發(fā)布時(shí)間：2023-10-12 00:42

　　曲米色布巖畫是曲龍遺址首次發(fā)現(xiàn)的巖畫點(diǎn),可分為四期四段。該巖畫是曲龍遺址的重要組成部分,分析其分期問題有助于進(jìn)一步確認(rèn)曲龍遺址和西藏巖畫分期。文章從典型圖像分析等方面指出,曲米色布巖畫點(diǎn)系曲龍遺址目前發(fā)現(xiàn)的唯一巖畫遺存,其時(shí)代從公元前后延續(xù)至明清時(shí)期,與遺址區(qū)內(nèi)的其他遺存共同組成了曲龍遺址考古遺存的完整框架,是進(jìn)一步研究遺址文化因素、分期等的依據(jù)。

【文章頁(yè)數(shù)】：7 頁(yè)

【文章目錄】：
一、典型圖像分析
    （一）Y1，巖面有剝落形成的折棱，不甚平整，下部有一道裂縫。
    （二）Y2，巖面較為平整。
    （三）Y4，巖面左側(cè)較為平整，右側(cè)起伏不平。
    （四）Y5，巖面有剝落形成的折棱，不甚平整，左上角已折斷。
    （五）Y7，巖面較為平整，右側(cè)有一道裂縫。
    （六）Y8，巖面平整。
    （七）Y10，巖面平整，右側(cè)有裂縫。
    （八）Y11，巖面較為平整，有數(shù)道裂縫。
    （九）Y12，巖面不甚平整，有五道裂縫。
    （十）Y13，巖面較為平整。
    （十一）Y14，巖面不甚平整。
    （十二）Y15，巖面較為平整，有數(shù)道裂縫。
    （十三）Y16，巖面整體較平整，布滿橫向或斜向白色紋理線。
    （十四）Y17，巖面不甚平整，有一道裂縫，可辨兩組藏文。
    （十五）Y18，巖面較為平整，周圍有大裂縫，表面有較小的裂縫。
    （十六）Y23，巖面較為平整，巖面中部開裂，僅1個(gè)圖像。
    （十七）Y24，巖面平整，僅1個(gè)圖像。
    （十八）Y27，巖面較為平整，下部有一道裂縫。
    （十九）Y29，巖面較為平整，右下側(cè)有數(shù)道裂縫，僅1個(gè)圖像。
    （二十）第32組巖畫，巖面平整。
    （二十一）第33組巖畫，巖面平整，巖面中部有兩道裂縫。
    （二十二）Y34，巖面平整，右下側(cè)有裂縫。
二、圖像特征與年代分析
三、對(duì)比研究與分期
四、結(jié)語(yǔ)



本文編號(hào)：3853107