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電解工藝參數(shù)對氧化鋁溶解的影響及優(yōu)化(英文)

發(fā)布時間:2021-03-07 14:23
  采用Box-Behnken設(shè)計和滿意度函數(shù)法研究和優(yōu)化與氧化鋁溶解有關(guān)的鋁電解工藝參數(shù)。選擇電解質(zhì)溫度、氧化鋁含量、電流和氧化鋁溫度作為影響參數(shù),采用氧化鋁累積溶解含量(CCDA)和相對偏離目標(biāo)含量(RDTC)作為響應(yīng)值。交互影響研究結(jié)果表明:增加電解質(zhì)溫度和氧化鋁溫度,以及降低氧化鋁含量可以提高CCDA;提高電解質(zhì)溫度和降低電流有利于氧化鋁分布更加均勻。最優(yōu)的工藝條件為:電解質(zhì)溫度958.8℃、氧化鋁含量2.679%(質(zhì)量分數(shù))、電流300 kA以及氧化鋁溫度200℃。 

【文章來源】:Transactions of Nonferrous Metals Society of China. 2020,30(12)

【文章頁數(shù)】:14 頁

【參考文獻】:
期刊論文
[1]KF-Al F3-Al2O3熔體和懸浮液中Cu-Al合金的陽極過程(英文)[J]. Sai Krishna PADAMATA,Andrey S.YASINSKIY,Petr V.POLYAKOV.  Transactions of Nonferrous Metals Society of China. 2020(05)
[2]鋁電解槽不同投料量下氧化鋁溶解的模擬及其溫度響應(yīng)(英文)[J]. 李斯昀,李茂,侯文淵,李賀松,程本軍.  Journal of Central South University. 2019(08)
[3]300 kA鋁電解槽中氧化鋁顆粒的溶解模擬[J]. 李茂,高玉婷,白曉,李遠,侯文淵,王玉潔.  中國有色金屬學(xué)報. 2017(08)



本文編號:3069267

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