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原位反應(yīng)生產(chǎn)新型細(xì)化劑AlTiBRE的凈化處理關(guān)鍵技術(shù)研究

發(fā)布時(shí)間:2022-11-07 17:44
  本文針對(duì)實(shí)際生產(chǎn)過程中原位反應(yīng)制備新型AlTiBRE中間合金細(xì)化劑中細(xì)化相的分布不容易均勻,以及細(xì)化劑本身的冶金缺陷較多、潔凈度不高,易導(dǎo)致細(xì)化處理時(shí)鋁熔體的二次污染等而直接影響到該細(xì)化劑的生產(chǎn)應(yīng)用等難題,在前期研究的基礎(chǔ)上,通過比較試驗(yàn)及現(xiàn)代分析測(cè)試技術(shù)(OM、SEM、EDAX、XRD等)設(shè)計(jì)出適用于原位反應(yīng)制備新型AlTiBRE中間合金細(xì)化劑的高效排雜凈化的關(guān)鍵工藝技術(shù),并且應(yīng)用于該細(xì)化劑的實(shí)際生產(chǎn)中,進(jìn)行了純凈化處理試驗(yàn),制備出一種質(zhì)量較優(yōu)異的新型A15TilB0.5RE細(xì)化劑產(chǎn)品,并將其應(yīng)用于鋁合金材料的晶粒細(xì)化處理,進(jìn)一步探討了其細(xì)化作用和效果。獲得的主要研究結(jié)果如下:(1)設(shè)計(jì)了四種排雜凈化熔劑(代號(hào)CJ1、CJ2、CJ5、CJ6)對(duì)原位反應(yīng)制備新型A15Ti1B0.5RE中間合金細(xì)化劑進(jìn)行了凈化處理,表明排雜熔劑CJ5的組元配比恰當(dāng),其排雜率可達(dá)82.8%。CJ5熔劑的處理效果好的主要原因在于:熔點(diǎn)明顯低于常規(guī)熔劑,且比其它3種排雜熔劑也低,僅為601.0℃。因此在相同的處理溫度下,過熱度更大且粘度較小,流動(dòng)性較好,有利于夾雜向熔劑中擴(kuò)散遷移,排雜動(dòng)力學(xué)條件得到明顯改善,... 

【文章頁(yè)數(shù)】:75 頁(yè)

【學(xué)位級(jí)別】:碩士

【部分圖文】:

原位反應(yīng)生產(chǎn)新型細(xì)化劑AlTiBRE的凈化處理關(guān)鍵技術(shù)研究


圖2-1工廠生產(chǎn)使用的反箭爐和巧巧電阻爐??(a)反射爐(b)謝巧電阻爐??

原位反應(yīng)生產(chǎn)新型細(xì)化劑AlTiBRE的凈化處理關(guān)鍵技術(shù)研究


圖2-3工廠生產(chǎn)的鑄模生產(chǎn)線及生產(chǎn)出的細(xì)化劑產(chǎn)品??(a)工廠鑄模生產(chǎn)線(b)生產(chǎn)出的細(xì)化劑產(chǎn)品??2.?2成分分析及物相確定??

原位反應(yīng)生產(chǎn)新型細(xì)化劑AlTiBRE的凈化處理關(guān)鍵技術(shù)研究


圖3-1不同烙劑凈化處理的A15THB0.5RE中間合金金相組織形貌(OM,x;l〇〇,拋光態(tài))??腳未凈化,明場(chǎng)作)未凈化,暗場(chǎng)似CJ1烙劑處理,明場(chǎng)(d)CJl烙劑處理,暗場(chǎng)(e)CJ2烙劑,明場(chǎng)??(f)C口烙劑處理,暗場(chǎng)(g)CJ5燒劑,明場(chǎng)(h)CJ5烙劑,暗場(chǎng)y)CJ6烙劑,明場(chǎng)化CJ6烙劑,暗場(chǎng)??由圖3-1可見,未凈化處理時(shí)夾雜呈粗大塊狀,且聚集成團(tuán),在暗場(chǎng)條件下可觀察到??,

【參考文獻(xiàn)】:
期刊論文
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碩士論文
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[3]鋁合金低環(huán)境負(fù)荷的高效排雜熔劑及凈化效果研究[D]. 胡星曄.福州大學(xué) 2006
[4]鋁熔體電熔劑凈化工藝的研究[D]. 李文鳳.蘭州理工大學(xué) 2004



本文編號(hào):3704122

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