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常壓微波駐波放電等離子體降解CF 4 的研究

發(fā)布時(shí)間:2021-01-25 19:12
  四氟化碳(CF4)因其具有廉價(jià)性與較高的碳氟比在半導(dǎo)體和冶鋁工業(yè)、材料改性、刻蝕等領(lǐng)域具有廣泛的應(yīng)用。但是隨著CF4的多方面應(yīng)用,其所帶來(lái)的溫室效應(yīng)不容小覷。由于結(jié)構(gòu)穩(wěn)定,CF4在大氣中的壽命多達(dá)50000年,同時(shí)其全球變暖潛能值(GWP)是二氧化碳的7597倍,是科學(xué)家們重點(diǎn)關(guān)注的強(qiáng)溫室氣體之一。目前,CF4的分解技術(shù)主要有熱分解、催化分解、等離子體分解等幾種應(yīng)用技術(shù)。等離子體分解技術(shù)是近幾十年來(lái)的新興技術(shù),得益于活性基團(tuán)的存在,其具有獨(dú)特的特點(diǎn)和優(yōu)勢(shì)。等離子體可以實(shí)現(xiàn)很多傳統(tǒng)方法無(wú)法完成的反應(yīng),并且已經(jīng)在多領(lǐng)域展現(xiàn)出了較強(qiáng)的應(yīng)用能力。本文所用的微波等離子體由于其功率較高、產(chǎn)生等離子體密度較大,用此技術(shù)分解和轉(zhuǎn)化CF4是一個(gè)非常有效的技術(shù)手段。本研究利用工業(yè)微波源,采用駐波共振方式增強(qiáng)電場(chǎng)強(qiáng)度,產(chǎn)生放電實(shí)現(xiàn)高密度等離子體,在大氣壓條件下實(shí)現(xiàn)了高濃度CF4氣體的分解,采用火焰離子化檢測(cè)儀(FID)、熱導(dǎo)檢測(cè)器(TCD)、質(zhì)譜檢測(cè)儀等對(duì)CF4的分解率、出氣的氣體組成及含量進(jìn)行了測(cè)量分析。實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明,此技術(shù)對(duì)CF4氣體具有較高的分解效率,在最佳的微波功率和進(jìn)氣流量下,CF4的分解率可達(dá)1... 

【文章來(lái)源】:大連海事大學(xué)遼寧省 211工程院校

【文章頁(yè)數(shù)】:88 頁(yè)

【學(xué)位級(jí)別】:碩士

【部分圖文】:

常壓微波駐波放電等離子體降解CF 4 的研究


圖1.4氣體分離膜組件示意圖

示意圖,介質(zhì)阻擋放電,示意圖,介質(zhì)


之一。依據(jù)不同的激發(fā)方式,目前研宄較多的方法主要分??為介質(zhì)阻擋放電、射頻等離子體和微波等離子體三類。??(1)介質(zhì)阻擋放電??介質(zhì)阻擋放電(Dielectric?Barrier?Discharge,?DBD),是一種在放電空間內(nèi)插入絕緣??介質(zhì)的氣體放電,可以在兩個(gè)介質(zhì)間產(chǎn)生大量存在時(shí)間很短的微放電,且由于介質(zhì)的阻??隔,電極不易損壞和被腐蝕[93]。DBD可以在高氣壓和寬頻內(nèi)進(jìn)行工作,是一種頗為成??熟的技術(shù),升級(jí)改造空間大,己經(jīng)被證實(shí)可以去除多種氣體污染物典型的放電結(jié)??構(gòu)如圖1.8所示。??介質(zhì)??高壓電源4?;1質(zhì)?_■電極??電極?丄?\iiiaMAai/??高壓電源@??圖1.8兩種介質(zhì)阻擋放電的結(jié)構(gòu)示意圖??Fig.?1.8?Two?schematic?diagrams?of?dielectric?barrier?discharge??-16?-??

示意圖,等離子體,電感,電容耦合


robe?I?1?|??1''1?‘匕?iL}1:'?'?酉己? ̄?一"了?I?I?j?11111111111111111)?111)?111?:?i?i?[?it:?111)?111111111?j??_??體?、一P=。?^,,r?f?M??一__lr ̄ ̄|??????>?Sho'verhead?丨?J??—」Pump?????1?orifice?;:;?I??了?^nV'?士??1?Mass?spectrometer??(a)?(b)??圖1.10?(a)電感耦合等離子體和(b)電容耦合等離子體的反應(yīng)器[99]結(jié)構(gòu)示意圖??Fig.?1.10?Schematic?diagram?of?(a)?ICP?reactor?and?(b)?CCP?reactor??Toimis?E?J等人利用電感耦合產(chǎn)生的高密度等離子體分解刻蝕廢氣,并以〇2和??H2〇蒸汽作為添加劑。實(shí)驗(yàn)發(fā)現(xiàn),多數(shù)條件下,氟化合物(FCs)的去除率可在95?%以??上。另外他們還發(fā)現(xiàn),輸入功率對(duì)去除效果的影響較大,而氬氣載氣的影響不大。同時(shí),??添加氧氣時(shí)的主要產(chǎn)物為HF、C〇2、COF2、F2;而添加水蒸氣的產(chǎn)物主要為HF和CO。??乂11乂〇等人[1()1]則認(rèn)為,在輸入功率650?\¥、仏與£[4混合進(jìn)氣時(shí),可以去除65%的??CF4,輸入功率的提升、CF4摩爾分?jǐn)?shù)或總氣體流速的降低都有助于提升去除率。??電容耦合等離子體(CCP)與電感耦合等離子體不同,通常是在低壓(1托)條件??下,在平行平板電極上施加射頻功率來(lái)產(chǎn)生等離子體。反應(yīng)器結(jié)構(gòu)如圖1.10?(b)所示。??Liu?G?H等人t1%對(duì)氖和CF4兩種電容


本文編號(hào):2999737

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