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KS氣田天然氣處理工藝技術(shù)研究

發(fā)布時(shí)間:2018-01-03 23:14

  本文關(guān)鍵詞:KS氣田天然氣處理工藝技術(shù)研究 出處:《西南石油大學(xué)》2017年碩士論文 論文類型:學(xué)位論文


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【摘要】:近幾年,國內(nèi)油氣田開發(fā)過程中發(fā)現(xiàn)氣田氣、油田伴生氣氣質(zhì)組成中除了甲烷、乙烷、丙烷等主要輕組分外還含有蠟、苯以及重?zé)N等組分。KS氣田天然氣就屬于這種甲烷含量高、液烴組分少,但含有少量的蠟、重?zé)N及苯類等物質(zhì)的氣質(zhì),這些少量的蠟、重?zé)N及苯等物質(zhì)容易堵塞處理廠中分離設(shè)備,影響處理廠正常生產(chǎn),因此急需解決天然氣中蠟在處理工藝中所帶來的問題。本文主要從以下幾個(gè)主要方面對(duì)KS天然氣處理廠現(xiàn)有問題進(jìn)行分析研究:KS處理廠外輸氣烴析出、貧富液換熱器及低溫分離器運(yùn)行效果差、研究解決KS處理廠分離器堵塞問題以及研究KS氣田天然氣脫蠟脫苯工藝。通過HYSYS軟件對(duì)KS原料氣低溫分離工藝進(jìn)行仿真模擬,得出的結(jié)果表明處理廠外輸氣符合規(guī)范GB17820-2012《天然氣》氣質(zhì)要求,烴露點(diǎn)滿足外輸首站無烴析出,但外輸氣在管道下游會(huì)有烴析出。為解決處理廠外輸氣在管道下游烴析出問題,完善GB17820-2012《天然氣》中烴露點(diǎn)要求存在的不足,將國外烴露點(diǎn)控制要求作為外輸氣烴露點(diǎn)控制依據(jù),采用HYSYS軟件分析原料氣低溫分離后外輸氣相態(tài)圖,發(fā)現(xiàn)歐洲烴露點(diǎn)標(biāo)準(zhǔn)可較好的控制管輸天然氣下游液烴析出問題,在此基礎(chǔ)上建議外輸氣烴露點(diǎn)采用歐洲標(biāo)準(zhǔn),即壓力在0.1~7MPa下、烴露點(diǎn)-2℃作為烴露點(diǎn)要求;對(duì)KS低溫分離工藝進(jìn)行優(yōu)化,建議低溫分離條件為6.9MPa,-31.5℃,可以防止外輸氣烴析出。KS處理廠現(xiàn)場運(yùn)行工況的烴露點(diǎn)不合格,同時(shí)低溫分離器出現(xiàn)堵塞問題。重新校核低溫分離器直徑發(fā)現(xiàn)低溫分離器直徑設(shè)計(jì)值偏小,由于KS低溫分離器所選高效分離元件對(duì)結(jié)垢比較敏感,不適宜處理KS氣質(zhì),因此對(duì)低溫分離器改造優(yōu)化;KS氣田乙二醇循環(huán)再生系統(tǒng)能耗消耗較大,貧富液換熱器換熱效果差,造成醇烴液分離溫度以及MEG富液進(jìn)再生塔溫度低,在優(yōu)化乙二醇再生工藝參數(shù)的基礎(chǔ),采用HTRI換熱軟件優(yōu)選出高效板式換熱器BR1.05-3.0-15.75-Q-I。通過減少KS處理廠低溫分離器處理量,發(fā)現(xiàn)堵塞問題有所緩解,但還會(huì)出現(xiàn)堵塞現(xiàn)象。分析發(fā)現(xiàn)造成分離器堵塞問題的原因在于原料氣中含有蠟、苯等物質(zhì),在低溫條件下黏附在低溫分離器。經(jīng)現(xiàn)場實(shí)驗(yàn),確定以DN氣田凝析油作為防蠟劑來解決堵塞問題,采用HSYSY軟件模擬凝析油注入位置及注入量,并通過現(xiàn)場注凝析油試驗(yàn)確定最佳的注入位置及注入量。但注入的凝析油回收效果差,大部分隨外輸氣進(jìn)入外輸管道。為能更好的解決天然氣中蠟、重?zé)N及苯類物質(zhì)造成的堵塞問題,通過HYSYS軟件建立脫蠟、脫苯工藝流程。通過模擬脫蠟脫苯工藝,可將天然氣中93%以上的苯和蠟脫除,可產(chǎn)16.64t/d粗苯,每年有2600萬的經(jīng)濟(jì)效益。綜合分析該脫蠟脫苯工藝,該工藝具有一定的經(jīng)濟(jì)價(jià)值與實(shí)用性。
[Abstract]:In recent years , the gas and hydrocarbon dew point in KS gas field has been studied by using HYSYS software . It is suggested that the low temperature separation condition is 6 . 9MPa and - 31.5 鈩,

本文編號(hào):1376014

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