新型中高溫太陽能選擇性吸收涂層的制備與研究
發(fā)布時間:2024-11-03 00:52
自20世紀50年代以來,太陽光譜選擇性吸收涂層的研制一直是太陽能光熱利用技術領域中一項十分活躍的研究課題,國內外眾多學者在涂層的材料選擇、結構設計及制備工藝方面做出了大量的工作,一系列的涂層體系已被研制出來。然而,這些涂層都存在各自的不足之處,難以實現(xiàn)中高溫條件下的工業(yè)實際應用。因此,需要綜合考慮各方面的因素,尋求一種新的工藝與新的材料體系,研制一種中高溫性能穩(wěn)定,能夠大面積工業(yè)化生產,制備成本較低的新型光譜選擇性吸收涂層,以促進我國太陽能光熱技術的發(fā)展。 本文采用等離子噴涂(APS)工藝制備了Ni-NiO-Al2O3金屬陶瓷型選擇性吸收涂層,采用超音速火焰噴涂(HVOF)工藝制備了Ni-Mo金屬型選擇性吸收涂層,并以溶膠-凝膠薄膜技術為輔助方法,制備得到SnO2/Ni-NiO-Al2O3、Al2O3/Ni-Mo復合涂層。應用XRD、SEM、EDS、分光光度計、紅外光譜儀等測試手段對涂層和復合粉末的組成、結構、形貌及性能進行了表征與分析,主要研究了涂層的表面形貌、組分比例、表面處理及熱處理對其光譜選擇性吸收性能的影響。 研究結果表明,Ni-NiO-Al2O3涂層呈變形顆粒堆疊...
【文章頁數(shù)】:73 頁
【學位級別】:碩士
【部分圖文】:
本文編號:4010422
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【學位級別】:碩士
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叭(l一8)式中,B(凡T)是方程式(l.1)中給出的黑體的光譜輻射密度。由圖1一1可知,物體在較低溫度下發(fā)射的輻射流分布在紅外區(qū),此時入1、入:分別為2.5林m和50林m。黑體為完全的輻射體,其鱺<sup>rr</sup>為1,對于實際物體則在。到1之間。由圖1一1可知,太陽....
可借鑒Roos.A等人149一5’]的研究,考慮以具有紅外反射功能的sn02選擇性透過薄膜做為減反層,不僅可以改善涂層的光學性能,還有利于提高涂層的耐溫性與耐候性。實驗所設計的復合涂層的結構示意圖見圖2一1。二}一SnoZ薄膜Ni一NIO一A12o3涂層金屬基底圖2一1復合涂層結....
圖2一3復合粉末的SEM圖Fig.2一3SEMimagesofeomPositePowder經噴霧干燥工藝制備的Ni一iO一A12O3復合粉末的典型形貌如圖2一3所示。從低倍照片2一3a可見,復合粉末幾乎均呈球狀,球形度較好,只有少數(shù)粉末呈不規(guī)則的破碎、零散狀,表明該粉末....
2.4.2涂層的結構表征與性能分析2.4.2.1涂層的XRD分析圖2一5為l#涂層及1號粉末的xRD圖譜。由該圖可知,復合粉末中主要含有金屬Ni、NIO及A120:三相,其中Ni的三強峰峰型尖銳,由其晶面指數(shù)判斷其為面心立方結構,A12O3為a六方晶型,但其衍射峰強度相對較弱,是....
本文編號:4010422
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