300nm GaN基半導(dǎo)體激光器結(jié)構(gòu)研究
本文選題:AlGaN 切入點(diǎn):Silvaco 出處:《鄭州大學(xué)》2017年碩士論文 論文類型:學(xué)位論文
【摘要】:G GaN基材料是Si、GaAs之后的第三代半導(dǎo)體材料,具有禁帶寬度大、電子遷移率高等特性,相關(guān)的合金材料屬于直接帶隙半導(dǎo)體,材料發(fā)光效率高,又因其禁帶寬度范圍約為0.7~6.2eV,包含了從可見光綠光、藍(lán)光、紫光到紫外光的寬波長范圍,適合用于制備光學(xué)器件。半導(dǎo)體激光器的器件結(jié)構(gòu)緊湊,可以在很小體積下實(shí)現(xiàn)激光激射,同時具有發(fā)光效率高、響應(yīng)速度快以及使用壽命長等特點(diǎn),在信息通信、激光顯示、水下探測、生物科學(xué)以及軍事領(lǐng)域如激光雷達(dá)等領(lǐng)域有廣泛的應(yīng)用。本文所研究的波長為300nm的GaN基半導(dǎo)體激光器屬于深紫外范圍,可以應(yīng)用在生物探測、醫(yī)療殺菌、導(dǎo)彈預(yù)警、衛(wèi)星加密通信等領(lǐng)域,具有很廣闊的應(yīng)用前景。本文簡述了半導(dǎo)體激光器的研究背景、應(yīng)用以及基本原理,建立了數(shù)值計算模型,用于研究器件結(jié)構(gòu)與特性的關(guān)系。。首先設(shè)計了具有簡單雙異質(zhì)結(jié)的300nm波長激光器結(jié)構(gòu)(結(jié)構(gòu)A),,仿真結(jié)果表明,該器件的閾值電流為1.092A,閾值電壓為6.052V,斜率效率為0.042W/A。但是,這種簡單結(jié)構(gòu)的激光器側(cè)模分布范圍大;因此,對結(jié)構(gòu)A進(jìn)行改進(jìn),增加了脊型結(jié)構(gòu)(結(jié)構(gòu)B),仿真結(jié)果表明,結(jié)構(gòu)B的光場側(cè)模分布比結(jié)構(gòu)A的情形更密集,,但閾值電壓提升了16%;為了提升激光器整體性能,引入了量子阱結(jié)構(gòu)(結(jié)構(gòu)C),仿真結(jié)果表明,與結(jié)構(gòu)B比較,結(jié)構(gòu)C的激光器閾值電流減少39.5%,斜率效率提升116.7%,整體性能比之前有較大提升;隨后引入電子阻擋層(結(jié)構(gòu)D)來提升激光器性能,與結(jié)構(gòu)C相比,結(jié)構(gòu)C的激光器結(jié)構(gòu)將斜率效率提升了19.8%;最后,使用組分漸變層設(shè)計(結(jié)構(gòu)E)進(jìn)一步提升激光器的性能指標(biāo),將閾值電流減少12.3%,斜率效率提升了15.6%;最終器件性能與剛開始相比閾值電流減少了44.6%,斜率效率提高了200%。上述結(jié)果表明了300nm GaN基半導(dǎo)體激光器器件結(jié)構(gòu)優(yōu)化在提高器件性能上的有效性。
[Abstract]:G GaN based material is the third generation semiconductor material after SiGAs. It has the characteristics of wide band gap and high electron mobility. The related alloy materials belong to direct band gap semiconductor, and the luminescence efficiency of the materials is high. Because of its wide band gap of 0.7 ~ 6.2eV, which includes a wide wavelength range from visible green light, blue light, ultraviolet light to ultraviolet light, it is suitable for fabrication of optical devices. Laser excitation can be achieved in a very small volume, with high luminous efficiency, fast response speed and long service life, etc., in information communication, laser display, underwater detection, Biological science and military fields such as lidar have a wide range of applications. The 300nm wavelength GaN semiconductor lasers studied in this paper belong to the deep ultraviolet range, can be used in biological detection, medical sterilization, missile early warning. In this paper, the research background, application and basic principle of semiconductor laser are briefly introduced, and the numerical calculation model is established. The structure of 300nm wavelength laser with simple double heterojunction is designed. The simulation results show that the threshold current of the device is 1.092 A, the threshold voltage is 6.052 V, and the slope efficiency is 0.042 W / A. The laser with simple structure has a wide range of side mode distribution, therefore, the structure A is improved to increase the ridge structure (structure BX), and the simulation results show that, The light field side-mode distribution of structure B is denser than that of structure A, but the threshold voltage is increased by 16. In order to improve the overall performance of the laser, a quantum well structure is introduced. The threshold current of structure C laser is reduced by 39.5%, the slope efficiency is increased by 116.7%, and the overall performance is greatly improved than before, and then the electronic barrier layer (structure D) is introduced to improve the performance of the laser, compared with the structure C. The laser structure of structure C improves the slope efficiency by 19.8. finally, the performance index of the laser is further improved by using the component gradient layer design (structure E). By reducing the threshold current by 12. 3, the slope efficiency has been increased by 15. 6. The final device performance has been reduced by 44. 6 compared with the beginning, and the slope efficiency has been improved by 200. The above results show that the structure optimization of 300nm GaN-based semiconductor laser device is improving the device structure. Effectiveness of part performance.
【學(xué)位授予單位】:鄭州大學(xué)
【學(xué)位級別】:碩士
【學(xué)位授予年份】:2017
【分類號】:TN248.4
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本文編號:1594284
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