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中高溫太陽能選擇性吸收薄膜的研究

發(fā)布時(shí)間:2020-04-04 06:07
【摘要】:近年來,太陽熱能作為一種清潔的新能源收到了越來越多的關(guān)注,在太陽熱能利用中的關(guān)鍵器件是集熱器,而太陽能選擇性吸收薄膜是集熱器高效吸收太陽能的關(guān)鍵技術(shù)之一。由于太陽能選擇性吸收薄膜的工作溫度一般會在200℃以上,因此提高吸收薄膜的工作溫度變得尤為重要。本文研究在中高溫(200℃~500℃)下太陽能選擇性吸收薄膜的吸收率α和發(fā)射率£。本文研究了太陽能選擇性吸收薄膜的吸收原理、膜系結(jié)構(gòu)、材料選擇和制備工藝。主要利用有效介質(zhì)理論研究金屬陶瓷薄膜的光學(xué)常數(shù),進(jìn)行了選擇性吸收薄膜的膜系設(shè)計(jì),直流磁控濺射技術(shù)制備選擇性吸收薄膜。在用有效介質(zhì)理論研究金屬陶瓷時(shí),討論了當(dāng)金屬填充因子不同時(shí)Maxwell-Garnett理論和Bruggeman理論計(jì)算金屬陶瓷的光學(xué)常數(shù),并對兩種材料復(fù)合金屬陶瓷和三種材料復(fù)合金屬陶瓷的光學(xué)常數(shù)進(jìn)行了計(jì)算。利用TFC軟件分別設(shè)計(jì)了金屬陶瓷型和多層結(jié)構(gòu)型選擇性吸收薄膜的膜系,通過對吸收率α和發(fā)射率ε的計(jì)算表明,設(shè)計(jì)結(jié)果均達(dá)到預(yù)期效果。采用JGP500型高真空多功能磁控濺射設(shè)備,獲得制備Al2O3和Mo單層膜的工藝參數(shù),并通過橢偏儀測試了Mo和Al2O3兩種材料的光學(xué)常數(shù)。制備了Mo-Al2O3六層結(jié)構(gòu)型太陽能選擇性吸收薄膜,經(jīng)過測試和計(jì)算表明,該吸收薄膜在常溫下的吸收率α≥95%,在300℃時(shí)發(fā)射率ε≤12%。
【圖文】:

中高溫太陽能選擇性吸收薄膜的研究


對BruQgeman理論進(jìn)行編程

有效介質(zhì),軟件,理論公式,計(jì)算式


利用Matbb軟件對Bruggeman理論進(jìn)行編寫,通過軟件的計(jì)算式(2.8)發(fā)現(xiàn)逡逑當(dāng)計(jì)算兩種材料時(shí),Bruggeman理論公式存在兩個(gè)解,則在編程時(shí)需要增加一個(gè)逡逑取值的程序,如圖2.1所示。逡逑執(zhí)邋£曲王exi邋必邐De|iug邋Qe?tdop邋JS^ndow邋ilefp邐?逡逑。cJl挘村澹ィ灣澹澹皺澹媯澹叔�?拉莻悌香皆史k窩久紓椋墼恚牛冢礻蹋懾危渝義�?图塌邋i邋-邋1-0逦+邋^邋+邋Ll邋Ud澹劐澹∏汕�!邋b徫'邋J.辶x稀鰣澹翦澹媯酰睿悖簦椋錚睢荊鑠澹耄戾澹螅攏潁眨睿幔�,:;」!辶x希插澹澹哄澹耍紓�?-ka*iUd螀澹�?'!辶x希場澹誨澹耍猓劍睿桑齲簦猓睿危剩潁浚鴕豢矍桑劍�?**巧傞晰+巧姓廁强橗芋巧菓匚;悛辶x希鈴澹澹�,,7w螅粒嬌郟垮澹危懾義希靛澹澹В悖穡螅擔(dān)窖校觶浚誨危赍危у義希跺澹吻杉茫潁於�,?"巧s�(dān)常媯浚潁殄�?'巧sA-巧s�(dān)荊殄�,.0*傖-}�?'巧sA-巧证GG汕�,..三+血巧s�

本文編號:2613861

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