光譜選擇性吸收涂層是提高太陽能光熱轉換效率的核心部分,其在太陽光能量集中的光譜波段保持較高吸收率,同時擁有較低的紅外發(fā)射率,即減少自身向外輻射的能量.選用直流-射頻磁控濺射鍍膜的方法,在拋光的316L不銹鋼基片上制備了以金屬Mo為紅外反射層,Mo-Al₂O₃為吸收層,Al₂O₃為減反射層的Mo/Mo-Al₂O₃/Al₂O₃選擇吸收膜系,并對其進行大氣中400℃退火處理,分析其熱穩(wěn)定性和選擇吸收性能的衰減機理.通過實驗優(yōu)化,具有雙吸收層結構的選擇吸收膜系具有最優(yōu)的選擇吸收性能,吸收率為0.922,發(fā)射率為0.029.所制備的薄膜表面平整致密,無明顯的大顆粒缺陷.對優(yōu)選制備參數下的選擇吸收膜系進行退火處理,結果表明退火后選擇性吸收膜系的發(fā)射率上升約1.6%,膜系的反射率極小值的位置與退火前無明顯變化,反射率驟升閾值均發(fā)生藍移.利用拉曼光譜對太陽能選擇性吸收膜系的高溫熱穩(wěn)定性進行分析,當退火時間為1、3h時,開始出現(xiàn)了...

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【文章目錄】：
1 選擇性吸收涂層的工作原理與制備方法
    1.1 選擇性吸收涂層的工作原理與設計
    1.2 薄膜的制備與表征方法
2 實驗結果與討論
    2.1 結構優(yōu)化
    2.2 選擇吸收涂層的熱穩(wěn)定性分析
        2.2.1 Mo-Al2O3選擇性吸收膜系的退火處理及表征
        2.2.2 退火后Mo-Al2O3選擇性吸收膜系的光學性能分析
        2.2.3 退火后Mo-Al2O3選擇性吸收膜系的拉曼光譜測試
3 結論



本文編號：4011316