KR機(jī)械攪拌頭溫度場(chǎng)數(shù)值模擬
【學(xué)位授予單位】:沈陽(yáng)理工大學(xué)
【學(xué)位級(jí)別】:碩士
【學(xué)位授予年份】:2016
【分類(lèi)號(hào)】:TF704.3
【圖文】:
圖 1.1 KR 脫硫攪拌頭模型及實(shí)際工件圖Fig1.1 KR mechanical stirrer model and actual artifacts圖 1.2 中渦流形成的拋物面的 AOA 部分即固體回轉(zhuǎn)部,是流體動(dòng)力學(xué)性能差的不均勻混合區(qū),即強(qiáng)制渦流區(qū)。在該區(qū)域內(nèi),流體與攪拌槳旋轉(zhuǎn)速度接近,液體微元間幾乎無(wú)相對(duì)運(yùn)動(dòng)。該區(qū)域內(nèi)從軸線向外,流體微元旋轉(zhuǎn)的速率隨微元和軸線 OC 距離增加而成增大。 AOA 部外側(cè)是自由渦流區(qū)。自由渦流區(qū)符合雙曲線液面,圖中AB和 AB 是雙曲線形狀[6],在該區(qū)域,金屬液體微元的徑向流速隨微元和軸線 OC 的距離增大而減小。由于流體會(huì)受到攪拌頭旋轉(zhuǎn)的作用,器壁附近
圖 1.1 KR 脫硫攪拌頭模型及實(shí)際工件圖Fig1.1 KR mechanical stirrer model and actual artifacts圖 1.2 中渦流形成的拋物面的 AOA 部分即固體回轉(zhuǎn)部,是流體動(dòng)力學(xué)性能差的不均勻混合區(qū),即強(qiáng)制渦流區(qū)。在該區(qū)域內(nèi),流體與攪拌槳旋轉(zhuǎn)速度接近,液體微元間幾乎無(wú)相對(duì)運(yùn)動(dòng)。該區(qū)域內(nèi)從軸線向外,流體微元旋轉(zhuǎn)的速率隨微元和軸線 OC 距離增加而成增大。 AOA 部外側(cè)是自由渦流區(qū)。自由渦流區(qū)符合雙曲線液面,圖中AB和 AB 是雙曲線形狀[6],在該區(qū)域,金屬液體微元的徑向流速隨微元和軸線 OC 的距離增大而減小。由于流體會(huì)受到攪拌頭旋轉(zhuǎn)的作用,器壁附近
圖 1.1 KR 脫硫攪拌頭模型及實(shí)際工件圖Fig1.1 KR mechanical stirrer model and actual artifacts圖 1.2 中渦流形成的拋物面的 AOA 部分即固體回轉(zhuǎn)部,是流體動(dòng)力學(xué)性能差的不均勻混合區(qū),即強(qiáng)制渦流區(qū)。在該區(qū)域內(nèi),流體與攪拌槳旋轉(zhuǎn)速度接近,液體微元間幾乎無(wú)相對(duì)運(yùn)動(dòng)。該區(qū)域內(nèi)從軸線向外,流體微元旋轉(zhuǎn)的速率隨微元和軸線 OC 距離增加而成增大。 AOA 部外側(cè)是自由渦流區(qū)。自由渦流區(qū)符合雙曲線液面,圖中AB和 AB 是雙曲線形狀[6],在該區(qū)域,金屬液體微元的徑向流速隨微元和軸線 OC 的距離增大而減小。由于流體會(huì)受到攪拌頭旋轉(zhuǎn)的作用,器壁附近
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本文編號(hào):2744294
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