納米多孔結(jié)構(gòu)鎳基復(fù)合膜電極的電化學(xué)法制備及其贗電容性能
【圖文】:
在于柱狀顆粒的中心,而富鎳相則位于富銅相的四周。在0.5V的陽極電位下,,銅核發(fā)生陽極溶解,而鎳殼因鈍化得以保留,于是形成了多孔鎳膜【”,’2],孔徑大小為80一 250nm。圖3.2(c)為多孔鎳沉積氫氧化鎳后的形貌,多孔鎳的孔徑明顯減小,表明氫氧化鎳沿著孔壁生長,形成Ni(oH)2一Ni包覆型結(jié)構(gòu)。圖3.3顯示的是電極制備過程中的XRD譜圖。圖33(a)中出現(xiàn)Ni和Cu的(川)、(200)和(220)晶面 (pDFNo.04一0850,No.04一0836),形成非同質(zhì)Ni相和Cu相〔”]。圖3.3(b)中,20為43.50、50.60和74.50的eu的特征衍射峰消失,表明在合金一去合金化形成多孔鎳過程中銅基本溶解。Ze為44.50的尖銳的衍射峰為Ni的(ln)晶面。在多孔鎳上沉積氫氧化鎳后,圖3.3(c)中20=340為a一Ni(0H):的特征峰 (pDFNo.38一0715)
第三章多孔鎳基體上沉積Ni(OH)2及其電容性能圖3.4為Ni(oH)2一Ni電極與多孔鎳基體在10mv·s一,下的循環(huán)伏知,在0.44v和0.23v一對較強(qiáng)的氧化還原峰對應(yīng)著Ni2+和N反應(yīng)方程式砂4,15]:Ni(OH)2+OH一++NiooH+HZo+e一中可以看出,Ni(OH)2一Ni電極比容量主要來源于Ni(OH)2在多孔還原反應(yīng),多孔鎳的貢獻(xiàn)比較小,其氧化還原峰是由于在循環(huán)伏面發(fā)生氧化所致。
【學(xué)位授予單位】:浙江大學(xué)
【學(xué)位級別】:碩士
【學(xué)位授予年份】:2011
【分類號】:TM53
【參考文獻(xiàn)】
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本文編號:2525897
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