石墨烯(Graphene,GR)自從2004年被發(fā)現(xiàn)以來(lái),因其理想的二維晶體結(jié)構(gòu)和獨(dú)特的物理性能而成為研究的熱點(diǎn)。目前,石墨烯的制備方法主要有:微機(jī)械剝離法、化學(xué)氣相沉積法、外延生長(zhǎng)法、氧化石墨烯(Graphene Oxide,GO)溶液還原法。與其它方法相比,氧化石墨烯溶液還原法具有高產(chǎn)量、低成本和可規(guī)�；苽涞忍攸c(diǎn),有望成為規(guī)�；苽涫┑挠行緩街�。然而在還原過(guò)程中常采用的還原劑肼和水合肼具有易爆炸性和強(qiáng)毒性,易對(duì)環(huán)境造成危害。因此,需要發(fā)現(xiàn)一種環(huán)境友好、溫和且有效的方法來(lái)實(shí)現(xiàn)化學(xué)還原氧化石墨烯(Chemically Reduced Graphene Oxide,CRGO)的批量制備。氧化鋅(ZnO)因其無(wú)毒、成本低等優(yōu)點(diǎn)被廣泛應(yīng)用于光催化的研究。氧化鋅光催化劑光生電子-空穴對(duì)的快速?gòu)?fù)合是氧化鋅光催化性能的主要限制因素之一,而石墨烯歸因于其良好的電子傳輸性能和巨大的比表面積,使其成為氧化鋅復(fù)合改性的理想材料。本論文的研究?jī)?nèi)容及結(jié)果如下:(1)通過(guò)簡(jiǎn)化的Hummers法,改進(jìn)的Hummers法,加壓氧化法三種不同方法制備出了氧化石墨烯。利用X射線(xiàn)衍射(XRD)、X射線(xiàn)光電子能譜...

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【學(xué)位級(jí)別】：碩士

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