納米二氧化硅對AA1060純鋁等離子電解氧化膜層生長及耐蝕性影響研究
發(fā)布時間:2023-05-30 19:00
本文以AA1060純鋁作為基體材料,用自制的WH-1A型電源控制裝置制備等離子電解氧化(PEO)膜層,既研究了在NaAlO2電解液中加入不同濃度(0、2和4 g/L)二氧化硅納米顆粒(n-SiO2)添加劑和采用不同處理時間(15 min和30 min)對制備的PEO膜層結(jié)構(gòu)和耐蝕性的影響,也研究了分別在Na2SiO3電解液或(NaPO3)6電解液中添加n-SiO2顆粒對所制得PEO膜層結(jié)構(gòu)和耐蝕性的影響。本論文是通過對比和分析PEO過程的電壓-時間曲線、物相組成、表面形貌及元素分布、表面粗糙度、剝離斷面形貌及元素分布和內(nèi)表面形貌來研究膜層結(jié)構(gòu)的,是通過對比和分析動電位極化曲線和電化學交流阻抗譜來研究膜層耐蝕性的。研究結(jié)果表明:在電解液中加入n-SiO2顆粒會縮短PEO過程I階段的時間,提高擊穿電壓和PEO全過程的工作電壓;n-SiO2顆粒會參與膜層的生成,與膜層中的γ-Al2O3相反應生成莫來石相,抑制α-Al2O3相的形成;n-SiO2顆粒參與膜層的生長過程后,會提高膜層表面和內(nèi)部的Si元素的含量,有利于膜層表面孔洞的減少,也有利于多孔結(jié)節(jié)狀形貌向薄餅結(jié)構(gòu)形貌轉(zhuǎn)變,有利于膜層厚度的增...
【文章頁數(shù)】:63 頁
【學位級別】:碩士
【文章目錄】:
摘要
Abstract
第1章 緒論
1.1 課題背景
1.2 等離子電解氧化技術
1.2.1 等離子電解氧化簡介
1.2.2 等離子電解氧化技術的發(fā)展歷程及研究現(xiàn)狀
1.2.3 等離子電解氧化的基本機理和放電模型
1.3 等離子電解氧化過程的影響因素
1.3.1 基體材料對等離子電解氧化膜層的影響
1.3.2 電解液對等離子電解氧化膜層的影響
1.3.3 電參數(shù)對等離子電解氧化膜層的影響
1.4 本文的主要內(nèi)容
第2章 實驗材料以及研究方法
2.1 實驗材料
2.2 實驗方法
2.2.1 試樣預處理
2.2.2 等離子電解氧化膜層的制備
2.2.3 電化學剝離等離子電解氧化膜層
2.3 研究與測試方法
2.3.1 電壓-時間曲線和放電火花形貌采集
2.3.2 電解液電導率
2.3.3 物相組成
2.3.4 掃描微觀形貌和化學成分
2.3.5 三維形貌和表面粗糙度
2.3.6 厚度和膜層特征結(jié)構(gòu)的尺寸測量
2.3.7 耐蝕性測試
2.4 本章小結(jié)
第3章 納米二氧化硅顆粒對在鋁酸鈉電解液中制得的等離子電解氧化膜層結(jié)構(gòu)及耐蝕性的影響
3.1 電壓-時間曲線和放電火花形貌
3.2 電解液電導率的變化
3.3 物相分析
3.4 膜層的表面形貌和元素分析以及表面粗糙度
3.4.1 膜層表面形貌及元素分析
3.4.2 膜層表面粗糙度
3.5 剝離膜層的折斷截面形貌
3.6 剝離膜層的內(nèi)表面形貌
3.7 等離子電解氧化膜層的電化學特性
3.7.1 等離子電解氧化膜層的動電位極化曲線
3.7.2 等離子電解氧化膜層的電化學阻抗譜
3.8 本章小結(jié)
第4章 納米二氧化硅顆粒對硅酸鈉電解液和六偏磷酸鈉電解液中制得的等離子電解氧化膜層的影響
4.1 電壓-時間曲線
4.2 物相分析
4.3 膜層形貌和元素分析
4.3.1 硅酸鈉電解液中制得膜層的形貌和元素分析
4.3.2 六偏磷酸鈉電解液中制得膜層的形貌和元素分析
4.4 膜層的電化學特性
4.4.1 膜層的動電位極化曲線
4.4.2 膜層的電化學阻抗譜
4.5 本章小結(jié)
結(jié)論
參考文獻
攻讀碩士學位期間承擔的科研任務與主要成果
致謝
本文編號:3824850
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【學位級別】:碩士
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摘要
Abstract
第1章 緒論
1.1 課題背景
1.2 等離子電解氧化技術
1.2.1 等離子電解氧化簡介
1.2.2 等離子電解氧化技術的發(fā)展歷程及研究現(xiàn)狀
1.2.3 等離子電解氧化的基本機理和放電模型
1.3 等離子電解氧化過程的影響因素
1.3.1 基體材料對等離子電解氧化膜層的影響
1.3.2 電解液對等離子電解氧化膜層的影響
1.3.3 電參數(shù)對等離子電解氧化膜層的影響
1.4 本文的主要內(nèi)容
第2章 實驗材料以及研究方法
2.1 實驗材料
2.2 實驗方法
2.2.1 試樣預處理
2.2.2 等離子電解氧化膜層的制備
2.2.3 電化學剝離等離子電解氧化膜層
2.3 研究與測試方法
2.3.1 電壓-時間曲線和放電火花形貌采集
2.3.2 電解液電導率
2.3.3 物相組成
2.3.4 掃描微觀形貌和化學成分
2.3.5 三維形貌和表面粗糙度
2.3.6 厚度和膜層特征結(jié)構(gòu)的尺寸測量
2.3.7 耐蝕性測試
2.4 本章小結(jié)
第3章 納米二氧化硅顆粒對在鋁酸鈉電解液中制得的等離子電解氧化膜層結(jié)構(gòu)及耐蝕性的影響
3.1 電壓-時間曲線和放電火花形貌
3.2 電解液電導率的變化
3.3 物相分析
3.4 膜層的表面形貌和元素分析以及表面粗糙度
3.4.1 膜層表面形貌及元素分析
3.4.2 膜層表面粗糙度
3.5 剝離膜層的折斷截面形貌
3.6 剝離膜層的內(nèi)表面形貌
3.7 等離子電解氧化膜層的電化學特性
3.7.1 等離子電解氧化膜層的動電位極化曲線
3.7.2 等離子電解氧化膜層的電化學阻抗譜
3.8 本章小結(jié)
第4章 納米二氧化硅顆粒對硅酸鈉電解液和六偏磷酸鈉電解液中制得的等離子電解氧化膜層的影響
4.1 電壓-時間曲線
4.2 物相分析
4.3 膜層形貌和元素分析
4.3.1 硅酸鈉電解液中制得膜層的形貌和元素分析
4.3.2 六偏磷酸鈉電解液中制得膜層的形貌和元素分析
4.4 膜層的電化學特性
4.4.1 膜層的動電位極化曲線
4.4.2 膜層的電化學阻抗譜
4.5 本章小結(jié)
結(jié)論
參考文獻
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致謝
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