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ZnSnN_2薄膜的制備與物理性能的研究

發(fā)布時間:2017-11-02 02:17

  本文關(guān)鍵詞:ZnSnN_2薄膜的制備與物理性能的研究


  更多相關(guān)文章: ZnSnN_2薄膜 磁控濺射 晶體結(jié)構(gòu) 光學(xué)性能 電學(xué)性能


【摘要】:ZnSnN_2是一種新型三元化合物半導(dǎo)體薄膜太陽能電池材料。與其它化合物太陽能電池薄膜材料相比,ZnSnN_2具有低廉的原料成本和無毒性等優(yōu)勢,非常適合大規(guī)模生產(chǎn)。然而目前文獻報道的ZnSnN_2均采用襯底加溫的方式在昂貴襯底上制備,在成本和能耗方面缺乏優(yōu)勢。另外關(guān)于ZnSnN_2光學(xué)性能和電學(xué)性能的報道非常少,缺乏系統(tǒng)的物理性能研究。本文通過大量實驗降低了ZnSnN_2的制備溫度和襯底要求,對制備參數(shù)進行了優(yōu)化,并對其光學(xué)和電學(xué)性能進行了系統(tǒng)研究。(1)采用磁控濺射方法分別在石英、玻璃、硅片及柔性的聚對苯二甲酸乙二酯(PET)襯底上實現(xiàn)了單一相ZnSnN_2多晶薄膜的室溫制備。通過研究工藝參數(shù)對ZnSnN_2薄膜晶體結(jié)構(gòu)的影響規(guī)律的研究,找到了制備單一相ZnSnN_2薄膜的優(yōu)化工藝參數(shù)。(2)通過橢偏儀和紫外-可見分光光度計對ZnSnN_2薄膜的光學(xué)性能進行了研究,采用洛倫茲模型擬合的方法獲得了ZnSnN_2薄膜重要的光學(xué)性能參數(shù),包括折射率、吸收系數(shù)、帶隙和透過率。與GaAs、Cd Te等光伏材料相比比ZnSnN_2薄膜具有較高的吸收系數(shù)。(3)對ZnSnN_2薄膜的電學(xué)性能進行了研究并通過其薄膜晶體管的性能研究對相關(guān)結(jié)果進行了驗證。所制備的ZnSnN_2薄膜表現(xiàn)為n型導(dǎo)電,其電子濃度在1017~1019cm-3可調(diào),最大遷移率為8.1 cm2/V·s。
【關(guān)鍵詞】:ZnSnN_2薄膜 磁控濺射 晶體結(jié)構(gòu) 光學(xué)性能 電學(xué)性能
【學(xué)位授予單位】:河北工業(yè)大學(xué)
【學(xué)位級別】:碩士
【學(xué)位授予年份】:2015
【分類號】:TB383.2
【目錄】:
  • 摘要5-6
  • abstract6-9
  • 第一章 緒論9-19
  • 1.1 引言9-10
  • 1.2 薄膜太陽能電池的發(fā)展現(xiàn)狀10-12
  • 1.2.1 硅基薄膜太陽能電池的發(fā)展現(xiàn)狀10-11
  • 1.2.2 化合物薄膜太陽能電池的發(fā)展現(xiàn)狀11-12
  • 1.3 Zn-IV-N_2族化合物的研究現(xiàn)狀12-18
  • 1.3.1 ZnGeN_2和ZnSiN_2的研究現(xiàn)狀13
  • 1.3.2 ZnSnN_2的研究現(xiàn)狀13-18
  • 1.4 本文主要研究內(nèi)容18-19
  • 第二章 實驗方案及性能測試表征技術(shù)19-29
  • 2.1 實驗方案19
  • 2.2 ZnSnN_2薄膜的制備設(shè)備19-22
  • 2.2.1 磁控濺射19-21
  • 2.2.2 管式退火爐21-22
  • 2.3 ZnSnN_2薄膜的表征技術(shù)22-29
  • 2.3.1 X射線衍射分析儀22-23
  • 2.3.2 橢偏測試儀23-25
  • 2.3.3 紫外-可見分光光度計25-26
  • 2.3.4 霍爾效應(yīng)測試儀26-29
  • 第三章 ZnSnN_2薄膜的制備及工藝優(yōu)化29-35
  • 3.1 實驗過程29-30
  • 3.1.1 準備工作29
  • 3.1.2 磁控濺射過程29
  • 3.1.3 后退火處理29-30
  • 3.2 ZnSnN_2薄膜制備工藝的優(yōu)化30-34
  • 3.2.1 襯底對ZnSnN_2薄膜結(jié)構(gòu)的影響32
  • 3.2.2 濺射功率對ZnSnN_2薄膜結(jié)構(gòu)的影響32-33
  • 3.2.3 工作氣壓對ZnSnN_2薄膜結(jié)構(gòu)的影響33-34
  • 3.3 本章小結(jié)34-35
  • 第四章 ZnSnN_2薄膜的光學(xué)性能35-47
  • 4.1 實驗過程35-36
  • 4.1.1 實驗步驟35
  • 4.1.2 實驗條件35-36
  • 4.2 橢偏儀分析ZnSnN_2薄膜的光學(xué)性能36-41
  • 4.3 紫外-可見分光光度計分析ZnSnN_2薄膜的光學(xué)性能41-45
  • 4.3.1 濺射功率對ZnSnN_2薄膜光學(xué)性能的影響41-43
  • 4.3.2 工作氣壓對ZnSnN_2薄膜光學(xué)性能的影響43-45
  • 4.4 本章小結(jié)45-47
  • 第五章 ZnSnN_2薄膜的電學(xué)性能47-53
  • 5.1 實驗過程47-48
  • 5.1.1 實驗步驟47-48
  • 5.1.2 實驗條件48
  • 5.2 ZnSnN_2薄膜的電學(xué)性能48-50
  • 5.2.1 濺射功率對ZnSnN_2薄膜電學(xué)性能的影響48-49
  • 5.2.2 工作氣壓對ZnSnN_2薄膜電學(xué)性能的影響49-50
  • 5.3 ZnSnN_2薄膜晶體管的性能50-51
  • 5.4 本章小結(jié)51-53
  • 第六章 結(jié)論53-55
  • 參考文獻55-59
  • 攻讀學(xué)位期間所取得的相關(guān)科研成果59-61
  • 致謝61-62

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