本文選題：Al_xCoCrFeNi高熵合金薄膜　切入點(diǎn)：微觀組織　出處：《功能材料》2017年06期

【摘要】：利用磁控濺射工藝制備了不同Al含量的(0~20%(原子分?jǐn)?shù)))AlCoCrFeNi高熵合金薄膜,研究了Al含量對(duì)AlCoCrFeNi高熵合金薄膜微觀結(jié)構(gòu)和力學(xué)性能的影響。結(jié)果表明,Al元素的加入,使得原CoCrFeNi四元合金薄膜中的(200)峰消失,Al_xCoCrFeNi薄膜呈現(xiàn)出(111)晶面的擇優(yōu)生長(zhǎng)取向。Al_xCoCrFeNi合金薄膜形成了面心立方單一均勻的固溶體。Al元素的加入起到了固溶強(qiáng)化的作用,使Al_xCoCrFeNi薄膜硬度相對(duì)于CoCrFeNi合金薄膜整體提高了1~2GPa。當(dāng)Al含量為0.8時(shí),薄膜的柱狀晶寬度達(dá)到最小,Al_(0.8)CoCrFeNi薄膜在Hall-Petch關(guān)系作用下硬度顯著增加,達(dá)到最大值18.7GPa。
[Abstract]:AlCoCrFeNi high entropy alloy thin films with different Al content were prepared by magnetron sputtering. The effects of Al content on the microstructure and mechanical properties of AlCoCrFeNi high entropy alloy films were studied. The peak of Al _ XCoCrFeNi film disappeared from the original CoCrFeNi quaternary alloy thin film. The preferred growth orientation of Al _ xCoCrFe _ Ni thin film was presented. The Al _ xCoCrFe _ Ni alloy film formed a single solid solution with a uniform face-centered cube. The addition of Al element played a role of solution strengthening. The hardness of Al_xCoCrFeNi film is increased by 1 ~ 2 GPA compared with that of CoCrFeNi alloy film as a whole. When Al content is 0. 8, the columnar crystal width of Al_xCoCrFeNi film reaches the minimum value. The hardness of CoCrFeNi thin film increases significantly under the action of Hall-Petch, reaching the maximum value of 18.7 GPa.
【作者單位】： 上海理工大學(xué)材料科學(xué)與工程學(xué)院;
【基金】：國(guó)家自然科學(xué)基金資助項(xiàng)目(51471110)
【分類號(hào)】：TB383.2;TG139

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本文編號(hào)：1673624