.3 電參數(shù)對(duì)等離子電解氧化膜層的影響
    1.4 本文的主要內(nèi)容
第2章 實(shí)驗(yàn)材料以及研究方法
    2.1 實(shí)驗(yàn)材料
    2.2 實(shí)驗(yàn)方法
        2.2.1 試樣預(yù)處理
        2.2.2 等離子電解氧化膜層的制備
        2.2.3 電化學(xué)剝離等離子電解氧化膜層
    2.3 研究與測(cè)試方法
        2.3.1 電壓-時(shí)間曲線和放電火花形貌采集
        2.3.2 電解液電導(dǎo)率
        2.3.3 物相組成
        2.3.4 掃描微觀形貌和化學(xué)成分
        2.3.5 三維形貌和表面粗糙度
        2.3.6 厚度和膜層特征結(jié)構(gòu)的尺寸測(cè)量
        2.3.7 耐蝕性測(cè)試
    2.4 本章小結(jié)
第3章 納米二氧化硅顆粒對(duì)在鋁酸鈉電解液中制得的等離子電解氧化膜層結(jié)構(gòu)及耐蝕性的影響
    3.1 電壓-時(shí)間曲線和放電火花形貌
    3.2 電解液電導(dǎo)率的變化
    3.3 物相分析
    3.4 膜層的表面形貌和元素分析以及表面粗糙度
        3.4.1 膜層表面形貌及元素分析
        3.4.2 膜層表面粗糙度
    3.5 剝離膜層的折斷截面形貌
    3.6 剝離膜層的內(nèi)表面形貌
    3.7 等離子電解氧化膜層的電化學(xué)特性
        3.7.1 等離子電解氧化膜層的動(dòng)電位極化曲線
        3.7.2 等離子電解氧化膜層的電化學(xué)阻抗譜
    3.8 本章小結(jié)
第4章 納米二氧化硅顆粒對(duì)硅酸鈉電解液和六偏磷酸鈉電解液中制得的等離子電解氧化膜層的影響
    4.1 電壓-時(shí)間曲線
    4.2 物相分析
    4.3 膜層形貌和元素分析
        4.3.1 硅酸鈉電解液中制得膜層的形貌和元素分析
        4.3.2 六偏磷酸鈉電解液中制得膜層的形貌和元素分析
    4.4 膜層的電化學(xué)特性
        4.4.1 膜層的動(dòng)電位極化曲線
        4.4.2 膜層的電化學(xué)阻抗譜
    4.5 本章小結(jié)
結(jié)論
參考文獻(xiàn)
攻讀碩士學(xué)位期間承擔(dān)的科研任務(wù)與主要成果
致謝



本文編號(hào)：3824850